電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/李寧遠(yuǎn)）提及芯片制造，首先想到的自然是光刻機(jī)和光刻技術(shù)。而眾所周知，EUV光刻機(jī)產(chǎn)能有限而且成本高昂，業(yè)界一直都在探索不完全依賴于EUV光刻機(jī)來生產(chǎn)高端芯片的技術(shù)和工藝。納米
2024-03-09 00:15:00
2909 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/李寧遠(yuǎn)）提及芯片制造技術(shù)，首先想到的自然是光刻機(jī)和光刻技術(shù)。眾所周知在芯片行業(yè)，光刻是芯片制造過程中最重要、最繁瑣、最具挑戰(zhàn)也最昂貴的一項(xiàng)工藝步驟。在光刻機(jī)的支持下，摩爾定律
2023-07-16 01:50:153007 
制造集成電路的大多數(shù)工藝區(qū)域要求100級(jí)（空氣中每立方米內(nèi)直徑大于等于0.5μm的塵埃粒子總數(shù)不超過約3500）潔凈室，在光刻區(qū)域，潔凈室要求10級(jí)或更高。
2024-03-20 12:36:0056 
英偉達(dá)與臺(tái)積電、 Synopsys 已做出決策，將在其軟件環(huán)境、制造工藝以及系統(tǒng)上整合英偉達(dá)的 cuLitho 計(jì)算光刻平臺(tái)。此舉旨在大幅提升芯片制造速率，并為英偉達(dá)即將推出的 Blackwell 架構(gòu) GPU 鋪平道路。
2024-03-19 11:41:53112 基于HarmonyOS NEXT鴻蒙原生應(yīng)用開發(fā)。目前，作為網(wǎng)易首款鴻蒙原生游戲，《倩女幽魂》不但完成了鴻蒙原生應(yīng)用開發(fā)，且商業(yè)化版本已就緒，將在HarmonyOS NEXT發(fā)布的第一時(shí)間與用戶見面。 《倩女幽魂》作為仙俠類標(biāo)桿手游，新增用戶已突破億級(jí)，活躍用戶
2024-03-13 11:37:24218 美國(guó)半導(dǎo)體設(shè)備制造商應(yīng)用材料公司在印度班加羅爾開設(shè)了一個(gè)驗(yàn)證中心，標(biāo)志著印度首家能夠加工300mm晶圓的商業(yè)設(shè)施誕生。
2024-03-12 10:03:03227 ，用于支持所謂“安全飛地（secure enclave）”的計(jì)劃。計(jì)劃的資金來自總金額390億美元的《芯片和科學(xué)法案》。芯片法案立法的宗旨是鼓勵(lì)芯片制造商在美國(guó)生產(chǎn)半導(dǎo)體，目前已有600多家公司表明希望獲得補(bǔ)助。2023年11月有報(bào)道稱，英特爾正協(xié)商就“安全
2024-03-07 10:50:06731 近期的演示會(huì)上，美光詳細(xì)闡述了其針對(duì)納米印刷與DRAM制造之間的具體工作模式。他們提出，DRAM工藝的每一個(gè)節(jié)點(diǎn)以及浸入式光刻的精度要求使得物理流程變得愈發(fā)復(fù)雜。
2024-03-05 16:18:24190 ASML在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中扮演著舉足輕重的角色，其光刻機(jī)技術(shù)和市場(chǎng)地位對(duì)于全球半導(dǎo)體制造廠商來說都具有重要意義。
2024-03-05 11:26:00123 全球領(lǐng)先的連接和電源解決方案供應(yīng)商Qorvo?（納斯達(dá)克代碼：QRVO）近日宣布已就收購(gòu)Anokiwave達(dá)成最終協(xié)議。
2024-02-20 17:32:23394 Takeishi向英國(guó)《金融時(shí)報(bào)》表示，公司計(jì)劃于2024年開始出貨其納米壓印光刻機(jī)FPA-1200NZ2C，并補(bǔ)充說芯片可以輕松以低成本制造。2023年11月，該公司表示該設(shè)備的價(jià)格將比ASML的EUV機(jī)器便宜一位數(shù)。 佳能表示，與利用光曝光電路圖案的傳統(tǒng)光刻技術(shù)不同，納米壓印光刻不需要光源，利用
2024-02-01 15:42:05270 
佳能近日表示，計(jì)劃年內(nèi)或明年上市使用納米壓印技術(shù)的光刻設(shè)備FPA-1200NZ2C。對(duì)比已商業(yè)化的EUV光刻技術(shù)，雖然納米壓印的制造速度較傳統(tǒng)方式緩慢，但由于制程簡(jiǎn)化，耗電僅為EUV的十分之一，且投資額也僅為EUV設(shè)備的四成。
