電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/李寧遠）提及芯片制造，首先想到的自然是光刻機和光刻技術(shù)。而眾所周知，EUV光刻機產(chǎn)能有限而且成本高昂，業(yè)界一直都在探索不完全依賴于EUV光刻機來生產(chǎn)高端芯片的技術(shù)和工藝。納米
2024-03-09 00:15:00
2911 電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/李彎彎）近期，各大視頻平臺瘋傳一條消息，稱清華大學(xué)EUV項目，把ASML的光刻機巨大化，實現(xiàn)了光刻機國產(chǎn)化，并表示這個項目已經(jīng)在雄安新區(qū)落地，還在視頻中配了下面這張圖，表示圖片
2023-09-20 08:56:502576 
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/李寧遠）不久前，英特爾正式發(fā)布了一款硅自旋量子芯片，命名為“Tunnel Falls”。這也是繼去年10月英特爾宣布成功以現(xiàn)有硅半導(dǎo)體技術(shù)生產(chǎn)自旋量子計算芯片之后發(fā)布的迄今為止
2023-07-23 10:56:401997 
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/李寧遠）提及芯片制造技術(shù)，首先想到的自然是光刻機和光刻技術(shù)。眾所周知在芯片行業(yè)，光刻是芯片制造過程中最重要、最繁瑣、最具挑戰(zhàn)也最昂貴的一項工藝步驟。在光刻機的支持下，摩爾定律
2023-07-16 01:50:153008 
據(jù)傳感器專家網(wǎng)獲悉，3月11日，廣州增芯科技有限公司12英寸先進智能傳感器及特色工藝晶圓制造量產(chǎn)線項目在廣州增城開發(fā)區(qū)舉行光刻機搬入活動，標志著增芯項目順利進入調(diào)試投產(chǎn)準備階段。 據(jù)悉， 增芯項目
2024-03-22 18:10:3815 光刻機經(jīng)歷了5代產(chǎn)品發(fā)展，每次改進和創(chuàng)新都顯著提升了光刻機所能實現(xiàn)的最小工藝節(jié)點。按照使用光源依次從g-line、i-line發(fā)展到KrF、ArF和EUV；按照工作原理依次從接觸接近式光刻機發(fā)展到浸沒步進式投影光刻機和極紫外式光刻機。
2024-03-21 11:31:4142 
量子技術(shù)作為未來產(chǎn)業(yè)如何上“新”，硅臻芯片給出了自己的答案。硅臻芯片抓住光量子集成芯片方向，始終錨定關(guān)鍵量子器件芯片化目標，用實用量子芯片為量子科技新賽道的產(chǎn)業(yè)化道路提供抓手。
2024-03-19 16:01:55373 
EUV 光刻機持續(xù)更新升級，未來目標在 2025 年推出 NXE:4000F 機型。 上兩代 NXE 系列機型 3400C 和 3600D 分別適合 7~5、5~3 納米節(jié)點生產(chǎn)，德媒 ComputerBase 因此預(yù)測 3800E 有望支持 3~2
2024-03-14 08:42:345 
首先感謝發(fā)燒友提供的試讀機會。 略讀一周，感觸頗深。首先量子計算機作為一種前沿技術(shù)，正逐步展現(xiàn)出其巨大的潛力，預(yù)示著未來社會和技術(shù)領(lǐng)域的深刻變革。下面，我將從幾個方面探討量子計算機如何重構(gòu)我們
2024-03-13 19:28:09
計算機無法解決或需要花費巨大時間和資源才能解決的問題，從而推動科學(xué)技術(shù)的發(fā)展，改變我們的生活方式。雖然目前仍面臨諸多挑戰(zhàn)，但科學(xué)家們正在努力克服這些障礙，相信量子計算機的實現(xiàn)將會給我們帶來深遠的影響。
2024-03-13 18:18:29
如何生產(chǎn)制造。。。。。。
近來通過閱讀《量子計算機—重構(gòu)未來》一書，結(jié)合網(wǎng)絡(luò)資料，了解了一點點量子疊加知識，分享給大家。
先提一下電子計算機，電子計算機使用二進制表示信息數(shù)據(jù)，二進制的信息單位是比特（bit
2024-03-13 17:19:18
