金航標(biāo)和薩科微總經(jīng)理宋仕強(qiáng)說(shuō)，中國(guó)還有一個(gè)優(yōu)勢(shì)就是有全世界最大的半導(dǎo)體消費(fèi)市場(chǎng)，有超過(guò)1萬(wàn)億人民幣的規(guī)模，全球占比34%，領(lǐng)先美國(guó)（27%），更大幅領(lǐng)先歐洲和日韓，金航標(biāo)電子是在的中國(guó)的連接器市場(chǎng)也
2024-03-18 11:39:25
。以下是
半導(dǎo)體制造中氣體混合的一些常見(jiàn)用途和相關(guān)操作。 1、
清洗:氣體混合用于制備
清洗氣體，例如氫氣和氮?dú)獾幕旌衔铮?b class="flag-6" style="color: red">去除制造設(shè)備和器件上的雜質(zhì)和殘留物，確保器件的純度。 2、退火:氣體混合物，通常是氫氣和氮?dú)獾幕?/div>
2024-03-05 14:23:08
96 
效率和更好的清洗效果。
2. 環(huán)保性：超聲波清洗機(jī)在清洗過(guò)程中無(wú)需使用化學(xué)清洗劑，只需使用清水或少量專(zhuān)用清洗劑即可。這大大降低了清洗過(guò)程對(duì)環(huán)境的污染，符合現(xiàn)代工業(yè)生產(chǎn)對(duì)環(huán)保的要求。
3. 適用性
2024-03-04 09:45:59128 
超聲清洗是一種高效的清洗技術(shù)，廣泛應(yīng)用于各個(gè)領(lǐng)域，包括工業(yè)制造、醫(yī)療設(shè)備、實(shí)驗(yàn)室和家用清洗。電壓放大器在超聲清洗中扮演著關(guān)鍵的角色，它們用于產(chǎn)生和控制超聲波信號(hào)，從而實(shí)現(xiàn)快速而有效的清洗過(guò)程。下面
2024-03-01 16:40:39118 
二氧化碳雪清洗作為一種新型的清洗方法，在芯片制造領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景。通過(guò)將高壓液態(tài)二氧化碳釋放，得到微米級(jí)固相二氧化碳顆粒，并與高壓氣體混合形成動(dòng)能，可以有效地沖擊晶粒表面，去除微米級(jí)和亞微米
2024-02-27 12:14:4693 
隨著半導(dǎo)體技術(shù)的不斷進(jìn)步，晶圓制造作為集成電路產(chǎn)業(yè)的核心環(huán)節(jié)，對(duì)生產(chǎn)過(guò)程的精密性和潔凈度要求日益提高。在眾多晶圓制造工具中，PFA（全氟烷氧基）晶圓夾以其獨(dú)特的材質(zhì)和性能，在近年來(lái)逐漸受到業(yè)界的廣泛
2024-02-23 15:21:52151 鑒于掩膜版制作技術(shù)難度大，故我國(guó)在 130nm 及其以下制程節(jié)點(diǎn)對(duì)國(guó)外進(jìn)口的依賴(lài)程度較深。據(jù)蘇州工業(yè)園區(qū)一網(wǎng)通辦公布的信息，江蘇路芯半導(dǎo)體科技是蘇州路行維遠(yuǎn)、蘇州產(chǎn)業(yè)基金和睿興投資三家機(jī)構(gòu)聯(lián)手打造的
2024-01-19 14:09:08432 根據(jù)清洗介質(zhì)的不同，目前半導(dǎo)體清洗技術(shù)主要分為濕法清洗和干法清洗兩種工藝路線
2024-01-12 23:14:23769 
使用至光伏/半導(dǎo)體制造工藝的不同環(huán)節(jié)中，這可能會(huì)帶來(lái)更多新材料成分的納米顆粒潛在污染，亟需對(duì)硅片表面納米顆粒進(jìn)行尺寸和數(shù)量的表征。
2024-01-11 11:29:04348 
后，這些芯片也將被同時(shí)加工出來(lái)。
材料介質(zhì)層參見(jiàn)圖3，芯片布圖上的每一層圖案用不同顏色標(biāo)示。對(duì)應(yīng)每一層的圖案，制造過(guò)程會(huì)在硅晶圓上制做出一層由半導(dǎo)體材料或介質(zhì)構(gòu)成的圖形。本文把這些圖形層稱(chēng)之為材料介質(zhì)
2024-01-02 17:08:51
制造過(guò)程中，清洗是一個(gè)必不可少的環(huán)節(jié)。這是因?yàn)?b class="flag-6" style="color: red">半導(dǎo)體材料表面往往存在雜質(zhì)和污染物，這些雜質(zhì)和污染物會(huì)嚴(yán)重影響半導(dǎo)體的性能和可靠性。半導(dǎo)體清洗機(jī)通過(guò)采用先進(jìn)的清洗技術(shù)，如超聲波清洗、化學(xué)清洗等，能夠有效地去除半導(dǎo)體表