2024-01-31 16:51:18551 光刻機(jī)是微電子制造的關(guān)鍵設(shè)備，廣泛應(yīng)用于集成電路、平面顯示器、LED、MEMS等領(lǐng)域。在集成電路制造中，光刻機(jī)被用于制造芯片上的電路圖案。
2024-01-29 09:37:24359 
納米技術(shù)是一種高度前沿的技術(shù)，利用控制和操縱物質(zhì)的尺寸在納米級(jí)別來創(chuàng)造新的材料和應(yīng)用。納米技術(shù)的特點(diǎn)主要包括以下幾個(gè)方面：高比表面積、尺寸效應(yīng)、量子效應(yīng)和可調(diào)控性。 首先，納米技術(shù)的一個(gè)重要特點(diǎn)是
2024-01-19 14:06:424311 和光通信領(lǐng)域的客戶制造高精度微型光學(xué)元件。制造商是位于德國(guó)耶拿的電子束技術(shù)專家Vistec Electron Beam GmbH。該系統(tǒng)將于2025年初交付。 以最高精度創(chuàng)建最小的結(jié)構(gòu) 這種類型的電子束光刻系統(tǒng)可以在直徑達(dá)300毫米的襯底上以10納米范圍（約為頭發(fā)絲的1/2,000）精度
2024-01-15 17:33:16176 光刻膠主要下游應(yīng)用包括：顯示屏制造、印刷電路板生產(chǎn)、半導(dǎo)體制造等，其中顯示屏是光刻膠最大的下游應(yīng)用，占比30%。光刻膠在半導(dǎo)體制造應(yīng)用占比24%，是第三達(dá)應(yīng)用場(chǎng)景。
2024-01-03 18:12:21346 
使用13.5nm波長(zhǎng)的光進(jìn)行成像的EUV光刻技術(shù)已被簡(jiǎn)歷。先進(jìn)的邏輯產(chǎn)品依賴于它，DRAM制造商已經(jīng)開始大批量生產(chǎn)。
2023-12-29 15:22:31172 據(jù)可靠消息來源透露，聯(lián)電已就12納米工藝授權(quán)與英特爾進(jìn)行多輪接觸且近期將達(dá)成協(xié)議。主要原因在于聯(lián)電的12納米 ARM架構(gòu)技術(shù)和主攻 x86 架構(gòu)的英特爾形成了很好的互補(bǔ)效應(yīng)，根據(jù)計(jì)劃，聯(lián)電將在今后一段時(shí)間內(nèi)收授高達(dá)數(shù)百億新臺(tái)幣的專利費(fèi)。
2023-12-28 14:46:00197 對(duì)于納米壓印技術(shù)，佳能半導(dǎo)體設(shè)備業(yè)務(wù)部巖本和德介紹道，它是通過將刻有半導(dǎo)體電路圖的掩膜壓制于晶圓之上完成二維或三維電路成型的過程。巖本進(jìn)一步補(bǔ)充道，若對(duì)掩膜進(jìn)行改良，將有可能實(shí)現(xiàn)2nm級(jí)別的電路線條寬度。
2023-12-25 14:51:51316 在過去的幾年里，200mm設(shè)備在市場(chǎng)上一直供不應(yīng)求，但現(xiàn)在整個(gè)300mm供應(yīng)鏈也出現(xiàn)了問題。傳統(tǒng)上，300毫米設(shè)備的交貨時(shí)間為三到六個(gè)月，而特定系統(tǒng)的交貨時(shí)間更長(zhǎng)。然而，如今，采購(gòu)極紫外(EUV)光刻掃描儀可能需要一年或更長(zhǎng)時(shí)間。沉積、蝕刻和其他系統(tǒng)的交付周期也很長(zhǎng)。
2023-12-20 13:31:32172 
來源：Silicon Semiconductor 紅外激光切割技術(shù)能夠以納米精度從硅襯底上進(jìn)行超薄層轉(zhuǎn)移，徹底改變了先進(jìn)封裝和晶體管縮放的3D集成。 EV集團(tuán)（EVG）推出了EVG?850
2023-12-13 17:26:46489 
“半導(dǎo)體研發(fā)機(jī)構(gòu) imec 的項(xiàng)目經(jīng)理塞德里克-羅林（Cedric Rolin）說：”納米壓印技術(shù)很難在質(zhì)量上與 EUV 相媲美。” 他說，納米壓印的缺陷率“相當(dāng)高”。
2023-12-06 15:54:42314 某造紙公司出現(xiàn)了鍵槽磨損，鍵槽磨損1-1.5mm公司選擇索雷碳納米聚合物材料技術(shù)來進(jìn)行修復(fù)。
2023-12-04 09:42:59
0 光刻工藝就是把芯片制作所需要的線路與功能做出來。利用光刻機(jī)發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對(duì)涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會(huì)發(fā)生性質(zhì)變化，從而使光罩上得圖形復(fù)印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用
