電子發(fā)燒友網(wǎng)報道(文/梁浩斌)數(shù)據(jù)中心在近年AI的浪潮中得到極大的發(fā)展,算力需求的膨脹帶動全球數(shù)據(jù)中心建設規(guī)模呈現(xiàn)爆發(fā)式增長。而在數(shù)據(jù)中心數(shù)量增長的同時,也面臨著能源問題。
如今大模型等AI應用對算力的需求,推動了AI芯片算力不斷提高,與此同時帶來的是越來越高的功耗。單顆算力芯片的功耗,從過去的300W左右提升至如今的1000W,大功率AI芯片給數(shù)據(jù)中心帶來了更高的電源要求。
所以在英偉達等廠商在積極提高AI芯片算力的同時,另一方面也需要在數(shù)據(jù)中心PSU(電源供應單元)方面進行升級,以應對越來越高的系統(tǒng)功耗。
數(shù)據(jù)中心能耗效率成優(yōu)化重點
根據(jù)不完全統(tǒng)計,目前全球范圍內,正在建設以及處于規(guī)劃階段的數(shù)據(jù)中心就已經(jīng)有超過7000個,是2015年的2倍。如此大規(guī)模的數(shù)據(jù)中心,實際上已經(jīng)占到全球電力總消耗的1%以上。
要如何提高數(shù)據(jù)中心的能源使用效率,降低能耗,首先要看數(shù)據(jù)中心的能耗結構。數(shù)據(jù)中心的能耗主要來自幾大部分,一是核心的計算部分,包括主板上的CPU、加速卡、存儲等各種器件;二是為機房提供恒溫恒濕的精密空調,以及機柜上的各種散熱風扇;三是供配電系統(tǒng),包括機柜內的電源PSU、配電柜、不間斷電源UPS等。
當然,在AI加速卡上,芯片可以通過制程工藝以及架構的改進,提高能耗比,用相同的能耗做到更高的算力。而另一方面,數(shù)據(jù)中心的配電系統(tǒng),包括PSU等,同樣是能耗浪費的重災區(qū)。
因為處理一個AI應用請求,能量需要經(jīng)過四次轉換,可能導致約12%的能量損耗。這與數(shù)據(jù)中心電源的功率轉換效率較為相關,比如目前80Plus白金標準的服務器電源,在20%輕載和滿載下的額定輸出時的轉換效率達到89%以上,50%典型負載下達到92%。
不過面對功率更大的AI算力卡需求,PSU需要在盡可能小的體積內,提高功率輸出能力,同時提高轉換效率。
采用第三代半導體的服務器PSU方案
由于更高的功率密度、更高的轉換效率需求,使得碳化硅、氮化鎵等第三代半導體器件有充足的推動力進入數(shù)據(jù)中心電源領域。傳統(tǒng)硅基半導體由于自身物理性質受限 ,不適合在高溫、高壓、高頻、高功率等領域使用,于是砷化鎵、碳化硅、氮化鎵等化合物半導體也因此應運而生。
以碳化硅為例,其耐高壓能力是硅的10倍、耐高溫能力是硅的2倍、高頻能力是硅的2倍。與硅基模塊相比,碳化硅二極管及開關管組成的模塊(全碳模塊),不僅具有碳化硅材料本征特性優(yōu)勢,在應用時還可以縮小模塊體積50%以上、消減電子轉換損耗80%以上。在系統(tǒng)設計中可以簡化散熱系統(tǒng),降低熱預算,同時減小電容電感體積,從而降低系統(tǒng)綜合成本。
所以近年來,功率半導體廠商都陸續(xù)推出基于碳化硅或氮化鎵器件的一些數(shù)據(jù)中心PSU方案。
比如英飛凌此前公布的AI數(shù)據(jù)中心PSU產品路線圖,英飛凌在高功率的PSU中趨向使用混合開關的方案,即同時采用硅、SiC、GaN等功率開關管。
其中3kW的PSU方案中,英飛凌采用coolSiC MOSFET 650V和600V cool MOS 超結MOS器件,以及CoolSiC的無橋圖騰柱PFC,集成CoolMOS和OptiMOS的半橋LLC,可以達到97.5%的峰值效率。
在3kW以上,從3.3kW到未來的12kW,英飛凌就使用硅、SiC、GaN開關的混合方案,采用CoolSiC、CoolGaN、CoolMOS、OptiMOS和實現(xiàn)最高效率和功率密度的技術,基準效率為97.5%,功率密度達到95W每英寸立方。