本書內(nèi)容從目錄可以看出本書主要是兩部分內(nèi)容，一部分介紹量子計算機原理，一部分介紹其應(yīng)用。 其實個人也是抱著對這兩個問題的興趣來看的。 究竟什么是量子計算機相信很多讀者都是抱著這個疑問
2024-03-11 12:50:10
很高興，有可以有書看了。
對量子計算感興趣，要從大概10年前說起了，雖然我之前從事的工作跟計算關(guān)系不是很直接。
但是，后來隨著接觸的任何事情越來越多，才發(fā)現(xiàn)，原來很多事情都可以交給機器做了。
于是
2024-03-10 16:33:46
據(jù)荷蘭《電訊報》3月6日報道，因荷蘭政府的反移民政策傾向，光刻機巨頭阿斯麥（ASML）正計劃搬離荷蘭。
2024-03-08 14:02:15179 在曝光過程中，掩模版與涂覆有光刻膠的硅片直接接觸。接觸式光刻機的縮放比為1:1，分辨率可達到4-5微米。由于掩模和光刻膠膜層反復(fù)接觸和分離，隨著曝光次數(shù)的增加，會引起掩模版和光刻膠膜層損壞、芯片良率下降等不良后果。
2024-03-08 10:42:3788 
近日，光刻機巨頭ASML傳出可能因荷蘭政府的反移民政策傾向而考慮遷離本國的消息，這令業(yè)界嘩然。據(jù)悉，荷蘭政府為阻止這一可能發(fā)生的變故，已專門成立了由首相馬克·呂特親自掛帥的“貝多芬計劃”特別工作組。
2024-03-07 15:36:51209 本帖最后由 oxlm_1 于 2024-3-6 23:20 編輯
之所以將第二章單獨拿出來，是因為在閱讀過程中，發(fā)現(xiàn)第二章知識點較多，理解起來比較耗時間。
第二章的主要知識點：
量子
2024-03-06 23:17:41
英特爾最近因決定從荷蘭 ASML 購買世界上第一臺高數(shù)值孔徑(High-NA)光刻機而成為新聞焦點。到目前為止，英特爾是全球唯一一家訂購此類光刻機的晶圓廠，據(jù)報道它們的售價約為3.8億美元
2024-03-06 14:49:01162 
利用光刻機發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會發(fā)生性質(zhì)變化，從而使光罩上得圖形復(fù)印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用。
2024-03-06 14:28:5062 
欣喜收到《量子計算機——重構(gòu)未來》一書，感謝電子發(fā)燒友論壇提供了一個讓我了解量子計算機的機會！
自己對電子計算機有點了解，但對量子計算機真是一無所知，只是聽說過量子糾纏、超快的運算速度等等，越發(fā)
2024-03-05 17:37:23
ASML在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中扮演著舉足輕重的角色，其光刻機技術(shù)和市場地位對于全球半導(dǎo)體制造廠商來說都具有重要意義。
2024-03-05 11:26:00123 本帖最后由 oxlm_1 于 2024-3-4 23:24 編輯
非常感謝能有這次機會參與《量子計算機重構(gòu)未來》這本書的試讀活動。當看到這本書的測評時，首先好奇的是，量子計算機能做什么，為此
2024-03-04 23:09:44
光刻膠是一種涂覆在半導(dǎo)體器件表面的特殊液體材料，可以通過光刻機上的模板或掩模來進行曝光。
2024-03-04 17:19:18399 抓住科技前沿，就是找到人類未來不遠了。學(xué)習(xí)了解量子技術(shù)，為人類創(chuàng)造價值。
2024-02-02 13:54:29
來源：DIGITIMES ASIA 佳能預(yù)計其納米壓印光刻機將于今年出貨，與ASML的EVU設(shè)備競爭市場，因為世界各地的經(jīng)濟體都熱衷于擴大其本土芯片產(chǎn)能。 佳能董事長兼首席執(zhí)行官Hiroaki
2024-02-01 15:42:05270 
了解量子計算機對于工業(yè)生產(chǎn)和產(chǎn)品研發(fā)的使用
2024-02-01 15:30:35
自己從事語音識別產(chǎn)品設(shè)計開發(fā)，而量子技術(shù)和量子計算機必將在自然語言處理方面實現(xiàn)重大突破，想通過此書學(xué)習(xí)量子計算技術(shù)，儲備知識，謝謝！