2023-12-04 09:17:241334 
KrF光刻膠是指利用248nm KrF光源進(jìn)行光刻的光刻膠。248nmKrF光刻技術(shù)已廣 泛應(yīng)用于0.13μm工藝的生產(chǎn)中,主要應(yīng)用于150 , 200和300mm的硅晶圓生產(chǎn)中。
2023-11-29 10:28:50283 
的轉(zhuǎn)型升級(jí)，一站式數(shù)字化電子供應(yīng)鏈應(yīng)愈發(fā)重要，數(shù)字化智能制造的全鏈條中電子設(shè)計(jì)與制造的問題也越來越受到重視。
在此背景下，華秋聯(lián)合新一代產(chǎn)業(yè)園主辦的《2023電子設(shè)計(jì)與制造技術(shù)研討會(huì)》于11月23
2023-11-24 16:50:33
的轉(zhuǎn)型升級(jí)，一站式數(shù)字化電子供應(yīng)鏈應(yīng)愈發(fā)重要，數(shù)字化智能制造的全鏈條中電子設(shè)計(jì)與制造的問題也越來越受到重視。
在此背景下，華秋聯(lián)合新一代產(chǎn)業(yè)園主辦的《2023電子設(shè)計(jì)與制造技術(shù)研討會(huì)》于11月23
2023-11-24 16:47:41
雖然目前在光刻機(jī)市場(chǎng)，還有尼康和佳能這兩大供應(yīng)商，但是這兩家廠商的產(chǎn)品主要都是被用于成熟制程芯片的制造，全球市場(chǎng)份額僅有10%左右，ASML一家占據(jù)了90%的市場(chǎng)份額，并壟斷了尖端的EUV光刻機(jī)的供應(yīng)。
2023-11-23 16:14:45485 
在電子和電氣制造業(yè)中，光刻技術(shù)是制造無源/有源器件的重要步驟。
2023-11-20 09:30:05405 
就緒狀態(tài)和等待狀態(tài)是計(jì)算機(jī)領(lǐng)域中一對(duì)常用的術(shù)語，用于描述進(jìn)程或線程在執(zhí)行時(shí)的不同狀況。下面我將詳細(xì)解釋就緒狀態(tài)和等待狀態(tài)的區(qū)別。 就緒狀態(tài)（Ready State）是指進(jìn)程或線程已經(jīng)滿足了執(zhí)行的條件
2023-11-17 11:29:55754 第六屆進(jìn)博會(huì)于近日在上海國(guó)家會(huì)展中心正式收官，ASML2023進(jìn)博之旅也圓滿落幕! 今年，ASML繼續(xù)以“光刻未來，攜手同行”為主題，攜全景光刻解決方案驚艷亮相，還創(chuàng)新性地帶來了“芯”意滿滿的沉浸
2023-11-11 15:23:53595 
據(jù)DIGITIMES此前消息，SK海力士2023年引進(jìn)佳能納米壓印設(shè)備，正在進(jìn)行測(cè)試與研發(fā)，目標(biāo)在2025年左右將該設(shè)備用于3D NAND量產(chǎn)。有業(yè)內(nèi)人士表示：“與EUV相比，納米壓印技術(shù)形成圖案
2023-11-10 16:25:06434 
中圖儀器SJ5730系列納米探針式輪廓儀采用超高精度納米衍射光學(xué)測(cè)量系統(tǒng)、超高直線度研磨級(jí)摩擦導(dǎo)軌、高性能直流伺服驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)、高性能計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)技術(shù)，分辨率高達(dá)0.1nm，系統(tǒng)殘差小于3nm
2023-11-09 09:14:22
顛覆性技術(shù)!半導(dǎo)體行業(yè)再放大招! 近日，日本佳能官方發(fā)布 納米壓印(NIL)半導(dǎo)體制造設(shè)備 未來，或?qū)⑻娲鶤SML光刻機(jī) 成為更低成本的芯片制造設(shè)備! 要知道，半導(dǎo)體是目前全球經(jīng)濟(jì)的核心，在中國(guó)
2023-11-08 15:57:14199 
納米壓印是微納工藝中最具發(fā)展?jié)摿Φ牡谌?b class="flag-6" style="color: red">光刻工藝，是最有希望取代極紫外光的新一代工藝。最近，海力士公司從佳能購(gòu)買了一套奈米壓印機(jī)，進(jìn)行了大規(guī)模生產(chǎn)，并取得了不錯(cuò)的效果。
