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      電子發燒友網>今日頭條>華為何時能造出自己的芯片，光刻機是首要的解決問題

      華為何時能造出自己的芯片，光刻機是首要的解決問題

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      2023-08-23 10:33:46798

      ASML如何能干掉兩個行業巨頭，進而成為壟斷EUV領域的光刻巨人

      光刻機有半導體工業“皇冠上的明珠“之稱，是高速生產芯片所需要的最關鍵和最復雜的設備之一（一臺光刻機有10萬個組件）。目前全世界的高端光刻機被荷蘭公司ASML壟斷（中低端產品美國、日本和中國均能生產），而絕大部分的組件供應商又被美國控制。
      2023-08-21 16:09:33472

      芯片制造的國產化任重道遠

      芯片制造的國產化任重道遠，比如在EDA工具的國產化、光刻機等，國產化都還有很長的路要走。有統計數據顯示，目前階段我國在清洗、熱處理、去膠設備的國產化率分別達到34％、40％、90％，在涂膠顯影、刻蝕
      2023-08-09 11:50:204182

      EUV光刻DDR5內存狂飆 單條1TB不是夢

      隨著制程工藝的進步，DRAM內存芯片也面臨著CPU/GPU一樣的微縮難題，解決辦法就是上EUV光刻機，但是設備實在太貴，現在還要榨干DUV工藝最后一滴，DDR5內存有望實現單條1TB。
      2023-07-31 17:37:07875

      EUV***市場：增長趨勢、競爭格局與前景展望

      EUV（Extreme Ultraviolet）光刻機是一種高級光刻設備，用于半導體制造業中的微電子芯片生產。EUV光刻機是目前最先進的光刻技術之一，它采用極端紫外光作為曝光光源，具有更短的波長
      2023-07-24 18:19:471095

      深紫外光刻復雜照明光學系統設計

      摘要 ：隨著微電子產業的迅猛發展，我國迫切需要研制極大規模集成電路的加工設備-光刻機。曝光波長為193nm的投影式光刻機因其技術成熟、曝光線寬可延伸至32nm節點的優勢已成為目前光刻領域的主流設備
      2023-07-17 11:02:38592

      ASML：沒向中國推出特別版***

      特別版的光刻機。 荷蘭政府的限制先進半導體設備出口新規將于9月1日生效。這一事件引發了市場猜測ASML可能會發布其TWINSCAN NXT:1980系列DUV光刻工具的調整版，以減輕對中國芯片制造商的影響，并滿足荷蘭禁止向中國客戶出口28納米以下工藝制造的要求。 目前全球絕大
      2023-07-07 12:32:371112

      光刻掩膜版測溫儀，光刻機曝光光學系統測溫儀

      GK-1000光刻掩膜版測溫儀，光刻機曝光光學系統測溫儀光刻機是一種用于微納米加工的設備，主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS（微機電系統）等微細結構。光刻機是一種光學投影技術，通過將光線通過
      2023-07-07 11:46:07

      ASML 將向中國推出“特供版”DUV ***；英偉達或將部分AI GPU訂單外包三星

      半導體企業可以繼續使用荷蘭的設備生產 28 納米及更成熟工藝的芯片。 消息稱該特別版 DUV 光刻機基于 Twinscan NXT: 1980Di 光刻系統改造，而 1980Di 是 10?年前推出
      2023-07-06 16:45:01924

      荷蘭實施半導體出口管制 ASML***DUV系統需要許可證

      荷蘭實施半導體出口管制 ASML光刻機DUV系統需要許可證 芯片戰愈演愈烈。荷蘭正式實施半導體出口管制條款，這將對光刻機巨頭阿斯麥（ASML）產生更多影響。ASML的EUV光刻系統在此前已經
      2023-07-01 17:38:19669

      ***技術有多難搞？我國***發展現狀

      搞光刻機必須要有搞核彈的精神，但只有這種精神是不夠的！光刻機畢竟不是核彈，光刻機從試驗機改良成量產機，需要與產線相結合試驗生產，這些步驟是不可能秘密進行的。
      2023-06-27 15:50:0810752

      光刻中承上啟下的半導體掩膜版

      電子發燒友網報道（文/周凱揚）在上游的半導體制造產業中，除了光刻機等設備外，光刻膠、掩膜版等材料也是決定晶圓質量與良率的關鍵因素。就拿掩膜版來說，這個承載設計圖形的材料，經過曝光后將圖形信息轉移到
      2023-06-22 01:27:001984

      GPT-4已經會自己設計芯片了嗎？

      ? GPT-4已經會自己設計芯片了！芯片設計行業的一個老大難問題HDL，已經被GPT-4順利解決。并且，它設計的130nm芯片，已經成功流片。 GPT-4，已經可以幫人類造芯片了！ 只用簡單的英語
      2023-06-20 11:51:12547