2023-12-26 13:51:35255 
TC-Wafer是將高精度溫度傳感器鑲嵌在晶圓表面，對(duì)晶圓表面的溫度進(jìn)行實(shí)時(shí)測(cè)量。通過(guò)晶圓的測(cè)溫點(diǎn)了解特定位置晶圓的真實(shí)溫度，以及晶圓整體的溫度分布，同還可以監(jiān)控半導(dǎo)體設(shè)備控溫過(guò)程中晶圓發(fā)生的溫度
2023-12-21 08:58:53
，半導(dǎo)體器件在制造和組裝過(guò)程中會(huì)發(fā)生靜電感應(yīng)，當(dāng)導(dǎo)線接地時(shí)，內(nèi)部電場(chǎng)將發(fā)生巨大變化，放電電流將流過(guò)電路，從而導(dǎo)致靜電擊穿。
對(duì)于這種靜電損壞的半導(dǎo)體器件非常嚴(yán)重，請(qǐng)確保在釋放電流之前，清除這些靜電荷
2023-12-12 17:18:54
半導(dǎo)體制造業(yè)依賴(lài)復(fù)雜而精確的工藝來(lái)制造我們需要的電子元件。其中一個(gè)過(guò)程是晶圓清洗，這個(gè)是去除硅晶圓表面不需要的顆粒或殘留物的過(guò)程，否則可能會(huì)損害產(chǎn)品質(zhì)量或可靠性。RCA清洗技術(shù)能有效去除硅晶圓表面的有機(jī)和無(wú)機(jī)污染物，是一項(xiàng)標(biāo)準(zhǔn)的晶圓清洗工藝。
2023-12-07 13:19:14235 電子發(fā)燒友網(wǎng)報(bào)道（文/劉靜）12月6日，半導(dǎo)體材料領(lǐng)域又一家優(yōu)秀的國(guó)產(chǎn)企業(yè)在科創(chuàng)板成功上市。作為一家半導(dǎo)體材料商，江蘇艾森半導(dǎo)體材料股份有限公司（以下簡(jiǎn)稱(chēng)：艾森半導(dǎo)體）自2010年成立以來(lái)，抓住
2023-12-07 00:11:002226 
隨著技術(shù)的不斷變化和器件尺寸的不斷縮小，清潔過(guò)程變得越來(lái)越復(fù)雜。每次清洗不僅要對(duì)晶圓進(jìn)行清洗，所使用的機(jī)器和設(shè)備也必須進(jìn)行清洗。晶圓污染物的范圍包括直徑范圍為0.1至20微米的顆粒、有機(jī)和無(wú)機(jī)污染物以及雜質(zhì)。
2023-12-06 17:19:58562 
半導(dǎo)體器件擊穿機(jī)理分析及設(shè)計(jì)注意事項(xiàng)
2023-11-23 17:38:36474 
助焊劑是焊接過(guò)程中不可缺少的一種物質(zhì)，它的作用是去除焊接部位的氧化物，增加焊點(diǎn)的潤(rùn)濕性，提高焊接質(zhì)量和可靠性。助焊劑分為有機(jī)助焊劑和無(wú)機(jī)助焊劑，根據(jù)是否需要清洗，又可以分為可清洗助焊劑和免洗助焊劑。
2023-11-22 13:05:32383 
2023年11月18日-19日，由江蘇省電源學(xué)會(huì)主辦的“寬禁帶半導(dǎo)體器件與高頻電力電子變換器高級(jí)研修班”技術(shù)培訓(xùn)活動(dòng)在南京航空航天大學(xué)（南航）自動(dòng)化學(xué)院成功舉辦。國(guó)產(chǎn)高性能微控制器廠商上海先楫半導(dǎo)體
2023-11-21 08:17:17367 
本人在做一個(gè)弱信號(hào)檢測(cè)的過(guò)程中遇到一個(gè)難題。用OPA657做跨阻放大器的時(shí)候，被檢測(cè)信號(hào)很弱，是一個(gè)1M的方波信號(hào)。我用200k電阻作為放大電阻，但是這樣的話，背景光（太陽(yáng)光）就被放大到飽和了，輸出
2023-11-15 06:45:35
、芯片封裝和半導(dǎo)體測(cè)試與封裝領(lǐng)域，介紹PFA接頭在這些過(guò)程中的應(yīng)用案例。 首先，讓我們來(lái)看一下PFA接頭在晶圓制造過(guò)程中的應(yīng)用。 在晶圓制造過(guò)程中，設(shè)備之間的連接需求非常關(guān)鍵。由于晶圓制造需要在高溫、高壓和高輻射環(huán)境下進(jìn)行
2023-11-09 17:47:47204 的過(guò)程中，我們需要注意一些細(xì)節(jié)：