2023-11-08 14:34:02550 目前，俄羅斯雖然擁有利用外國(guó)制造設(shè)備的65納米技術(shù)，但不能生產(chǎn)光刻機(jī)。在現(xiàn)代光刻設(shè)備的情況下，外國(guó)企業(yè)被禁止出口之后，俄羅斯正在忙于自身的生產(chǎn)設(shè)備開發(fā)。
2023-11-06 11:38:55473 2024年亮相，而支持130納米制程的設(shè)備將于2026年投入生產(chǎn)。 在全球范圍內(nèi)，只有荷蘭ASML和日本Nikon兩家公司生產(chǎn)光刻機(jī)，這使得俄羅斯面臨技術(shù)及設(shè)備的供應(yīng)難題。然而，在國(guó)際制裁的背景下，俄羅斯決定走上了自研自產(chǎn)的道路，旨在建設(shè)本土半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈。
2023-11-06 11:26:29212 據(jù)悉，asml是唯一的極紫外光刻工具供應(yīng)商，極紫外線刻印工具是世界上最先進(jìn)的芯片制造機(jī)器，每臺(tái)價(jià)值數(shù)億美元。euv設(shè)備是數(shù)十年研究和投資的產(chǎn)物，是大規(guī)模生產(chǎn)最快、能源效率最高的芯片所必需的。
2023-11-06 09:29:32377 月 5 日 - 10 日 地點(diǎn)：國(guó)家會(huì)展中心（上海市）4.1 館集成電路專區(qū) A1 - 01 德州儀器展位 目前，德州儀器的展臺(tái)搭建工作已全部準(zhǔn)備就緒，300 平米進(jìn)博會(huì)展區(qū)，涵蓋可再生能源、汽車電子與機(jī)器人三大領(lǐng)域技術(shù)與解決方案，為您打造沉浸式科技“芯”旅程！ 你是
2023-11-05 13:02:11315 光刻是半導(dǎo)體加工中最重要的工藝之一，決定著芯片的性能。光刻占芯片制造時(shí)間的40%-50%，占其總成本的30%。光刻膠是光刻環(huán)節(jié)關(guān)鍵耗材，其質(zhì)量和性能與電子器件良品率、器件性能可靠性直接相關(guān)。
2023-10-26 15:10:24359 
為了制備蜂窩狀紋理的絨面結(jié)構(gòu)，研究人員利用了熱輔助紫外輥納米壓印光刻技術(shù)（TUV-Roller-NIL），基于TUV-Roller-NIL制造蜂窩紋理的工藝鏈可以分為以下四步。
2023-10-25 09:31:36253 
光學(xué)光刻是通過廣德照射用投影方法將掩模上的大規(guī)模集成電路器件的結(jié)構(gòu)圖形畫在涂有光刻膠的硅片上，通過光的照射，光刻膠的成分發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，從而生成電路圖。限制成品所能獲得的最小尺寸與光刻系統(tǒng)能獲得的分辨率直接相關(guān)，而減小照射光源的波長(zhǎng)是提高分辨率的最有效途徑。
2023-10-24 11:43:15271 
近日，上海微系統(tǒng)所魏星研究員團(tuán)隊(duì)在300mm SOI晶圓制造技術(shù)方面取得突破性進(jìn)展，制備出了國(guó)內(nèi)第一片300mm 射頻（RF）SOI晶圓。
2023-10-23 09:16:45498 
為制備適用于300 mm RF-SOI的低氧高阻襯底，團(tuán)隊(duì)自主開發(fā)了耦合橫向磁場(chǎng)的三維晶體生長(zhǎng)傳熱傳質(zhì)模型，并首次揭示了晶體感應(yīng)電流對(duì)硅熔體內(nèi)對(duì)流和傳熱傳質(zhì)的影響機(jī)制以及結(jié)晶界面附近氧雜質(zhì)的輸運(yùn)機(jī)制，相關(guān)成果分別發(fā)表在晶體學(xué)領(lǐng)域的頂級(jí)期刊《Crystal growth & design》
2023-10-20 14:30:45358 
來源：中國(guó)半導(dǎo)體論壇 編輯：感知芯視界 Link 10月13日消息，日本佳能宣布推出新型光刻設(shè)備：FPA-1200NZ2C納米壓印半導(dǎo)體制造設(shè)備！ 受此消息影響，納米壓印概念股午后走高，匯創(chuàng)達(dá)午后
2023-10-17 11:07:23230 據(jù)佳能介紹，傳統(tǒng)的光刻設(shè)備將電路圖案投射到涂有防腐劑的晶片上，而新產(chǎn)品就像郵票一樣，在晶片上印上印有電路圖案的掩模來實(shí)現(xiàn)這一目標(biāo)。由于電路圖案的傳遞過程不經(jīng)過光學(xué)結(jié)構(gòu)，因此可以在晶片上準(zhǔn)確再現(xiàn)掩模的細(xì)微電路圖案。
