近日Intel公開了三項全新的封裝技術:
一、Co-EMIB
利用利用高密度的互連技術,將EMIB(嵌入式多芯片互連橋接) 2D封裝和Foveros 3D封裝技術結合在一起,實現高帶寬、低功耗,以及相當有競爭力的I/O密度。
Co-EMIB能連接更高的計算性能和能力,讓兩個或多個Foveros元件互連從而基本達到SoC性能,還能以非常高的帶寬和非常低的功耗連接模擬器、內存和其他模塊。
二、ODI
ODI全稱Omni-Directional Interconnect,為封裝中小芯片之間的全方位互連通信提供了更大的靈活性。
ODI封裝架構中,頂部的芯片可以像EMIB下一樣,與其他小芯片進行水平通信,還可以像Foveros下一樣,通過TSV與下面的底部裸片進行垂直通信。
ODI利用更大的垂直通孔,直接從封裝基板向頂部裸片供電,比傳統硅通孔更大、電阻更低,因而可提供更穩定的電力傳輸,同時通過堆疊實現更高的帶寬和更低的時延。此外,這種方法減少了基底芯片所需的硅通孔數量,為有源晶體管釋放更多的面積,并優化了裸片的尺寸。
三、MDIO
基于高級接口總線(AIB)物理層互連技術,Intel發布了這種名為MDIO的全新裸片間接口技術。
MDIO技術支持對小芯片IP模塊庫的模塊化系統設計,能效更高,響應速度和帶寬密度可以是AIB技術的兩倍以上。
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原文標題:Intel公開三項全新封裝技術:靈活、高能集成多芯片
文章出處:【微信號:SEMI2025,微信公眾號:半導體前沿】歡迎添加關注!文章轉載請注明出處。
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