1、保持儀器穩(wěn)定性和準(zhǔn)確性。
在使用過(guò)程中，盡量避免外界干擾和震動(dòng)，以確保測(cè)量結(jié)果的準(zhǔn)確性。
2、選擇適當(dāng)?shù)臏y(cè)量參數(shù)和條件。
根據(jù)不同的實(shí)際情況，可以調(diào)整白光干涉儀的參數(shù)
2023-11-06 14:27:48
半導(dǎo)體微孔過(guò)濾器濾芯是一種高效、精準(zhǔn)的過(guò)濾裝置，能夠?qū)⒁后w中的顆粒、細(xì)菌和其他雜質(zhì)進(jìn)行有效去除。其核心作用主要體現(xiàn)在以下幾個(gè)方面。
2023-11-02 14:27:23594 半導(dǎo)體行業(yè)是現(xiàn)代電子技術(shù)的關(guān)鍵領(lǐng)域，半導(dǎo)體制造過(guò)程中的熱處理是確保半導(dǎo)體器件性能和可靠性的重要步驟之一。熱處理設(shè)備在半導(dǎo)體工廠中扮演著關(guān)鍵角色，用于控制材料的結(jié)構(gòu)和性能，確保半導(dǎo)體器件的質(zhì)量。本文將探討半導(dǎo)體行業(yè)常用的熱處理設(shè)備，以及它們?cè)?b class="flag-6" style="color: red">半導(dǎo)體生產(chǎn)中的作用和重要性。
2023-10-26 08:51:381498 
管在半導(dǎo)體和太陽(yáng)能光伏領(lǐng)域的應(yīng)用與優(yōu)勢(shì)備受關(guān)注。 華林科納是一家專(zhuān)注于生產(chǎn)高性能氟化共聚物材料的公司。其生產(chǎn)的PFA管具有優(yōu)異的耐化學(xué)腐蝕、耐高溫、低摩擦系數(shù)和高絕緣性能等特性。在半導(dǎo)體和太陽(yáng)能光伏領(lǐng)域，華林科納的PFA管具
2023-10-17 10:19:25199 隨著科技的不斷發(fā)展，半導(dǎo)體技術(shù)在全球范圍內(nèi)得到了廣泛應(yīng)用。半導(dǎo)體設(shè)備在制造過(guò)程中需要經(jīng)過(guò)多個(gè)工藝步驟，而每個(gè)步驟都需要使用到各種不同的材料和設(shè)備。其中，華林科納的PFA管在半導(dǎo)體清洗工藝中扮演著
2023-10-16 15:34:34258 PCB板子清洗是在制造或組裝完P(guān)CB后對(duì)其進(jìn)行清洗的過(guò)程。那么我們?yōu)槭裁匆M(jìn)行清洗呢？隨著捷多邦小編的步伐一起了解吧~ 清洗的目的是去除PCB表面的污垢、殘留的焊膏、通孔內(nèi)的碎片等，以確保PCB
2023-10-16 10:22:52215 步進(jìn)電機(jī)在控制的過(guò)程中怎么防止丟步
2023-10-12 08:07:53
OLED在驅(qū)動(dòng)的過(guò)程中怎么避免燒屏
2023-10-12 08:02:05
步進(jìn)電機(jī)在控制的過(guò)程中怎么提高控制的精度
2023-10-12 06:02:50
HC05在使用的過(guò)程中怎么修改設(shè)備地址
2023-10-11 07:56:45
串口在通信的過(guò)程中怎么對(duì)數(shù)據(jù)進(jìn)行校驗(yàn)
2023-10-11 07:13:25
PID在控制的過(guò)程中怎么控制超調(diào)大小
2023-10-10 07:56:49
STM32的IAP升級(jí)過(guò)程中可以使用任意串口嗎
2023-10-10 07:47:31
微電子器件的制造過(guò)程中。具體來(lái)說(shuō)，在半導(dǎo)體行業(yè)中，劃片機(jī)主要用于生產(chǎn)晶圓，將含有很多芯片的wafer晶圓分割成晶片顆粒。在全球劃片機(jī)市場(chǎng)中，2020年市場(chǎng)規(guī)模達(dá)到了
2023-10-07 16:11:07524 
靜電是半導(dǎo)體制造過(guò)程中的一個(gè)重要問(wèn)題，因?yàn)殪o電可能會(huì)對(duì)半導(dǎo)體芯片造成損害。因此，靜電監(jiān)控在半導(dǎo)體行業(yè)中非常重要。以下是靜電監(jiān)控在半導(dǎo)體行業(yè)中的一些應(yīng)用： 靜電電壓監(jiān)測(cè)：靜電電壓是半導(dǎo)體制造過(guò)程中
2023-10-05 09:38:35162 