2023-10-16 11:40:29701 當(dāng)制程節(jié)點(diǎn)演進(jìn)到5nm時(shí)，DUV和多重曝光技術(shù)的組合也難以滿足量產(chǎn)需求了，EUV光刻機(jī)就成為前道工序的必需品了，沒有它，很難制造出符合應(yīng)用需求的5nm芯片，即使不用EUV能制造出一些5nm芯片，其整個(gè)生產(chǎn)線的良率也非常低，無法形成大規(guī)模的商業(yè)化生產(chǎn)。
2023-10-13 14:45:03834 
璞璘科技成立于2017年，致力于納米壓印設(shè)備及材料的生產(chǎn)和開發(fā)。據(jù)璞璘科技官方消息，公司是目前國(guó)內(nèi)市場(chǎng)上唯一一家集納米壓印設(shè)備、材料、技術(shù)于一體的納米壓印尖端微納米制造企業(yè)。
2023-10-13 10:03:231622 納米科技的迅猛發(fā)展將我們的視野拓展到了微觀世界，而測(cè)量納米級(jí)尺寸的物體和現(xiàn)象則成為了時(shí)下熱門的研究領(lǐng)域。納米級(jí)測(cè)量?jī)x器作為一種重要的工具，扮演著重要的角色。那么，如何才能準(zhǔn)確測(cè)量納米級(jí)物體呢？在
2023-10-11 14:37:46
從技術(shù)發(fā)展的角度看，芯片線寬越來越小，各種光學(xué)效應(yīng)、系統(tǒng)誤差和工藝條件偏差等變得越來越精細(xì)。計(jì)算光刻可以通過算法建模、仿真計(jì)算、數(shù)據(jù)分析和結(jié)果優(yōu)化等手段解決半導(dǎo)體制造過程中的納米級(jí)掩模修復(fù)、芯片設(shè)計(jì)、制造缺陷檢測(cè)與矯正
2023-10-10 16:42:24486 這個(gè)復(fù)合體由兩種設(shè)施組成。第一個(gè)裝置是為“無掩模納米光刻”設(shè)計(jì)的，可以在沒有口罩的情況下將圖像投射到基板上。第二種設(shè)備位于第一種設(shè)備制造的基板圖案上，利用蝕刻形成納米結(jié)構(gòu)。
2023-10-10 14:27:04436 光刻膠作為影響光刻效果核心要素之一，是電子產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵材料。光刻膠由溶劑、光引發(fā)劑和成膜樹脂三種主要成分組成，是一種具有光化學(xué)敏感性的混合液體。其利用光化學(xué)反應(yīng)，經(jīng)曝光、顯影等光刻工藝，將所需要的微細(xì)圖形從掩模版轉(zhuǎn)移到待加工基片上，是用于微細(xì)加工技術(shù)的關(guān)鍵性電子化學(xué)品。
2023-10-09 14:34:491674 
歐洲極紫外光刻（EUVL）技術(shù)利用波長(zhǎng)為13.5納米的光子來制造集成電路。產(chǎn)生這種光的主要來源是使用強(qiáng)大激光器產(chǎn)生的熱錫等離子體。激光參數(shù)被調(diào)整以產(chǎn)生大多數(shù)在13.5納米附近發(fā)射的錫離子（例如Sn10+-Sn15+）。
2023-09-25 11:10:50264 
線路板的光刻技術(shù)
2023-09-21 10:20:34607 
該制造商為SHELLBACK 300毫米生產(chǎn)線訂購(gòu)的eaglei 300 caster檢查系統(tǒng)，為驗(yàn)證300毫米foup及fosb的重要大小，在清潔前和清潔后，通過準(zhǔn)確的、可編程的多點(diǎn)晶圓載具檢查，以確保只有在公差范圍內(nèi)的載具才能重新進(jìn)入生產(chǎn)，從而提高晶圓廠產(chǎn)量。
2023-09-20 11:54:10558 玻璃瓶軸偏差測(cè)定儀 在玻璃制造業(yè)中，瓶子的設(shè)計(jì)和制造不僅需要美觀，更要求高度的實(shí)用性和精密度。其中，玻璃瓶的垂直軸偏差是評(píng)價(jià)其質(zhì)量的重要指標(biāo)之一。為了確保玻璃瓶垂直軸的偏差在規(guī)定范圍內(nèi)
2023-09-19 14:31:35
納米級(jí)[1] 。傳統(tǒng)的平面化技術(shù)如基于淀積技術(shù)的選擇淀積、濺射玻璃 SOG、低壓 CVD、等離子體增強(qiáng) CVD、偏壓濺射和屬于結(jié)構(gòu)的濺射后回腐蝕、熱回流、淀積 —腐蝕 —淀積等 , 這些技術(shù)在 IC
2023-09-19 07:23:03
公開的資料顯示，蘇大維格他致力于微納關(guān)鍵技術(shù)，柔性智能制造、柔性光電子材料的創(chuàng)新應(yīng)用，涉及微納光學(xué)印材、納米印刷、3D成像材料、平板顯示（大尺寸電容觸控屏，超薄導(dǎo)光板）、高端智能微納裝備（納米壓印、微納直寫光刻、3D光場(chǎng)打印等）的開發(fā)和技術(shù)產(chǎn)業(yè)化