今年6月安森美推出了基于T10 PowerTrench系列和EliteSiC 650V器件的數(shù)據(jù)中心電源解決方案。EliteSiC 650V MOSFET提供了卓越的開關性能和更低的器件電容,可在數(shù)據(jù)中心和儲能系統(tǒng)中實現(xiàn)更高的效率。
與上一代產品相比,新一代碳化硅MOSFET的柵極電荷減半,并且將儲存在輸出電容(Eoss)和輸出電荷(Qoss)中的能量均減少了44%。與超級結MOSFET相比,它們在關斷時沒有拖尾電流,在高溫下性能優(yōu)越,能顯著降低開關損耗。采用該方案,安森美宣稱數(shù)據(jù)中心能夠減少約1%的電力損耗。
納微半導體近期也推出了一款新的4.5kW AI數(shù)據(jù)中心電源參考設計,同樣是采用了氮化鎵和碳化硅器件,包括優(yōu)化的GaNSafe?和Gen-3“Fast”(G3F) SiC功率組件,利用SiC的交錯式連續(xù)導通模式(CCM)圖騰柱功率因數(shù)校正 (PFC),并結合采用GaN的全橋LLC拓撲。
這種設計結合了不同器件的優(yōu)勢,在CCM TP-PFC中采用SiC,在300kHz LLC中采用GaN,能夠實現(xiàn)137W/in3 的功率密度和超過97%的效率。
英諾賽科去年推出了一款2kW PSU服務器電源方案,符合80 Plus鈦金級,采用圖騰柱無橋PFC+LLC結構,前端為AC-DC無橋圖騰柱PFC,后端為DC-DC隔離全橋LLC轉換器。PFC 慢橋臂采用2顆INN650TA030AH(650V/30mΩ),PFC快橋臂采用2顆INN650TA070AH(650V/70mΩ),LLC橋臂采用4顆INN650D080BS(650V/80mΩ)。
該電源方案峰值效率高達96.5%,最高功率密度達76W/in3。
小結:
數(shù)據(jù)中心PSU已經(jīng)成為各大功率半導體廠商的重點關注市場,而隨著AI數(shù)據(jù)中心需求,第三代半導體導入正在持續(xù)加速。
如今大模型等AI應用對算力的需求,推動了AI芯片算力不斷提高,與此同時帶來的是越來越高的功耗。單顆算力芯片的功耗,從過去的300W左右提升至如今的1000W,大功率AI芯片給數(shù)據(jù)中心帶來了更高的電源要求。
所以在英偉達等廠商在積極提高AI芯片算力的同時,另一方面也需要在數(shù)據(jù)中心PSU(電源供應單元)方面進行升級,以應對越來越高的系統(tǒng)功耗。
數(shù)據(jù)中心能耗效率成優(yōu)化重點
根據(jù)不完全統(tǒng)計,目前全球范圍內,正在建設以及處于規(guī)劃階段的數(shù)據(jù)中心就已經(jīng)有超過7000個,是2015年的2倍。如此大規(guī)模的數(shù)據(jù)中心,實際上已經(jīng)占到全球電力總消耗的1%以上。
要如何提高數(shù)據(jù)中心的能源使用效率,降低能耗,首先要看數(shù)據(jù)中心的能耗結構。數(shù)據(jù)中心的能耗主要來自幾大部分,一是核心的計算部分,包括主板上的CPU、加速卡、存儲等各種器件;二是為機房提供恒溫恒濕的精密空調,以及機柜上的各種散熱風扇;三是供配電系統(tǒng),包括機柜內的電源PSU、配電柜、不間斷電源UPS等。
當然,在AI加速卡上,芯片可以通過制程工藝以及架構的改進,提高能耗比,用相同的能耗做到更高的算力。而另一方面,數(shù)據(jù)中心的配電系統(tǒng),包括PSU等,同樣是能耗浪費的重災區(qū)。
因為處理一個AI應用請求,能量需要經(jīng)過四次轉換,可能導致約12%的能量損耗。這與數(shù)據(jù)中心電源的功率轉換效率較為相關,比如目前80Plus白金標準的服務器電源,在20%輕載和滿載下的額定輸出時的轉換效率達到89%以上,50%典型負載下達到92%。