半導(dǎo)體封裝是半導(dǎo)體制造過(guò)程中不可或缺的一部分，它保護(hù)了敏感的半導(dǎo)體元件并提供了與其他電子組件的電氣和機(jī)械接口。本文將詳細(xì)探討半導(dǎo)體封裝的功能和應(yīng)用范圍。
2023-09-28 08:50:491270 
本文檔的主要內(nèi)容詳細(xì)介紹的是半導(dǎo)體芯片的制作和半導(dǎo)體芯片封裝的詳細(xì)資料概述
2023-09-26 08:09:42
樣的干式清洗方法越來(lái)越受到頭部企業(yè)的青睞，主要因素是它針對(duì)凹凸面、異面、平面、曲面等不同精密器件的去除異物、除塵、清潔，而且用戶(hù)可以在新設(shè)工藝產(chǎn)線中加入旋風(fēng)清潔設(shè)備，或在原有工藝設(shè)備中的必要節(jié)點(diǎn)加裝旋風(fēng)模組單元，均可達(dá)到升級(jí)改善原有潔凈度、提升良率、減少人工、增進(jìn)效率的良好效果。
2023-09-21 15:46:00689 半導(dǎo)體劃片工藝是半導(dǎo)體制造過(guò)程中的重要步驟之一，主要用于將大尺寸的晶圓切割成小片，以便進(jìn)行后續(xù)的制造和封裝過(guò)程。以下是一些半導(dǎo)體劃片工藝的應(yīng)用：晶圓劃片：在半導(dǎo)體制造過(guò)程中，需要將大尺寸的晶圓切割成
2023-09-18 17:06:19394 
，在半導(dǎo)體芯片制造過(guò)程中，需要保證高質(zhì)量和高效率，而真空環(huán)境的應(yīng)用在半導(dǎo)體芯片制造中已然成為了必須進(jìn)行的環(huán)節(jié)。 半導(dǎo)體芯片有兩個(gè)主要的制造過(guò)程，一個(gè)是前期的光刻和沉積，另一個(gè)是晶圓清洗和烘干。在這兩個(gè)制造過(guò)程中，真空
2023-09-07 16:04:271038 該設(shè)備用途：硅片在加工運(yùn)輸過(guò)程中，需要將硅片從一個(gè)花籃內(nèi)，傳送到另一個(gè)花籃內(nèi)，提高導(dǎo)片效率，同時(shí)減少人為污染。 我們華林科納研發(fā)的全自動(dòng)晶舟轉(zhuǎn)換器，它是一款用于調(diào)整集成電路產(chǎn)線上晶圓生產(chǎn)材料序列
2023-09-06 17:23:46416 
今天我們來(lái)聊一下非接觸除塵設(shè)備在半導(dǎo)體清洗領(lǐng)域的應(yīng)用，說(shuō)起半導(dǎo)體清洗，是指對(duì)晶圓表面進(jìn)行無(wú)損傷清洗，用于去除半導(dǎo)體硅片制造、晶圓制造和封裝測(cè)試每個(gè)步驟中可能產(chǎn)生的雜質(zhì)，避免雜質(zhì)影響芯片良率和性能。而非接觸精密除塵設(shè)備可以大幅提升芯片良率，為企業(yè)實(shí)現(xiàn)降本增效的目的。
2023-09-04 18:47:39787 
半導(dǎo)體的這些參數(shù)的最佳值。在廣泛使用的絕緣體上硅晶片的制造過(guò)程中，對(duì)硅的起泡和分裂過(guò)程進(jìn)行了詳細(xì)的研究。因此，還對(duì)硅和化合物半導(dǎo)體的起泡過(guò)程進(jìn)行了比較。這項(xiàng)比較研究在技術(shù)上是相關(guān)的，因?yàn)殡x子注入誘導(dǎo)的層分裂與直接晶片鍵合相結(jié)合，
2023-09-04 17:09:31317 
半導(dǎo)體和導(dǎo)體的導(dǎo)電機(jī)理有何不同 半導(dǎo)體和導(dǎo)體是電子學(xué)中常見(jiàn)的兩種材料，它們?cè)陔娮觽鲗?dǎo)方面有著不同的導(dǎo)電機(jī)理。在本文中，我們將詳細(xì)探討半導(dǎo)體和導(dǎo)體的導(dǎo)電機(jī)理，以及它們的區(qū)別。 導(dǎo)體的導(dǎo)電機(jī)理 導(dǎo)體
2023-08-27 16:00:251348 簡(jiǎn)述半導(dǎo)體的導(dǎo)電機(jī)理? 半導(dǎo)體是一種非金屬材料，具有介于導(dǎo)體和絕緣體之間的電導(dǎo)率。在半導(dǎo)體中，是否能導(dǎo)電的關(guān)鍵是它的能帶結(jié)構(gòu)。由于原子的能級(jí)分布，半導(dǎo)體的導(dǎo)電機(jī)理與金屬和絕緣體有很大的不同。 半導(dǎo)體