2023-09-11 11:45:593530 制造企業(yè)形成新的要求，企業(yè)紛紛尋求降本升效的手段。 在光伏玻璃產(chǎn)線中，投料、熔化、成型、退火、切割、制品是一個(gè)完整的生產(chǎn)流程，其中生產(chǎn)過程的溫濕度、壓力等工藝參數(shù)對(duì)生產(chǎn)效率至關(guān)重要，通過將產(chǎn)線上溫濕度傳感器、
2023-08-24 14:07:04253 
半導(dǎo)體制造工藝之光刻工藝詳解
2023-08-24 10:38:541221 
2000年代初，芯片行業(yè)一直致力于從193納米氟化氬（ArF）光源光刻技術(shù)過渡到157納米氟（F 2 ）光源光刻技術(shù)。
2023-08-23 10:33:46798 
光刻是一種圖像復(fù)制技術(shù)，是集成電路工藝中至關(guān)重要的一項(xiàng)工藝。簡(jiǎn)單地說，光刻類似照相復(fù)制方法，即將掩膜版上的圖形精確地復(fù)制到涂在硅片表面的光刻膠或其他掩蔽膜上面，然后在光刻膠或其他掩蔽膜的保護(hù)下對(duì)硅片進(jìn)行離子注入、刻蝕、金屬蒸鍍等。
2023-08-07 17:52:531479 
EUV掩膜，也稱為EUV掩模或EUV光刻掩膜，對(duì)于極紫外光刻（EUVL）這種先進(jìn)光刻技術(shù)至關(guān)重要。EUV光刻是一種先進(jìn)技術(shù)，用于制造具有更小特征尺寸和增強(qiáng)性能的下一代半導(dǎo)體器件。
2023-08-07 15:55:02396 據(jù)新維度公司總經(jīng)理羅鋼博士介紹，新維度公司繼承了劉忠范教授和瑞典lars montelius教授的納米壓印技術(shù)系統(tǒng)，是世界主要納米壓印技術(shù)路線之一。
2023-07-20 10:58:361179 新的300晶圓廠將于2023年啟動(dòng)，提供動(dòng)力晶體管、先進(jìn)邏輯、oem服務(wù)。將于2023年開業(yè)的13個(gè)300mm 晶圓廠中有5個(gè)是非ic產(chǎn)品生產(chǎn)，其中3個(gè)在中國(guó)，2個(gè)在日本。今年新成立的300mm晶圓廠的三分之二正在進(jìn)行預(yù)定型生產(chǎn)，其中4家完全致力于委托其他公司制造半導(dǎo)體。
2023-07-20 09:25:50587 
GK-1000光刻掩膜版測(cè)溫儀，光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)測(cè)溫儀光刻機(jī)是一種用于微納米加工的設(shè)備，主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS（微機(jī)電系統(tǒng)）等微細(xì)結(jié)構(gòu)。光刻機(jī)是一種光學(xué)投影技術(shù)，通過將光線通過
2023-07-07 11:46:07
中國(guó)科學(xué)院大學(xué)集成電路學(xué)院是國(guó)家首批支持建設(shè)的示范性微電子學(xué)院。為了提高學(xué)生對(duì)先進(jìn)光刻技術(shù)的理解，本學(xué)期集成電路學(xué)院開設(shè)了《集成電路先進(jìn)光刻技術(shù)與版圖設(shè)計(jì)優(yōu)化》研討課。在授課過程中，除教師系統(tǒng)地講授
2023-06-30 10:06:02261 
中國(guó)科學(xué)院大學(xué)集成電路學(xué)院是國(guó)家首批支持建設(shè)的示范性微電子學(xué)院。為了提高學(xué)生對(duì)先進(jìn)光刻技術(shù)的理解，本學(xué)期集成電路學(xué)院開設(shè)了《集成電路先進(jìn)光刻技術(shù)與版圖設(shè)計(jì)優(yōu)化》研討課。在授課過程中，除教師系統(tǒng)地講授
2023-06-29 10:02:17327 
在之前的文章里，我們介紹了晶圓制造、氧化過程和集成電路的部分發(fā)展史。現(xiàn)在，讓我們繼續(xù)了解光刻工藝，通過該過程將電子電路圖形轉(zhuǎn)移到晶圓上。光刻過程與使用膠片相機(jī)拍照非常相似。但是具體是怎么實(shí)現(xiàn)的呢？
2023-06-28 10:07:472427 
如今，光刻技術(shù)已成為一項(xiàng)容錯(cuò)率極低的大產(chǎn)業(yè)。全球領(lǐng)先的荷蘭公司 ASML 也是歐洲市值最大的科技公司。它的光刻工具依賴于世界上最平坦的鏡子、最強(qiáng)大的商用激光器之一以及比太陽表面爆炸還高的熱度，在硅上刻出微小的形狀，尺寸僅為幾納米。
