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硅襯底GaN LED技術的應用機遇與挑戰

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 相比于橫向功率電子器件,GaN縱向功率器件能提供更高的功率密度/晶圓利用率、更好的動態特性、更佳的熱管理,而大尺寸、低成本的硅襯底GaN縱向功率電子器件吸引了國內外眾多科研團隊的目光,近些年已取得了重要進展。
2022-12-15 16:25:35754

晶能光電帶驅動的三基色Micro LED顯示模組再獲央視報道

作為國家虛擬現實創新中心入局者,晶能光電利用自主創新的硅襯底GaNLED技術,承擔硅襯底Micro LED的關鍵共性技術開發。
2023-02-15 10:53:39260

淺談帶驅動的三基色Micro LED顯示模組

作為國家虛擬現實創新中心入局者,晶能光電利用自主創新的硅襯底GaNLED技術,承擔硅襯底Micro LED的關鍵共性技術開發。
2023-02-21 11:00:20245

探索GaN-on-Si技術難點

GaN-on-Si LED技術是行業夢寐以求的技術。首先,硅是地殼含量第二的元素,物理和化學性能良好,在大尺寸硅襯底上制作氮化鎵LED的綜合成本可以降低25%;
2023-03-10 09:04:16886

介紹硅襯底GaN基Micro LED技術的發展情況

Micro LED新型顯示具有巨大市場前景,也面臨著一系列技術挑戰。選擇合理的產業化路線對推動Micro LED應用落地非常關鍵。
2023-04-26 10:16:371460

淺談GaN 異質襯底外延生長方法

HVPE(氫化物氣相外延法)與上述兩種方法的區別還是在于鎵源,此方法通常以鎵的氯化物GaCl3為鎵源,NH3為氮源,在襯底上以1000 ℃左右的溫度生長出GaN晶體。
2023-06-11 11:11:32277

GaN單晶襯底顯著改善HEMT器件電流崩塌效應

襯底材料和GaN之間純在較大的晶格失配和熱失配,外延層中往往存在大量的缺陷,使得HEMT器件中存在較強電流崩塌效應,影響器件的性能發揮。
2023-06-14 14:00:551654

幾種led襯底的主要特性對比 氮化鎵同質外延的難處

GaN半導體產業鏈各環節為:襯底GaN材料外延→器件設計→器件制造。其中,襯底是整個產業鏈的基礎。 作為襯底GaN自然是最適合用來作為GaN外延膜生長的襯底材料。
2023-08-10 10:53:31664

氮化鎵襯底和外延片哪個技術襯底為什么要做外延層

生長氮化鎵薄膜,形成GaN基礎器件的結構。由于氮化鎵材料的性質優良,GaN技術被廣泛應用于LED、高頻功率放大器、射頻器件等領域。
2023-08-22 15:17:312379

晶能光電硅襯底UVA LED 產品性能處于行業先進水平

2023年9月,第三屆紫外LED國際會議暨長治LED發展推進大會在長治隆重召開,國內外專家云集,深入交流紫外LED最新技術進展與發展趨勢。晶能光電外延工藝高級經理周名兵受邀作《硅襯底GaN基近紫外
2023-09-19 11:11:285752

語音識別技術挑戰機遇

一、引言 隨著科技的快速發展,語音識別技術成為了人機交互的重要方式。然而,盡管語音識別技術在某些領域已經取得了顯著的進步,但在實際應用中仍然存在許多挑戰機遇。本文將探討語音識別技術的現狀、面臨
2023-09-20 16:17:19277

語音識別技術挑戰機遇

一、引言 語音識別技術是一種將人類語言轉化為計算機可理解數據的技術。隨著科技的不斷發展,語音識別技術面臨著諸多挑戰,同時也帶來了許多機遇。本文將探討語音識別技術挑戰機遇。 二、語音識別技術挑戰
2023-10-10 17:10:59467

晶能光電:硅襯底GaN材料應用大有可為

襯底GaN材料在中低功率的高頻HEMT和LED專業照明領域已經實現規模商用。基于硅襯底GaN材料的Micro LED微顯技術和低功率PA正在進行工程化開發。DUV LEDGaN LD以及GaN/CMOS集成架構尚處于早期研究階段。
2023-10-13 16:02:31317

語音識別技術挑戰機遇再探討

一、引言 隨著科技的不斷發展,語音識別技術得到了廣泛應用。然而,語音識別技術在發展過程中面臨著許多挑戰,同時也帶來了許多機遇。本文將再探討語音識別技術挑戰機遇。 二、語音識別技術挑戰 1.噪聲
2023-10-18 16:56:20368

GaN的驅動電路有哪些挑戰?怎么在技術上各個突破?

GaN的驅動電路有哪些挑戰?怎么在技術上各個突破?GaN驅動電路有哪些設計技巧? GaN(氮化鎵)是一種新型的半導體材料,相比傳統的硅材料,具有更高的電子遷移率和能力,因此在功率電子領域有著廣泛
2023-11-07 10:21:44513

助熔劑法生長GaN單晶襯底的研究進展

GaN性能優異,在光電子、微電子器件應用廣泛,發展潛力巨大;進一步發展,需提升材料質量,制備高質量氮化鎵同質襯底
2023-12-09 10:24:57716

微波GaN HEMT 技術面臨的挑戰

報告內容包含: 微帶WBG MMIC工藝 GaN HEMT 結構的生長 GaN HEMT 技術面臨的挑戰
2023-12-14 11:06:58178

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