2023-08-27 15:49:023858 高精度半導(dǎo)體芯片推拉力測(cè)試儀免費(fèi)測(cè)樣品半導(dǎo)體芯片測(cè)試是半導(dǎo)體制造過(guò)程中非常重要的一環(huán)。芯片測(cè)試流程：芯片測(cè)試一般分為兩個(gè)階段，一個(gè)是CP（Chip Probing）測(cè)試，也就是晶圓（Wafer）測(cè)試
2023-08-22 17:54:57
半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備市場(chǎng)-概況 半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備用于去除晶圓表面的顆粒、污染物和其他雜質(zhì)。清潔后的表面有助于提高半導(dǎo)體器件的產(chǎn)量和性能。市場(chǎng)上有各種類(lèi)型的半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備。一些流行的設(shè)備類(lèi)型包括
2023-08-22 15:08:001225 
早些時(shí)期半導(dǎo)體常使用濕式清洗除塵方法，濕式清洗除塵通常使用超純水或者化學(xué)藥水來(lái)清洗除塵，優(yōu)點(diǎn)就是價(jià)格低廉，缺點(diǎn)是有時(shí)化學(xué)藥水或者超純水會(huì)把產(chǎn)品損害。隨著科技技術(shù)的進(jìn)步，人們對(duì)半導(dǎo)體的清洗除塵要求越來(lái)越高，不僅要保證產(chǎn)品的良率達(dá)到一定的標(biāo)準(zhǔn)，還需要清洗除塵的程度達(dá)到不錯(cuò)的水平
2023-08-22 10:54:45681 目前BGA封裝技術(shù)已廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體行業(yè)，相較于傳統(tǒng)的TSOP封裝，具有更小體積、更好的散熱性能和電性能。
在BGA封裝的植球工藝階段，需要使用到特殊設(shè)計(jì)的模具，該模具的開(kāi)窗口是基于所需的實(shí)際焊球
2023-08-21 13:38:06
據(jù)泰州科技消息，8月11日，江蘇省產(chǎn)業(yè)技術(shù)研究院/長(zhǎng)三角國(guó)家技術(shù)創(chuàng)新中心半導(dǎo)體先進(jìn)陶瓷材料研究所正式揭牌落戶(hù)江蘇泰興高新區(qū)。
2023-08-16 16:20:35532 半導(dǎo)體蝕刻設(shè)備是半導(dǎo)體製造過(guò)程中使用的設(shè)備。 化學(xué)溶液通過(guò)將晶片浸入化學(xué)溶液（蝕刻劑）中來(lái)選擇性地去除半導(dǎo)體晶片的特定層或區(qū)域，化學(xué)溶液溶解并去除晶片表面所需的材料。
2023-08-15 15:51:58319 定制化合物半導(dǎo)體并將其集成到外國(guó)襯底上的能力可以帶來(lái)卓越或新穎的功能，并對(duì)電子、光電子、自旋電子學(xué)、生物傳感和光伏的各個(gè)領(lǐng)域產(chǎn)生潛在影響。這篇綜述簡(jiǎn)要描述了實(shí)現(xiàn)這種異質(zhì)集成的不同方法，重點(diǎn)介紹了離子
2023-08-14 17:03:50483 
高純PFA擴(kuò)口接頭作為半導(dǎo)體光伏行業(yè)中不可或缺的管道連接元件，它具有獨(dú)特的特點(diǎn)和優(yōu)勢(shì)，為半導(dǎo)體光伏工藝的穩(wěn)定性和可靠性提供了有力的支持。 在半導(dǎo)體光伏制程中，材料的純度對(duì)產(chǎn)品質(zhì)量有著至關(guān)重要
2023-08-14 16:51:29275 半導(dǎo)體材料作為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈上游的重要環(huán)節(jié)，在芯片的生產(chǎn)制造過(guò)程中起到關(guān)鍵性作用。根據(jù)芯片制造過(guò)程劃分，半導(dǎo)體材料主要分為基體材料、制造材料和封裝材料。其中，基體材料主要用來(lái)制造硅晶圓或化合物半導(dǎo)體
2023-08-14 11:31:471207 先楫半導(dǎo)體使用上怎么樣？
2023-08-08 14:56:29