2023-06-26 16:59:16569 非光刻圖案化方法可以從圖案設(shè)計(jì)的自由度上分為三大類，第一類能夠自由形成任意圖案，主要包括掃描探針刻印（SPL）和噴墨打印；第二類需要在模板或預(yù)圖案化基材的輔助下形成復(fù)雜的圖案，包括區(qū)域選擇性沉積（ASD）、納米壓印（NIL）、微接觸印刷（mCP）
2023-06-21 15:49:50522 
近日，湖南大學(xué)段輝高教授團(tuán)隊(duì)通過開發(fā)基于“光刻膠全干法轉(zhuǎn)印”技術(shù)的新型光刻工藝，用于柔性及不規(guī)則（曲面、懸空）襯底上柔性電子器件的原位和高保形制造，為高精度、高可靠性和高穩(wěn)定性柔性電子器件的制造提供
2023-06-17 10:19:38507 
光刻機(jī)可分為前道光刻機(jī)和后道光刻機(jī)。光刻機(jī)既可以用在前道工藝，也可以用在后道工藝，前道光刻機(jī)用于芯片的制造，曝光工藝極其復(fù)雜，后道光刻機(jī)主要用于封裝測(cè)試，實(shí)現(xiàn)高性能的先進(jìn)封裝，技術(shù)難度相對(duì)較小。
2023-06-09 10:49:205857 
芯片前道制造可以劃分為七個(gè)環(huán)節(jié)，即沉積、涂膠、光刻、去膠、烘烤、刻蝕、離子注入。
2023-06-08 10:57:093765 
極紫外 (EUV) 光刻系統(tǒng)是當(dāng)今使用的最先進(jìn)的光刻系統(tǒng)。本文將介紹這項(xiàng)重要但復(fù)雜的技術(shù)。
2023-06-06 11:23:54688 
上海伯東客戶某光刻機(jī)生產(chǎn)商, 生產(chǎn)的電子束光刻機(jī) Electron Beam Lithography System 最大能容納 300mmφ 的晶圓片和 6英寸的掩模版, 適合納米壓印, 光子器件
2023-06-02 15:49:40492 
中國(guó)在半導(dǎo)體芯片制造方面仍落后于美國(guó)。早在上世紀(jì)60年代，美國(guó)就開始占據(jù)世界半導(dǎo)體市場(chǎng)的絕對(duì)主導(dǎo)地位。隨著技術(shù)的不斷發(fā)展，半導(dǎo)體芯片的制造越來越精細(xì)化。從最初的65納米工程到現(xiàn)在的7納米技術(shù)開發(fā)，美國(guó)一直處于領(lǐng)先地位。
2023-06-01 10:12:43583 納米壓印技術(shù)，即Nanoimprint Lithography（NIL），是一種新型的微納加工技術(shù)。該技術(shù)將設(shè)計(jì)并制作在模板上的微小圖形，通過壓印等技術(shù)轉(zhuǎn)移到涂有高分子材料的硅基板上。
2023-05-19 09:37:47949 
EUV光刻技術(shù)仍被認(rèn)為是實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體行業(yè)持續(xù)創(chuàng)新的關(guān)鍵途徑。隨著技術(shù)的不斷發(fā)展和成熟，預(yù)計(jì)EUV光刻將在未來繼續(xù)推動(dòng)芯片制程的進(jìn)步。
2023-05-18 15:49:041790 
目前，用于制造具有復(fù)雜形狀的納米級(jí)物體的最精確的3D打印技術(shù)可能是雙光子光刻。這種方法依賴于液態(tài)樹脂，只有當(dāng)它們同時(shí)吸收兩個(gè)光子而不是一個(gè)光子時(shí)，它們才會(huì)固化。這使得能夠精確制造具有體素（相當(dāng)于像素的3D）的物體，尺寸只有幾十納米。
2023-05-17 09:59:22661 
在集成電路制造領(lǐng)域，如果說光刻機(jī)是推動(dòng)制程技術(shù)進(jìn)步的“引擎”，光刻膠就是這部“引擎”的“燃料”。
2023-05-13 11:28:381119 
壓電納米定位臺(tái)在精密定位領(lǐng)域中發(fā)揮著至關(guān)重要的作用，可集成于各類高精密裝備，為其提供納米級(jí)運(yùn)動(dòng)控制，且應(yīng)用非常廣泛，例如顯微掃描、光路調(diào)整、納米操控技術(shù)、激光干涉、納米光刻、生物科技、光通信、納米
2023-05-11 08:56:02347 
在整個(gè)芯片制造過程中，幾乎每一道工序的實(shí)施都離不開光刻技術(shù)。光刻技術(shù)也是制造芯片最關(guān)鍵的技術(shù)，占芯片制造成本的35%以上。
2023-04-26 08:57:031033 一、PCB制造基本工藝及目前的制造水平
