9日(北京時(shí)間),美國(guó)英特爾宣布將從6月份開始大規(guī)模生產(chǎn)用于10nm工藝生產(chǎn)的客戶端處理器CPU。
圖:10納米工藝產(chǎn)品組合
在該公司的2019年投資者會(huì)議上,英特爾首席技術(shù)官M(fèi)urthy Renduchintala博士稱,10nm“Ice Lake”處理器將從今年六月開始批量生產(chǎn)。
他說(shuō),通過(guò)Ice Lake平臺(tái),可以充分利用10 nm工藝和架構(gòu)創(chuàng)新,與上一代產(chǎn)品相比,預(yù)計(jì)無(wú)線速度提高約3倍,視頻轉(zhuǎn)碼速度提高2倍,圖形性能提高2倍,人工智能(AI)性能提高2.5至3倍。
此外,從2019年到2020年,英特爾還計(jì)劃整合產(chǎn)品組合推出更多款10nm產(chǎn)品,如客戶端和服務(wù)器CPU,通用GPU,Agilex FPGA產(chǎn)品組,AI推理處理器“Nervana NNP-I”,5G兼容網(wǎng)絡(luò)SoC“Snow Ridge”。
圖:路線圖
該公司還稱,將嘗試通過(guò)以14nm工藝為基礎(chǔ)來(lái)設(shè)計(jì)優(yōu)化同級(jí)產(chǎn)品,以實(shí)現(xiàn)向10nm工藝的推進(jìn),并有效地?cái)U(kuò)展性能,達(dá)到10 nm工藝的最佳狀態(tài)。
同時(shí),他還表示,英特爾將首次提供7nm工藝技術(shù)的更新內(nèi)容,該技術(shù)可實(shí)現(xiàn)2倍的擴(kuò)展,預(yù)計(jì)每瓦性能提升約20%,設(shè)計(jì)規(guī)則復(fù)雜度降低4倍。
據(jù)該公司稱,預(yù)計(jì)在2021年推出7nm GPU新品。
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