隨著晶體管尺寸的不斷微縮，晶圓制造工藝日益復(fù)雜，對(duì)半導(dǎo)體濕法清洗技術(shù)的要求也越來(lái)越高。
2023-08-01 10:01:561639 
發(fā)展。自2019年首次舉辦以來(lái)，世界半導(dǎo)體大會(huì)已經(jīng)成長(zhǎng)為行業(yè)內(nèi)具有重要影響力的會(huì)議。本次大會(huì)由江蘇省工業(yè)和信息化廳、江蘇省半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會(huì)、南京江北新區(qū)管理委員會(huì)等
2023-07-31 23:04:59385 
半導(dǎo)體自動(dòng)化專(zhuān)用離子風(fēng)機(jī)是一種用于半導(dǎo)體制造過(guò)程中的特殊風(fēng)機(jī)設(shè)備。它通過(guò)產(chǎn)生帶電粒子（離子）的氣流來(lái)實(shí)現(xiàn)靜電去除和除塵，以確保半導(dǎo)體制造環(huán)境的潔凈和無(wú)塵。 以下是半導(dǎo)體自動(dòng)化專(zhuān)用離子風(fēng)機(jī)的一些特點(diǎn)
2023-07-21 09:58:15243 
由華林科納舉辦的2023泛半導(dǎo)體濕法交流會(huì)第五期：化學(xué)流體系統(tǒng)技術(shù)與應(yīng)用交流會(huì)在江蘇南通市成功召開(kāi)。會(huì)議共邀請(qǐng)42家企業(yè)參會(huì)，參會(huì)人員96人。本期交流會(huì)安排了學(xué)術(shù)技術(shù)交流報(bào)告、流體展示
2023-07-14 08:47:03356 型號(hào)：KL-040SD【變波+脫氣模式】功率：240W 頻率：40KHz容量：10L品牌：Kelisonic/科力超聲科力超聲支持定制各種雙頻超聲波清洗機(jī)，高頻超聲波清洗器產(chǎn)品特點(diǎn)
2023-07-13 19:04:29
在半導(dǎo)體制造過(guò)程中，每個(gè)半導(dǎo)體元件的產(chǎn)品都需要經(jīng)過(guò)數(shù)百道工序。這些工序包括前道工藝和后道工藝，前道工藝是整個(gè)制造過(guò)程中最為重要的部分，它關(guān)系到半導(dǎo)體芯片的基本結(jié)構(gòu)和特性的形成，涉及晶圓制造、沉積、光刻、刻蝕等步驟，技術(shù)難點(diǎn)多，操作復(fù)雜。
2023-07-11 11:25:552897 
? 半導(dǎo)體自動(dòng)化專(zhuān)用離子風(fēng)機(jī)是一種專(zhuān)門(mén)用于半導(dǎo)體工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)備。它采用了離子風(fēng)技術(shù)，通過(guò)產(chǎn)生帶電離子來(lái)達(dá)到除塵、靜電消除、表面清潔等功能。 半導(dǎo)體生產(chǎn)過(guò)程中，電子元器件的制造需要保持高度的清潔和靜
2023-07-06 09:59:26300 
國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的行業(yè)盛會(huì)將在上海如期舉行，華林科納將為您帶來(lái)超全面且領(lǐng)先的濕法解決方案，并攜泛半導(dǎo)體濕法裝備服務(wù)平臺(tái)亮相SEMICON China，與上下游企業(yè)進(jìn)行一對(duì)一交流，為企業(yè)發(fā)展瓶頸找到
2023-07-04 17:01:30251 
一：使用范圍半導(dǎo)體激光器大功率恒流脈沖驅(qū)動(dòng)二：特點(diǎn)本驅(qū)動(dòng)電源系統(tǒng)，具備多種獨(dú)特功能。1、對(duì)于導(dǎo)通壓降不同的負(fù)載，電源能在運(yùn)行過(guò)程中進(jìn)行自適應(yīng)，使得電源的內(nèi)阻和負(fù)載之間實(shí)現(xiàn)匹配，電壓適應(yīng)范圍較寬，可在
2023-07-01 10:56:28
有機(jī)半導(dǎo)體是具有半導(dǎo)體特性的有機(jī)材料。它們是有機(jī)化合物，導(dǎo)熱率和電導(dǎo)率范圍為10-10至100S。Cm-1，在導(dǎo)電金屬和絕緣體之間。它主要是一類(lèi)含有TT共軛結(jié)構(gòu)的小有機(jī)分子和聚合物，有機(jī)半導(dǎo)體可分為三種類(lèi)型：有機(jī)物，聚合物和供體-受體復(fù)合物。本文詳細(xì)介紹了有機(jī)半導(dǎo)體，包括其優(yōu)缺點(diǎn)，導(dǎo)電機(jī)理。