PCB設(shè)計(jì)最好不要超越目前廠家批量生產(chǎn)時(shí)所能達(dá)到的技術(shù)水平，否則無法加工或成本過高。
1.1層壓多層板工藝
層壓多層板工藝是目前廣泛
2023-04-25 17:00:25
浮法玻璃是一種常見的玻璃制造工藝，其生產(chǎn)過程中將玻璃原料（例如硅砂、碳酸鈉、石灰石等）融化后，從玻璃熔浴上方均勻地流出，經(jīng)冷卻固化成薄片狀玻璃。這種技術(shù)可以制造出高質(zhì)量、均勻厚度的玻璃，用途廣泛。
2023-04-25 11:18:471260 根據(jù)維基百科的定義，光刻是半導(dǎo)體器件制造工藝中的一個(gè)重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在光刻膠層上刻畫幾何圖形結(jié)構(gòu)，然后通過刻蝕工藝將光掩模上的圖形轉(zhuǎn)移到所在襯底上。這里所說的襯底不僅包含硅晶圓，還可以是其他金屬層、介質(zhì)層，例如玻璃、SOS中的藍(lán)寶石。
2023-04-25 11:11:331242 
光刻技術(shù)簡(jiǎn)單來講，就是將掩膜版圖形曝光至硅片的過程，是大規(guī)模集成電路的基礎(chǔ)。目前市場(chǎng)上主流技術(shù)是193nm沉浸式光刻技術(shù)，CPU所謂30nm工藝或者22nm工藝指的就是采用該技術(shù)獲得的電路尺寸。
2023-04-25 11:02:322261 
光刻技術(shù)是將掩模中的幾何形狀的圖案轉(zhuǎn)移到覆蓋在半導(dǎo)體晶片表面的薄層輻射敏感材料（稱為抗蝕劑）上的過程
2023-04-25 09:55:131057 
光刻是在晶圓上創(chuàng)建圖案的過程，是芯片制造過程的起始階段，包括兩個(gè)階段——光掩膜制造和圖案投影。
2023-04-25 09:22:16696 
中國(guó)在芯片制造領(lǐng)域一直在追趕先進(jìn)的技術(shù)，雖然在一些關(guān)鍵技術(shù)方面還存在一定差距，但近年來中國(guó)在光刻機(jī)領(lǐng)域取得了一些進(jìn)展，下面將詳細(xì)介紹中國(guó)目前最先進(jìn)的光刻機(jī)是多少納米。
2023-04-24 15:10:0159466 核心材料是環(huán)氧樹脂和玻璃纖維，也被稱為基材。層壓板是接收構(gòu)成PCB的銅的理想主體。基板材料為PCB提供了堅(jiān)固且防塵的起點(diǎn)。銅在兩面都預(yù)先粘合在一起。該過程涉及消磨銅，以揭示薄膜中的設(shè)計(jì)。 在PCB
2023-04-21 15:55:18
151n光刻膠曝光顯影后開口底部都會(huì)有一撮殘留，找不到原因。各位幫分析下
2023-04-20 13:13:52
大家好，我正在將 FCB-EV9500M 與 imx8mm 接口。我面臨的問題是 FCB-EV9500M 是 visca 協(xié)議及其 mipi 傳感器。FCB-EV9500 不是i2c 通訊協(xié)議。有誰知道如何將這個(gè) mipi 相機(jī)與 imx8mm 接口？
2023-04-03 08:45:06
我在 MF3D(H)x3 數(shù)據(jù)表（MIFARE DESFire EV3 非接觸式多應(yīng)用 IC (nxp.com)）中讀到 DESFire EV2 EV3 的設(shè)計(jì)是為了保持向后兼容性。我想知道這是由于
2023-03-31 08:49:45
美國(guó)加州時(shí)間2023年3月27日，SEMI在《300mm晶圓廠展望報(bào)告-至2026年》（300mm Fab Outlook to 2026）中指出，全球半導(dǎo)體制造商預(yù)計(jì)2026年將增加300mm
2023-03-29 16:47:442044 
數(shù)十年來，為制造工藝制作掩模一直是半導(dǎo)體制造中的重要環(huán)節(jié)。隨著我們轉(zhuǎn)向采用5nm、3nm甚至2nm等更先進(jìn)的工藝節(jié)點(diǎn)，縮短計(jì)算光刻耗時(shí)可幫助半導(dǎo)體制造公司高效地制造芯片。作為該領(lǐng)域的先鋒企業(yè)，新思科
2023-03-25 16:40:01495 GTC 2023 NVIDIA將加速計(jì)算引入半導(dǎo)體光刻 計(jì)算光刻技術(shù)提速40倍 NVIDIA cuLitho的計(jì)算光刻庫可以將計(jì)算光刻技術(shù)提速40倍。這對(duì)于半導(dǎo)體制造而言極大的提升了效率。甚至可以說
2023-03-23 18:55:377488 
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