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電子發燒友網>處理器/DSP>我國自研5nm等離子體蝕刻機通過臺積電驗證 將被臺積電采用

我國自研5nm等離子體蝕刻機通過臺積電驗證 將被臺積電采用

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2022-07-04 16:09:18496

等離子體蝕刻率的限制

隨著集成電路互連線的寬度和間距接近3pm,鋁和鋁合金的等離子體蝕刻變得更有必要。為了防止蝕刻掩模下的橫向蝕刻,我們需要一個側壁鈍化機制。盡管AlCl和AlBr都具有可觀的蒸氣壓,但大多數鋁蝕刻的研究
2023-06-27 13:24:11377

等離子體清洗工藝的關鍵技術 等離子體清洗在封裝生產中的應用

等離子體工藝是干法清洗應用中的重要部分,隨著微電子技術的發展,等離子體清洗的優勢越來越明顯。文章介紹了等離子體清洗的特點和應用,討論了它的清洗原理和優化設計方法。最后分析了等離子體清洗工藝的關鍵技術及解決方法。
2023-10-18 17:42:36582

針對氧氣(O2)和三氯化硼(BCl3)等離子體進行原子層蝕刻的研究

基于GaN的高電子遷移率,晶體管,憑借其高擊穿電壓、大帶隙和高電子載流子速度,應用于高頻放大器和高壓功率開關中。就器件制造而言,GaN的相關材料,如AlGaN,憑借其物理和化學穩定性,為等離子體蝕刻
2023-12-13 09:51:24419

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