精品国产人成在线_亚洲高清无码在线观看_国产在线视频国产永久2021_国产AV综合第一页一个的一区免费影院黑人_最近中文字幕MV高清在线视频

0
  • 聊天消息
  • 系統消息
  • 評論與回復
登錄后你可以
  • 下載海量資料
  • 學習在線課程
  • 觀看技術視頻
  • 寫文章/發帖/加入社區
會員中心
創作中心

完善資料讓更多小伙伴認識你,還能領取20積分哦,立即完善>

3天內不再提示

南大光電透露193nm光刻膠處于研發階段 產業化同步進展順利

電子工程師 ? 來源:yxw ? 2019-05-28 11:13 ? 次閱讀

近日,南大光電在互動平臺上表示,參股公司北京科華開發的248nm光刻膠目前已通過包括中芯國際在內的部分客戶的認證

此外,南大光電透露,193nm光刻膠處于研發階段,產業化同步進行,進展順利。公司組建專職的研發團隊,建成1500平方米的研發中心和百升級光刻膠中試生產線,產品研發進展和成果得到業界專家的認可。成立了“寧波南大光電材料有限公司”,全力推進“ArF光刻膠開發和產業化項目”的落地實施。工廠建設完成了所有樁基工程,重要設備的購置正在洽談中,項目產業化基地建設順利。

北京科華官網顯示,它是一家中美合資企業,成立于2004年,產品覆蓋KrF(248nm)、I-line、G-line、紫外寬譜的光刻膠及配套試劑,產品打入了中芯國際、華潤上華、士蘭微、吉林華微電子、三安光電、華燦光電、德豪光電等供應體系。

南大光電被視作國產光刻膠希望之一,主要有MO源、電子特氣、光刻膠三大業務板塊。

2015年9月,南大光電入股北京科華并對外宣稱,雙方將共同開展193nm光刻膠的研究與產品開發。

當時,南大光電副總經理許從應表示,北京科華248nm光刻膠項目成功,為193nm光刻膠產業化提供了工程化團隊與工程化技術的基礎。193nm光刻膠在國際上是成熟產品,在現有基礎上,通過國家支持以及北京科華和南大光電合作,引進人才等措施,193nm光刻膠產業化項目的成功是大概率事情。

根據北京科華與南大光電的計劃,2016年~2017年將完成193nm干式光刻膠的研發工作,產品達到客戶送樣驗證要求,2018年產品通過客戶驗證;在193nm浸沒式光刻膠方面,2017年~2018年完成研發工作,達到客戶送樣驗證要求,2019年~2020年產品通過客戶使用驗證,而后逐漸形成批量銷售。

不過,雙方的合作遲遲沒有進展,直到2018年12月,南大光電宣布使用部分超募資金投資“ArF光刻膠產品的開發與產業化”項目。而在該項目中,也沒有北京科華的身影。

2018年1月,南大光電與寧波經濟技術開發區管理委員會簽訂投資協議書,南大光電擬在寧波開發區投資建設高端集成電路制造用193nm光刻膠材料以及配套關鍵材料研發及生產項目;11月2日,該項目正式開工。

據悉,該項目將形成年產25噸ArF(干式和浸沒式)光刻膠產品的生產能力,項目總用地面積約86畝,其中一期總投資預計約9.6億元,于2020年開始產業化,達產后年產值約3.75億元。同時,南大光電還將建立國內第一個專業用于ArF光刻膠產品開發的檢測評估平臺。

聲明:本文內容及配圖由入駐作者撰寫或者入駐合作網站授權轉載。文章觀點僅代表作者本人,不代表電子發燒友網立場。文章及其配圖僅供工程師學習之用,如有內容侵權或者其他違規問題,請聯系本站處理。 舉報投訴
  • 中芯國際
    +關注

    關注

    27

    文章

    1417

    瀏覽量

    65277
  • 光刻膠
    +關注

    關注

    10

    文章

    313

    瀏覽量

    30151

原文標題:北京科華248nm光刻膠通過中芯國際等客戶認證,南大光電193nm光刻膠處于研發階段

文章出處:【微信號:SEMI2025,微信公眾號:半導體前沿】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。

收藏 人收藏

    評論

    相關推薦

    HyperLith軟件 EUV光刻交流

    ,然后是一層抗反射材料 沉積一層光刻膠 預烘烤光刻膠 對準基板/光刻膠和掩模版,并使用紫外線輻射和 4x-5x 成像曝光光刻膠。通過步進和掃
    發表于 11-24 22:06

    一文解讀光刻膠的原理、應用及市場前景展望

    光刻技術是現代微電子和納米技術的研發中的關鍵一環,而光刻膠,又是光刻技術中的關鍵組成部分。隨著技術的發展,對微小、精密的結構的需求日益增強,光刻膠
    的頭像 發表于 11-11 10:08 ?301次閱讀
    一文解讀<b class='flag-5'>光刻膠</b>的原理、應用及市場前景展望