2024-02-01 12:51:50
量子計算，神奇神秘，多多學(xué)習(xí)，與時俱進！
2024-02-01 09:05:53
光刻機是微電子制造的關(guān)鍵設(shè)備，廣泛應(yīng)用于集成電路、平面顯示器、LED、MEMS等領(lǐng)域。在集成電路制造中，光刻機被用于制造芯片上的電路圖案。
2024-01-29 09:37:24359 
、工作方式和其實際應(yīng)用進行說明。第 3 章主要介紹在汽車行業(yè)及其他制造業(yè)中，量子計算機未來將引起怎樣的變化，并根據(jù)實證實驗的事例進行說明。第 4 章給出了細分領(lǐng)域的多家企業(yè)人士采訪實錄，從他們所處領(lǐng)域的角度
2024-01-26 14:00:46
來源：AIot工業(yè)檢測，謝謝 編輯：感知芯視界 Link 隨著芯片需求的不斷增長，芯片制造商正加大采購晶圓廠設(shè)備的力度，以提高產(chǎn)能。作為EUV光刻機制造商，ASML受益于這一趨勢，其2023
2024-01-26 09:20:12409 關(guān)于光刻機，大家還記得美國荷蘭日本的三方協(xié)議嗎？來回憶一下。 隨著芯片在各個領(lǐng)域的重要性不斷提升，人們對芯片制造的關(guān)注也日益增加。 但半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈非常復(fù)雜，不僅僅涉及到底層的架構(gòu)設(shè)計，還需要通過
2024-01-17 17:56:59292 什么是光電量子計算芯片？ 光電量子計算芯片，也被稱為光子量子計算芯片，是一種新型的計算芯片，利用光子來存儲和處理信息。它的核心原理是基于光子的量子疊加性和量子糾纏性質(zhì)，通過精確控制光子攜帶的信息
2024-01-09 14:42:01241 在10-11月份中國進口ASML的光刻機激增10多倍后，美國官員聯(lián)系了荷蘭政府。荷蘭外交發(fā)言人表示，出口許可證是根據(jù)荷蘭國家安全逐案評估的。
2024-01-03 15:22:24553 1. ASML 聲明：2050 及2100 光刻機出口許可證已被部分撤銷 ? ASML日前發(fā)表聲明，稱荷蘭政府最近部分撤銷了此前頒發(fā)的NXT:2050i and NXT:2100i光刻機在2023
2024-01-02 11:20:33934 
如果我們假設(shè)光刻機成本為 3.5 億至 4 億美元，并且 2024 年 10 個光刻機的HIGH NA 銷售額將在 35億至40億美元之間。
2023-12-28 11:31:39406 從路線圖上可以清晰地看到，IBM對于量子比特的未來充滿信心，相信在未來的某個時刻，量子比特的限制將不再是制約量子計算機規(guī)模的關(guān)鍵因素。
2023-12-26 14:34:03151 
，常見的量子計算芯片中，無論是超導(dǎo)、離子阱，還是光子芯片，都是肉眼可見的。而原子級量子集成電路，則需要通過掃描隧道顯微鏡等工具才能一探究竟。
2023-12-21 09:58:00300 
光刻與光刻機
?對準和曝光在光刻機(Lithography Tool)內(nèi)進行。
?其它工藝在涂膠顯影機(Track)上進行。
光刻機結(jié)構(gòu)及工作原理
?光刻機簡介
?光刻機結(jié)構(gòu)及工作原理
2023-12-19 09:28:00245 
歡迎了解 光刻機（Lithography Machine）是一種半導(dǎo)體工業(yè)中常用的設(shè)備，用于將掩模版上的芯片電路圖轉(zhuǎn)移到硅片上，是IC制造的核心環(huán)節(jié)，光刻機的基本工作原理是利用光學(xué)原理將圖案投射
2023-12-18 08:42:12278 
光學(xué)模型是基于霍普金斯（Hopkins）光學(xué)成像理論，預(yù)先計算出透射相交系數(shù)（TCCs），從而描述光刻機的光學(xué)成像。光學(xué)模型中，經(jīng)過優(yōu)化的光源，通過光刻機的照明系統(tǒng)，照射在掩模上。如果在實際光刻
2023-12-11 11:35:32288 
讓量子計算機走出實驗室真正為人類社會服務(wù)量子芯片載板是量子芯片封裝中不可或缺的一部分，量子芯片的載板就好比城市的‘地基’，它能夠為半導(dǎo)體量子芯片提供基礎(chǔ)支撐和信號連接，其上集成的電路和器件可有效提升