2023-06-30 14:54:344132 
在半導(dǎo)體制程工藝中，有很多不同名稱(chēng)的用于移除多余材料的工藝，如“清洗”、“刻蝕”等。如果說(shuō)“清洗”工藝是把整張晶圓上多余的不純物去除掉，“刻蝕”工藝則是在光刻膠的幫助下有選擇性地移除不需要的材料，從而創(chuàng)建所需的微細(xì)圖案。半導(dǎo)體“刻蝕”工藝所采用的氣體和設(shè)備，在其他類(lèi)似工藝中也很常見(jiàn)。
2023-06-15 17:51:571177 
5月18日-5月19日，由華林科納舉辦的2023泛半導(dǎo)體濕法交流會(huì)第五期：化學(xué)流體系統(tǒng)技術(shù)與應(yīng)用交流會(huì)在江蘇南通市成功召開(kāi)。會(huì)議共邀請(qǐng)42家企業(yè)參會(huì)，參會(huì)人員96人。本期交流會(huì)安排了學(xué)術(shù)技術(shù)交流報(bào)告、流體展示及實(shí)操等多種形式的活動(dòng)，交流高純流體在濕法領(lǐng)域的技術(shù)與應(yīng)用，并展示了超100種高純流體產(chǎn)品。
2023-06-09 17:30:34418 清洗劑液體顆粒計(jì)數(shù)器. 采用英國(guó)普洛帝核心技 術(shù)創(chuàng)新型的第八代雙激光窄光顆粒檢測(cè)傳感器，雙精準(zhǔn)流量控制-精 密計(jì)量柱塞泵和超精密流量電磁控制系統(tǒng)，可以對(duì)清洗劑、半導(dǎo)體、 超純水、電子產(chǎn)品、平板玻璃
2023-06-09 11:12:17252 
6月8日勁拓股份有限公司，據(jù)最新調(diào)研紀(jì)要的半導(dǎo)體舉行公共費(fèi)用和專(zhuān)用設(shè)備的半導(dǎo)體硅晶片制造設(shè)備，包括半導(dǎo)體召開(kāi)公共非先進(jìn)的成套制造等生產(chǎn)階段的熱處理設(shè)備，半導(dǎo)體硅晶片制造設(shè)備是半導(dǎo)體硅晶片生產(chǎn)過(guò)程中使用的。”
2023-06-09 10:57:21550 棉簽濕態(tài)發(fā)塵量、擦拭材料、防靜電無(wú)塵布、潔凈室擦拭布、清潔擦拭布、清洗劑、半導(dǎo)體、超純水、電子產(chǎn)品、平板玻璃、硅晶片等產(chǎn)品的在線或離線顆粒監(jiān)測(cè)和分析，目前是英國(guó)普洛
2023-06-08 15:56:10
PMT-2清洗劑液體顆粒計(jì)數(shù)器，采用英國(guó)普洛帝核心技術(shù)創(chuàng)新型的第八代雙激光窄光顆粒檢測(cè)傳感器，雙精準(zhǔn)流量控制-精密計(jì)量柱塞泵和超精密流量電磁控制系統(tǒng)，可以對(duì)清洗劑、半導(dǎo)體、超純水、電子產(chǎn)品、平板玻璃
2023-06-08 15:50:31
晶圓表面的潔凈度對(duì)于后續(xù)半導(dǎo)體工藝以及產(chǎn)品合格率會(huì)造成一定程度的影響，最常見(jiàn)的主要污染包括金屬、有機(jī)物及顆粒狀粒子的殘留，而污染分析的結(jié)果可用以反應(yīng)某一工藝步驟、特定機(jī)臺(tái)或是整體工藝中所遭遇的污染
2023-06-06 10:29:151093 
在化學(xué)腐蝕點(diǎn)處的濃度越高，腐蝕速率越快。在拋光過(guò)程中拋光液持續(xù)流動(dòng)，我們假設(shè)在腐蝕點(diǎn)處的濃度可以保持初始時(shí)的濃度，腐蝕率以最快的速度發(fā)生，則拋光液不同的PH值對(duì)應(yīng)一個(gè)腐蝕率，由此可見(jiàn)，去除速率與PH值有關(guān)，PH越高，速率越快。
2023-06-02 15:24:06347 
在半導(dǎo)體和太陽(yáng)能電池制造過(guò)程中，清洗晶圓的技術(shù)的提升是為了制造高質(zhì)量產(chǎn)品。目前已經(jīng)有多種濕法清洗晶圓的技術(shù)，如離子水清洗、超聲波清洗、低壓等離子和機(jī)械方法。由于濕法工藝一般需要使用含有有害化學(xué)物質(zhì)的酸和堿溶液，會(huì)產(chǎn)生大量廢水，因此存在廢物處理成本和環(huán)境監(jiān)管等問(wèn)題。