      ASML無視美國禁令出貨400臺***

      因此光刻機對芯片制造非常重要，它是影響芯片制造質量和效率的重要因素。縱觀全球光刻機市場，荷蘭ASML公司一家獨大，占據全球80%的光刻機市場份額，高端EUV光刻機的市占比更是達到100%。
      2023-06-20 11:42:271258

      超級全面！一文看懂***：MEMS傳感器及芯片制造的最核心設備

      文章大綱 光刻是芯片制造最核心環節，大陸自給率亟待提升 ·光刻機是芯片制造的核心設備，市場規模全球第二 ·一超兩強壟斷市場，大陸卡脖子現象凸顯 光刻機：多個先進系統的組合，核心零部件被海外廠商壟斷
      2023-06-19 10:04:008364

      ASML***發展歷程 ***核心系統設計流程

      光刻機可分為前道光刻機和后道光刻機。光刻機既可以用在前道工藝，也可以用在后道工藝，前道光刻機用于芯片的制造，曝光工藝極其復雜，后道光刻機主要用于封裝測試，實現高性能的先進封裝，技術難度相對較小。
      2023-06-15 11:14:533429

      芯片制造中人類科技之巔的設備---***

      光刻機是芯片制造中最復雜、最昂貴的設備。芯片制造可以包括多個工藝，如初步氧化、涂光刻膠、曝光、顯影、刻蝕、離子注入。這個過程需要用到的設備種類繁多，包括氧化爐、涂膠顯影機、光刻機、薄膜沉積設備、刻蝕
      2023-06-12 10:13:334452

      芯片制造之光刻工藝詳細流程圖

      光刻機可分為前道光刻機和后道光刻機。光刻機既可以用在前道工藝，也可以用在后道工藝，前道光刻機用于芯片的制造，曝光工藝極其復雜，后道光刻機主要用于封裝測試，實現高性能的先進封裝，技術難度相對較小。
      2023-06-09 10:49:205857

      極紫外光刻隨機效應的表現及產生原因

      夠高同樣以3400B來說，該EUV光刻機的生產效率是每小時125片晶圓，還不到DUV光刻機生產效率的一半。 　　隨機效應嚴重DUV時代就存在，但對芯片制造影響不大，因此被芯片代工廠忽略。但在EUV時代，該問題開始嚴重影響芯片的良率，隨芯片工藝尺寸越來越小，隨機效應越發明顯
      2023-06-08 15:56:42283

      【熱點】2023年了，我國***發展怎么樣了？

      。因此，如果芯片廠商想要生產10nm以下的芯片，必須得有ASML供應的EUV光刻機及相應的支持服務。目前最先進的EUV光刻機能制造小于7nm制程的芯片，每臺能賣到
      2023-06-08 14:55:0020068

      芯片制造光刻步驟詳解

      芯片前道制造可以劃分為七個環節，即沉積、涂膠、光刻、去膠、烘烤、刻蝕、離子注入。
      2023-06-08 10:57:093765

      2023年Q1全球芯片市場分析 芯片行業何時走出“寒冬”？

      2023年第一季度全球芯片銷售額為1195 億美元，環比下降8.7%，同比下降了21.3%。那么，芯片行業的“寒風”還會吹多久？芯片行業何時走出“寒冬”？
      2023-06-08 10:52:511068

      首個量子芯片生產線獲“超視力”

      由于美國的干涉，asml的極紫外線光刻機無法出口到中國，甚至深度紫外線光刻機也受到了限制。很明顯，美國不會放松對 EUV光刻機的出口限制。
      2023-06-01 10:43:441552

      樂趣探索不一樣的計算光刻

      之前的小講堂有介紹過，光刻過程就好比用照相機拍照，將掩模版上的芯片設計版圖曝光到晶圓上，從而制造出微小的電路結構。ASML光刻機的鏡片組使用極其精密的加工手段制造，使得最終像差被控制在納米級別，才能穩定地通過曝光印刷微電路。
      2023-05-25 10:13:28497

      什么是EUV***？

      需要明確什么是EUV光刻機。它是一種采用極紫外線光源進行曝光的設備。與傳統的ArF光刻機相比，EUV光刻機可以將曝光分辨率提高到7納米以下的超高級別，從而實現更高清晰度和更高性能的芯片制造。
      2023-05-22 12:48:373985

      專家稱***只占20%芯片制造：并非最重要的

      不僅是國內的網友這么認為，唯光刻機論在海外也很有市場，似乎大部分網友都是這樣想的，已經到了神化ASML的地步了，只要提到芯片制造就會強調光刻機會卡脖子，而有了光刻機，臺積電這樣的公司就能隨便復制一樣。
      2023-05-15 11:10:271112