2023-12-08 15:51:30211 
IBM展示了一款新的量子運算芯片Heron和量子運算系統(tǒng)Quantum System Two，該公司希望這款芯片和機器能在10年后成為更大系統(tǒng)的基石。據(jù)悉，量子運算系統(tǒng)Quantum System Two將搭載3個Heron量子運算芯片。
2023-12-05 10:27:30194 光刻工藝就是把芯片制作所需要的線路與功能做出來。利用光刻機發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會發(fā)生性質(zhì)變化，從而使光罩上得圖形復(fù)印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用
2023-12-04 09:17:241334 
介紹了光量子芯片在未來實現(xiàn)可實用化大規(guī)模光量子計算與信息處理應(yīng)用方面展示出巨大潛力，并對硅基集成光量子芯片技術(shù)進行介紹。
2023-11-30 10:33:07673 
超導(dǎo)量子芯片是超導(dǎo)量子計算機的核心，超導(dǎo)量子芯片技術(shù)也是超級核心技術(shù)，我國首枚超導(dǎo)量子芯片日前已經(jīng)正式交付。推動了全球量子計算產(chǎn)業(yè)鏈的共同繁榮。 這家企業(yè)是國內(nèi)量子計算行業(yè)內(nèi)最快完成國際化市場布局
2023-11-29 18:49:33922 雕刻電路圖案的核心制造設(shè)備是光刻機，它的精度決定了制程的精度。光刻機的運作原理是先把設(shè)計好的芯片圖案印在掩膜上，用激光穿過掩膜和光學(xué)鏡片，將芯片圖案曝光在帶有光刻膠涂層的硅片上，涂層被激光照到之處則溶解，沒有被照到之處保持不變，掩膜上的圖案就被雕刻到芯片光刻膠涂層上。
2023-11-24 12:27:061280 
讓量子計算機走出實驗室真正為人類社會服務(wù)芯片設(shè)計離不開EDA軟件，傳統(tǒng)芯片卡脖子‘第一槍’就是從EDA軟件‘打響’的，當時國外公司關(guān)閉了EDA對中國用戶的供應(yīng)。EDA是指利用計算機輔助設(shè)計軟件來完成
2023-11-23 08:22:18218 EUV曝光是先進制程芯片制造中最重要的部分，占據(jù)總時間、總成本的一半以上。由于這種光刻機極為復(fù)雜，因此ASML每年只能制造約60臺，而全球5家芯片制造商都依賴ASML的EUV光刻機，包括英特爾、美光、三星、SK海力士、臺積電。目前，AMSL約有70%的EUV光刻機被臺積電購買。
2023-11-22 16:46:56383 據(jù)了解，量子芯片是利用量子力學(xué)原理實現(xiàn)信息的存儲、處理和計算，其最核心的是量子比特。相比傳統(tǒng)的比特只能存儲0或1兩種狀態(tài)，量子比特可以同時處于0和1這兩種狀態(tài)的疊加態(tài)，這使得量子芯片能夠?qū)崿F(xiàn)并行計算和高效的信息處理。
2023-11-20 14:42:34478 
顛覆性技術(shù)!半導(dǎo)體行業(yè)再放大招! 近日，日本佳能官方發(fā)布 納米壓印(NIL)半導(dǎo)體制造設(shè)備 未來，或?qū)⑻娲鶤SML光刻機 成為更低成本的芯片制造設(shè)備! 要知道，半導(dǎo)體是目前全球經(jīng)濟的核心，在中國
2023-11-08 15:57:14199 
摘要 玻璃基集成光量子芯片已經(jīng)應(yīng)用于量子計算、量子模擬、量子通信、量子精密測量等光量子信息處理領(lǐng)域，顯示出強大的功能。文章從量子計算和量子模擬兩個方面介紹利用飛秒激光三維高精度直寫技術(shù)在玻璃
2023-10-25 10:04:02507 
大家好，我是硬件花園，一名樂于分享的硬件工程師。關(guān)注我，了解更多精彩內(nèi)容！ 近日，華中科技大學(xué)劉世元教授團隊成功打破國外壟斷，成功研發(fā)中國首款完全自主可控的OPC芯片光刻軟件。 沒有它，即使有光刻機
2023-10-20 08:44:011482 