    一文看懂光刻膠的堅膜工藝及物理特性和常見光刻膠

    共讀好書關于常用光刻膠型號也可以查看這篇文章:收藏!常用光刻膠型號資料大全,幾乎包含所有芯片用光刻膠歡迎掃碼添加小編微信掃碼加入知識星球,領取公眾號資料
    的頭像 發表于 11-01 11:08 ?251次閱讀

    光刻膠的使用過程與原理

    本文介紹了光刻膠的使用過程與原理。
    的頭像 發表于 10-31 15:59 ?212次閱讀

    如何成功的烘烤微流控SU-8光刻膠

    在微流控PDMS芯片加工的過程中,需要使用烘臺或者烤設備對SU-8光刻膠或PDMS聚合物進行烘烤。SU-8光刻膠的烘烤通常需要進行2-3次。本文簡要介紹SU-8
    的頭像 發表于 08-27 15:54 ?197次閱讀

    導致光刻膠變色的原因有哪些?

    存儲時間 正和圖形反轉在存儲數月后會變暗,而且隨著儲存溫度升高而加速。因為該類型光刻膠含有的光活性化合物形成偶氮染料,在 可見光譜的部分具有很強的吸收能力,對紫外靈敏度沒有任何影響。這種變色過程
    的頭像 發表于 07-11 16:07 ?458次閱讀

    光刻膠的硬烘烤技術

    根據光刻膠的應用工藝,我們可以采用適當的方法對已顯影的光刻膠結構進行處理以提高其化學或物理穩定性。通常我們可以采用烘烤步驟來實現整個光刻膠結構的熱交聯,稱為硬烘烤或者堅膜。或通過低劑量紫外線輻照
    的頭像 發表于 07-10 13:46 ?716次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的硬烘烤技術

    光刻膠后烘技術

    后烘是指(post exposure bake-PEB)是指在曝光之后的光刻膠膜的烘烤過程。由于光刻膠膜還未顯影,也就是說還未閉合,PEB也可以在高于光刻膠軟化溫度的情況下進行。前面的文章中我們在
    的頭像 發表于 07-09 16:08 ?1169次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>后烘技術

    光刻膠的圖形反轉工藝

    圖形反轉是比較常見的一種紫外光刻膠,它既可以當正使用又可以作為負使用。相比而言,負工藝更被人們所熟知。本文重點介紹其負
    的頭像 發表于 07-09 16:06 ?517次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>的圖形反轉工藝

    光刻膠的保存和老化失效

    我們在使用光刻膠的時候往往關注的重點是光刻膠的性能,但是有時候我們會忽略光刻膠的保存和壽命問題,其實這個問題應該在我們購買光刻膠前就應該提出并規劃好。并且,在
    的頭像 發表于 07-08 14:57 ?796次閱讀

    關于光刻膠的關鍵參數介紹

    與正光刻膠相比,電子束負光刻膠會形成相反的圖案。基于聚合物的負型光刻膠會在聚合物鏈之間產生鍵或交聯。未曝光的光刻膠在顯影過程中溶解,而曝光的光刻膠
    的頭像 發表于 03-20 11:36 ?2378次閱讀
    關于<b class='flag-5'>光刻膠</b>的關鍵參數介紹

    光刻膠光刻機的區別

    光刻膠是一種涂覆在半導體器件表面的特殊液體材料,可以通過光刻機上的模板或掩模來進行曝光。
    的頭像 發表于 03-04 17:19 ?4471次閱讀

    光刻膠分類與市場結構

    光刻膠主要下游應用包括:顯示屏制造、印刷電路板生產、半導體制造等,其中顯示屏是光刻膠最大的下游應用,占比30%。光刻膠在半導體制造應用占比24%,是第三達應用場景。
    發表于 01-03 18:12 ?1205次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>分類與市場結構

    速度影響光刻膠的哪些性質?

    光刻中比較重要的一步,而旋涂速度是勻中至關重要的參數,那么我們在勻時,是如何確定勻速度呢?它影響
    的頭像 發表于 12-15 09:35 ?1856次閱讀
    勻<b class='flag-5'>膠</b>速度影響<b class='flag-5'>光刻膠</b>的哪些性質?

    光刻膠國內市場及國產率詳解

    KrF光刻膠是指利用248nm KrF光源進行光刻光刻膠。248nmKrF光刻技術已廣 泛應用于0.13μm工藝的生產中,主要應用于150
    發表于 11-29 10:28 ?653次閱讀
    <b class='flag-5'>光刻膠</b>國內市場及國產<b class='flag-5'>化</b>率詳解