      一文講透光刻膠及芯片制造關鍵技術

      在集成電路制造領域，如果說光刻機是推動制程技術進步的“引擎”，光刻膠就是這部“引擎”的“燃料”。
      2023-05-13 11:28:381119

      2023年中國***現狀

      2023年中國光刻機現狀是什么樣的呢？自從2018年以來，我國開始被美國各種手段制裁，光刻機被卡脖子，美國不讓荷蘭賣先進的光刻機給我們，這也讓這些年來無數國人關注光刻機的研發進度。
      2023-05-10 16:24:1521220

      NVIDIA H100 GPU為2nm芯片加速計算光刻！

      現代工藝技術將晶圓廠設備要求推向極限，需要實現突破其物理極限的高分辨率，這正是計算光刻技術發揮作用的地方。計算光刻就是為芯片生產制作光掩模的技術，它結合來自ASML設備和測試晶圓的關鍵數據，是一個模擬生產過程的算法。
      2023-04-26 10:05:29918

      淺談光刻技術

      在整個芯片制造過程中，幾乎每一道工序的實施都離不開光刻技術。光刻技術也是制造芯片最關鍵的技術，占芯片制造成本的35%以上。
      2023-04-26 08:57:031033

      光刻技術的原理及發展前景分析

      光刻就是把芯片制作所需要的線路與功能區做出來。利用光刻機發出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會發生性質變化，從而使光罩上得圖形復印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用
      2023-04-25 11:05:322260

      計算光刻技術有多重要？計算光刻如何改變2nm芯片制造？

      光刻是在晶圓上創建圖案的過程，是芯片制造過程的起始階段，包括兩個階段——光掩膜制造和圖案投影。
      2023-04-25 09:22:16696

      負光刻膠顯影殘留原因

      151n光刻膠曝光顯影后開口底部都會有一撮殘留，找不到原因。各位幫分析下
      2023-04-20 13:13:52

      別再只盯著***了！自動化測試對于芯片制造同樣重要

      行業調研數據顯示，芯片行業的產值和營收一直在不斷提高，同時其地位受到大眾的關注。光刻機在芯片領域當然獨占鰲頭，但一顆芯片的成功不只取決于光刻部分，測試對芯片的質量更有不容忽視的意義。不論是更小尺寸
      2023-04-14 09:48:15686

      中國能不能造出頂級***

      光刻機是半導體工業中非常重要的設備，用于在半導體芯片制造過程中將芯片圖形化。由于光刻機的精度和性能要求非常高，其制造難度也相對較大，目前市場上僅有少數幾家公司能夠生產出頂級光刻機。那么，中國能否造出頂級光刻機呢？
      2023-04-07 13:35:244597

      音圈電機模組在主流光刻掩模臺系統中的應用

      光刻機是芯片智造的核心設備之一，也是當下尤為復雜的精密儀器之一。正因為此，荷蘭光刻機智造商阿斯麥通研制的EUV光刻機才會“千金難求”。 很多人都對光刻機有所耳聞，但其實不同光刻機的用途并不
      2023-04-06 08:56:49679

      快訊：華為2023年全面驗證14nm以上EDA 美國芯片法案限制細則公布

      設計EDA工具團隊聯合國內EDA企業，共同打造了14nm以上工藝所需EDA工具，基本實現了14nm以上EDA工具國產化，預計2023年將完成對其全面驗證。 此外，華為的MetaERP將會完全用自己的操作系統、數據庫、編譯器和語言，做出自己的管理系統MetaERP軟件。 美國芯片法案限制
      2023-03-27 16:27:184778

      被卡脖子的半導體設備（萬字深度報告）

      光刻是將設計好的電路圖從掩膜版轉印到晶圓表面的光刻膠上，通過曝光、顯影將目標圖形印刻到特定材料上的技術。光刻工藝包括三個核心流程：涂膠、對準和曝光以及光刻膠顯影，整個過程涉及光刻機，涂膠顯影機、量測設備以及清洗設備等多種核心設備，其中價值量最大且技術壁壘最高的部分就是光刻機。
      2023-03-25 09:32:394950

      GTC 2023 NVIDIA將加速計算引入半導體光刻 計算光刻技術提速40倍

      為2nm及更先進芯片的生產提供更強大的助力。 計算光刻是芯片設計和制造領域中最大的計算工作負載，每年消耗數百億CPU小時。而NVIDIA cuLitho計算光刻庫利用GPU技術實現計算光刻，可以極大的降低功耗、節省時間。 目前臺積電、光刻機制造商阿斯麥，以及EDA巨頭新思科技都已經導入
      2023-03-23 18:55:377488

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