當制程節(jié)點演進到5nm時，DUV和多重曝光技術(shù)的組合也難以滿足量產(chǎn)需求了，EUV光刻機就成為前道工序的必需品了，沒有它，很難制造出符合應(yīng)用需求的5nm芯片，即使不用EUV能制造出一些5nm芯片，其整個生產(chǎn)線的良率也非常低，無法形成大規(guī)模的商業(yè)化生產(chǎn)。
2023-10-13 14:45:03834 
UV光刻機一般可以分為5種，即：接觸式光刻機，接近式光刻機，掃描投影式光刻機
2023-09-19 11:32:521303 
在芯片制造過程中，光刻機用于在硅片上形成光刻膠圖形，作為制造電路的模板。光刻機使用紫外光或其他光源照射硅片上的光刻膠，并通過投影光學(xué)系統(tǒng)將圖形投射到硅片上，以形成所需的微小結(jié)構(gòu)和圖案。
2023-09-12 14:34:372324 光刻是半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)流程中最復(fù)雜、最關(guān)鍵的工藝步驟，耗時長、成本高。半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)的難點和關(guān)鍵點在于將電路圖從掩模上轉(zhuǎn)移至硅片上，這一過程通過光刻來實現(xiàn)， 光刻的工藝水平直接決定芯片的制程水平和性能水平。
2023-08-23 10:47:531585 
光刻機有半導(dǎo)體工業(yè)“皇冠上的明珠“之稱，是高速生產(chǎn)芯片所需要的最關(guān)鍵和最復(fù)雜的設(shè)備之一（一臺光刻機有10萬個組件）。目前全世界的高端光刻機被荷蘭公司ASML壟斷（中低端產(chǎn)品美國、日本和中國均能生產(chǎn)），而絕大部分的組件供應(yīng)商又被美國控制。
2023-08-21 16:09:33472 電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/周凱揚）離商用上真正可行的量子計算機成熟至少也還需要幾年的時間，但已經(jīng)開始有人質(zhì)疑，目前的EDA工具是否可以滿足量子芯片的設(shè)計需求？這是因為量子計算的設(shè)計，有時會對傳統(tǒng)的半導(dǎo)體
2023-08-14 09:32:411348 芯片制造的國產(chǎn)化任重道遠，比如在EDA工具的國產(chǎn)化、光刻機等，國產(chǎn)化都還有很長的路要走。有統(tǒng)計數(shù)據(jù)顯示，目前階段我國在清洗、熱處理、去膠設(shè)備的國產(chǎn)化率分別達到34％、40％、90％，在涂膠顯影、刻蝕
2023-08-09 11:50:204182 隨著制程工藝的進步，DRAM內(nèi)存芯片也面臨著CPU/GPU一樣的微縮難題，解決辦法就是上EUV光刻機，但是設(shè)備實在太貴，現(xiàn)在還要榨干DUV工藝最后一滴，DDR5內(nèi)存有望實現(xiàn)單條1TB。
2023-07-31 17:37:07875 
半導(dǎo)體技術(shù)的未來通常是通過光刻設(shè)備的鏡頭來看待的，盡管高度挑戰(zhàn)性的技術(shù)問題幾乎永無休止，但光刻設(shè)備仍繼續(xù)為未來的工藝節(jié)點提供更好的分辨率。
2023-07-28 17:41:161130 
EUV（Extreme Ultraviolet）光刻機是一種高級光刻設(shè)備，用于半導(dǎo)體制造業(yè)中的微電子芯片生產(chǎn)。EUV光刻機是目前最先進的光刻技術(shù)之一，它采用極端紫外光作為曝光光源，具有更短的波長
2023-07-24 18:19:471095 摘要 ：隨著微電子產(chǎn)業(yè)的迅猛發(fā)展，我國迫切需要研制極大規(guī)模集成電路的加工設(shè)備-光刻機。曝光波長為193nm的投影式光刻機因其技術(shù)成熟、曝光線寬可延伸至32nm節(jié)點的優(yōu)勢已成為目前光刻領(lǐng)域的主流設(shè)備
2023-07-17 11:02:38592 
GK-1000光刻掩膜版測溫儀，光刻機曝光光學(xué)系統(tǒng)測溫儀光刻機是一種用于微納米加工的設(shè)備，主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS（微機電系統(tǒng)）等微細結(jié)構(gòu)。光刻機是一種光學(xué)投影技術(shù)，通過將光線通過