不過面對功率更大的AI算力卡需求,PSU需要在盡可能小的體積內,提高功率輸出能力,同時提高轉換效率。
采用第三代半導體的服務器PSU方案
由于更高的功率密度、更高的轉換效率需求,使得碳化硅、氮化鎵等第三代半導體器件有充足的推動力進入數(shù)據(jù)中心電源領域。傳統(tǒng)硅基半導體由于自身物理性質受限 ,不適合在高溫、高壓、高頻、高功率等領域使用,于是砷化鎵、碳化硅、氮化鎵等化合物半導體也因此應運而生。
以碳化硅為例,其耐高壓能力是硅的10倍、耐高溫能力是硅的2倍、高頻能力是硅的2倍。與硅基模塊相比,碳化硅二極管及開關管組成的模塊(全碳模塊),不僅具有碳化硅材料本征特性優(yōu)勢,在應用時還可以縮小模塊體積50%以上、消減電子轉換損耗80%以上。在系統(tǒng)設計中可以簡化散熱系統(tǒng),降低熱預算,同時減小電容電感體積,從而降低系統(tǒng)綜合成本。
所以近年來,功率半導體廠商都陸續(xù)推出基于碳化硅或氮化鎵器件的一些數(shù)據(jù)中心PSU方案。
比如英飛凌此前公布的AI數(shù)據(jù)中心PSU產品路線圖,英飛凌在高功率的PSU中趨向使用混合開關的方案,即同時采用硅、SiC、GaN等功率開關管。
其中3kW的PSU方案中,英飛凌采用coolSiC MOSFET 650V和600V cool MOS 超結MOS器件,以及CoolSiC的無橋圖騰柱PFC,集成CoolMOS和OptiMOS的半橋LLC,可以達到97.5%的峰值效率。
在3kW以上,從3.3kW到未來的12kW,英飛凌就使用硅、SiC、GaN開關的混合方案,采用CoolSiC、CoolGaN、CoolMOS、OptiMOS和實現(xiàn)最高效率和功率密度的技術,基準效率為97.5%,功率密度達到95W每英寸立方。
今年6月安森美推出了基于T10 PowerTrench系列和EliteSiC 650V器件的數(shù)據(jù)中心電源解決方案。EliteSiC 650V MOSFET提供了卓越的開關性能和更低的器件電容,可在數(shù)據(jù)中心和儲能系統(tǒng)中實現(xiàn)更高的效率。
與上一代產品相比,新一代碳化硅MOSFET的柵極電荷減半,并且將儲存在輸出電容(Eoss)和輸出電荷(Qoss)中的能量均減少了44%。與超級結MOSFET相比,它們在關斷時沒有拖尾電流,在高溫下性能優(yōu)越,能顯著降低開關損耗。采用該方案,安森美宣稱數(shù)據(jù)中心能夠減少約1%的電力損耗。
納微半導體近期也推出了一款新的4.5kW AI數(shù)據(jù)中心電源參考設計,同樣是采用了氮化鎵和碳化硅器件,包括優(yōu)化的GaNSafe?和Gen-3“Fast”(G3F) SiC功率組件,利用SiC的交錯式連續(xù)導通模式(CCM)圖騰柱功率因數(shù)校正 (PFC),并結合采用GaN的全橋LLC拓撲。
這種設計結合了不同器件的優(yōu)勢,在CCM TP-PFC中采用SiC,在300kHz LLC中采用GaN,能夠實現(xiàn)137W/in3 的功率密度和超過97%的效率。
英諾賽科去年推出了一款2kW PSU服務器電源方案,符合80 Plus鈦金級,采用圖騰柱無橋PFC+LLC結構,前端為AC-DC無橋圖騰柱PFC,后端為DC-DC隔離全橋LLC轉換器。PFC 慢橋臂采用2顆INN650TA030AH(650V/30mΩ),PFC快橋臂采用2顆INN650TA070AH(650V/70mΩ),LLC橋臂采用4顆INN650D080BS(650V/80mΩ)。
該電源方案峰值效率高達96.5%,最高功率密度達76W/in3。
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