2023-07-07 11:46:07
電子發(fā)燒友網(wǎng)報道（文/周凱揚）在上游的半導(dǎo)體制造產(chǎn)業(yè)中，除了光刻機等設(shè)備外，光刻膠、掩膜版等材料也是決定晶圓質(zhì)量與良率的關(guān)鍵因素。就拿掩膜版來說，這個承載設(shè)計圖形的材料，經(jīng)過曝光后將圖形信息轉(zhuǎn)移到
2023-06-22 01:27:001984 因此光刻機對芯片制造非常重要，它是影響芯片制造質(zhì)量和效率的重要因素。縱觀全球光刻機市場，荷蘭ASML公司一家獨大，占據(jù)全球80%的光刻機市場份額，高端EUV光刻機的市占比更是達到100%。
2023-06-20 11:42:271258 文章大綱 光刻是芯片制造最核心環(huán)節(jié)，大陸自給率亟待提升 ·光刻機是芯片制造的核心設(shè)備，市場規(guī)模全球第二 ·一超兩強壟斷市場，大陸卡脖子現(xiàn)象凸顯 光刻機：多個先進系統(tǒng)的組合，核心零部件被海外廠商壟斷
2023-06-19 10:04:008367 
研發(fā)的最先進的硅自旋量子比特芯片，利用了英特爾數(shù)十年來積累的晶體管設(shè)計和制造能力。 在英特爾的晶圓廠里，Tunnel Falls是在300毫米的硅晶圓上生產(chǎn)的，利用了英特爾領(lǐng)先的晶體管工業(yè)化制造能力，如極紫外光刻技術(shù)（EUV），以及柵極和接觸層加工技術(shù)。在硅自旋量子比特中，信息（0/1）被編碼
2023-06-17 10:15:03417 
光刻機可分為前道光刻機和后道光刻機。光刻機既可以用在前道工藝，也可以用在后道工藝，前道光刻機用于芯片的制造，曝光工藝極其復(fù)雜，后道光刻機主要用于封裝測試，實現(xiàn)高性能的先進封裝，技術(shù)難度相對較小。
2023-06-15 11:14:533429 
光刻機是芯片制造中最復(fù)雜、最昂貴的設(shè)備。芯片制造可以包括多個工藝，如初步氧化、涂光刻膠、曝光、顯影、刻蝕、離子注入。這個過程需要用到的設(shè)備種類繁多，包括氧化爐、涂膠顯影機、光刻機、薄膜沉積設(shè)備、刻蝕
2023-06-12 10:13:334452 
光刻機可分為前道光刻機和后道光刻機。光刻機既可以用在前道工藝，也可以用在后道工藝，前道光刻機用于芯片的制造，曝光工藝極其復(fù)雜，后道光刻機主要用于封裝測試，實現(xiàn)高性能的先進封裝，技術(shù)難度相對較小。
2023-06-09 10:49:205857 
夠高同樣以3400B來說，該EUV光刻機的生產(chǎn)效率是每小時125片晶圓，還不到DUV光刻機生產(chǎn)效率的一半。
隨機效應(yīng)嚴重DUV時代就存在，但對芯片制造影響不大，因此被芯片代工廠忽略。但在EUV時代，該問題開始嚴重影響芯片的良率，隨芯片工藝尺寸越來越小，隨機效應(yīng)越發(fā)明顯
2023-06-08 15:56:42283 
。因此，如果芯片廠商想要生產(chǎn)10nm以下的芯片，必須得有ASML供應(yīng)的EUV光刻機及相應(yīng)的支持服務(wù)。目前最先進的EUV光刻機能制造小于7nm制程的芯片，每臺能賣到
2023-06-08 14:55:0020068 
芯片前道制造可以劃分為七個環(huán)節(jié)，即沉積、涂膠、光刻、去膠、烘烤、刻蝕、離子注入。
2023-06-08 10:57:093765 
由于美國的干涉，asml的極紫外線光刻機無法出口到中國，甚至深度紫外線光刻機也受到了限制。很明顯，美國不會放松對 EUV光刻機的出口限制。
2023-06-01 10:43:441552 量子芯片是將量子電路小型化、集成化的工程化實現(xiàn)，是量子計算與量子通信等任務(wù)實現(xiàn)實用化與商業(yè)化的必然路徑。根據(jù)量子電路所依賴物理平臺的不同，量子芯片的技術(shù)路線可以分為超導(dǎo)量子芯片、半導(dǎo)體量子點量子芯片、光量子芯片等。
2023-05-30 15:46:101119 
之前的小講堂有介紹過，光刻過程就好比用照相機拍照，將掩模版上的芯片設(shè)計版圖曝光到晶圓上，從而制造出微小的電路結(jié)構(gòu)。ASML光刻機的鏡片組使用極其精密的加工手段制造，使得最終像差被控制在納米級別，才能穩(wěn)定地通過曝光印刷微電路。
2023-05-25 10:13:28497 
需要明確什么是EUV光刻機。它是一種采用極紫外線光源進行曝光的設(shè)備。與傳統(tǒng)的ArF光刻機相比，EUV光刻機可以將曝光分辨率提高到7納米以下的超高級別，從而實現(xiàn)更高清晰度和更高性能的芯片制造。
2023-05-22 12:48:373985 EUV光刻技術(shù)仍被認為是實現(xiàn)半導(dǎo)體行業(yè)持續(xù)創(chuàng)新的關(guān)鍵途徑。隨著技術(shù)的不斷發(fā)展和成熟，預(yù)計EUV光刻將在未來繼續(xù)推動芯片制程的進步。
2023-05-18 15:49:041790 
不僅是國內(nèi)的網(wǎng)友這么認為，唯光刻機論在海外也很有市場，似乎大部分網(wǎng)友都是這樣想的，已經(jīng)到了神化ASML的地步了，只要提到芯片制造就會強調(diào)光刻機會卡脖子，而有了光刻機，臺積電這樣的公司就能隨便復(fù)制一樣。
2023-05-15 11:10:271112 
在集成電路制造領(lǐng)域，如果說光刻機是推動制程技術(shù)進步的“引擎”，光刻膠就是這部“引擎”的“燃料”。
2023-05-13 11:28:381121 
在整個芯片制造過程中，幾乎每一道工序的實施都離不開光刻技術(shù)。光刻技術(shù)也是制造芯片最關(guān)鍵的技術(shù)，占芯片制造成本的35%以上。
2023-04-26 08:57:031033 光刻就是把芯片制作所需要的線路與功能區(qū)做出來。利用光刻機發(fā)出的光通過具有圖形的光罩對涂有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光后會發(fā)生性質(zhì)變化，從而使光罩上得圖形復(fù)印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用
2023-04-25 11:05:322260 
光刻是在晶圓上創(chuàng)建圖案的過程，是芯片制造過程的起始階段，包括兩個階段——光掩膜制造和圖案投影。
2023-04-25 09:22:16696 
內(nèi)容來源：光明日報光明日報記者常河4月14日是第三個世界量子日。記者從安徽省量子計算工程研究中心獲悉，中國量子科技企業(yè)正發(fā)力打造中國量子芯片設(shè)計與生產(chǎn)制造鏈，成功開發(fā)出國產(chǎn)自主量子芯片設(shè)計軟件及國產(chǎn)量子
2023-04-20 10:21:37542 光刻機是半導(dǎo)體工業(yè)中非常重要的設(shè)備，用于在半導(dǎo)體芯片制造過程中將芯片圖形化。由于光刻機的精度和性能要求非常高，其制造難度也相對較大，目前市場上僅有少數(shù)幾家公司能夠生產(chǎn)出頂級光刻機。那么，中國能否造出頂級光刻機呢？
2023-04-07 13:35:244597 光刻機是芯片智造的核心設(shè)備之一，也是當下尤為復(fù)雜的精密儀器之一。正因為此，荷蘭光刻機智造商阿斯麥通研制的EUV光刻機才會“千金難求”。 很多人都對光刻機有所耳聞，但其實不同光刻機的用途并不
2023-04-06 08:56:49679 
制造量子計算機的硬件系統(tǒng)，由于目前尚處于早期研發(fā)階段，技術(shù)難度相對高很多。首先，需要制造量子計算機的核心計算單元——量子處理器（英文簡稱QPU，也稱量子芯片）。
2023-03-31 10:50:16946 為2nm及更先進芯片的生產(chǎn)提供更強大的助力。 計算光刻是芯片設(shè)計和制造領(lǐng)域中最大的計算工作負載，每年消耗數(shù)百億CPU小時。而NVIDIA cuLitho計算光刻庫利用GPU技術(shù)實現(xiàn)計算光刻，可以極大的降低功耗、節(jié)省時間。 目前臺積電、光刻機制造商阿斯麥，以及EDA巨頭新思科技都已經(jīng)導(dǎo)入
2023-03-23 18:55:377488 
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