2023-06-02 13:33:211020 
根據(jù)中國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)人才白皮書(shū)數(shù)據(jù)來(lái)看，目前行業(yè)內(nèi)從業(yè)人員僅46w左右，人才缺口仍有30w之 巨 。在國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體行業(yè)快速發(fā)展的當(dāng)下，定位、搶奪優(yōu)質(zhì)人才是企業(yè)未來(lái)長(zhǎng)期發(fā)展的基石。
那么每年秋招就是贏得
2023-06-01 14:52:23
本文介紹了激光在碳化硅（SiC）半導(dǎo)體晶圓制程中的應(yīng)用，概括講述了激光與碳化硅相互作用的機(jī)理，并重點(diǎn)對(duì)碳化硅晶圓激光標(biāo)記、背金激光表切去除、晶粒隱切分片的應(yīng)用進(jìn)行了介紹。
2023-05-17 14:39:041222 
晶圓清洗工藝的目的是在不改變或損壞晶圓表面或基板的情況下去除化學(xué)雜質(zhì)和顆粒雜質(zhì)。晶圓表面必須保持不受影響，這樣粗糙、腐蝕或點(diǎn)蝕會(huì)抵消晶圓清潔過(guò)程的結(jié)果
2023-05-11 22:03:03783 、PCB、半導(dǎo)體、新能源等行業(yè)快速發(fā)展帶動(dòng)了PCBA清洗技術(shù)的廣泛應(yīng)用。PCBA作為產(chǎn)品的主要部件，在各種電子設(shè)備當(dāng)中占有非常重要的地位，對(duì)其清洗方面有著極高的要求。 ? ?全自動(dòng)PCBA清洗機(jī)是電子產(chǎn)品生產(chǎn)過(guò)程中的重要輔助設(shè)備，PCBA的質(zhì)量直接影響到
2023-05-10 16:02:261090 
半導(dǎo)體材料最重要的特性之一是導(dǎo)電率可以通過(guò)摻雜物控制。集成電路制造過(guò)程中，半導(dǎo)體材料（如硅、錯(cuò)或1E-V族化合物砷化鎵）不是通過(guò)N型摻雜物就是利用P型摻雜物進(jìn)行摻雜。
2023-05-04 11:12:512175 
在當(dāng)今的器件中，最小結(jié)構(gòu)的尺寸接近于需要從晶片表面移除的粒子的尺寸。在不破壞脆弱設(shè)備的情況下，在工藝步驟之間去除納米顆粒的清洗過(guò)程的重要性正在不斷增長(zhǎng)。兆波清洗可用于單晶片或批量晶片處理。
2023-05-02 16:32:11865 
清洗硅片（Wafer Clean）
清洗硅片的目的是去除污染物去除顆粒、減少針孔和其它缺陷，提高光刻膠黏附性
基本步驟：化學(xué)清洗——漂洗——烘干。
2023-04-25 11:09:403859 
書(shū)籍：《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》 文章：下一代半導(dǎo)體清洗科技材料系統(tǒng) 編號(hào)：JFKJ-21-188 作者：炬豐科技 摘要 本文簡(jiǎn)要概述了面臨的挑戰(zhàn)晶圓清洗技術(shù)正面臨著先進(jìn)的silicon技術(shù)向非平面
2023-04-23 11:03:00246 本文介紹了激光在碳化硅（SiC）半導(dǎo)體晶圓制程中的應(yīng)用，概括講述了激光與碳化硅相互作用的機(jī)理，并重點(diǎn)對(duì)碳化硅晶圓激光標(biāo)記、背金激光表切去除、晶粒隱切分片的應(yīng)用進(jìn)行了介紹。
2023-04-23 09:58:27712 
是消除一種助焊劑的過(guò)程。如果拾取了多種類(lèi)型的助焊劑， c.清潔工藝 PCB清洗中通常使用三種類(lèi)型的清洗工藝：溶劑清洗，半水清洗和水清洗。溶劑清洗是指使用溶劑型介質(zhì)清洗PCB的過(guò)程。在此過(guò)程中，干燥是在
2023-04-21 16:03:02
【摘要】 在半導(dǎo)體濕法工藝中，后道清洗因使用有機(jī)藥液而與前道有著明顯區(qū)別。本文主要將以濕法清洗后道工藝幾種常用藥液及設(shè)備進(jìn)行對(duì)比研究，論述不同藥液與機(jī)臺(tái)的清洗原理，清洗特點(diǎn)與清洗局限性。【關(guān)鍵詞
2023-04-20 11:45:00823 
書(shū)籍：《炬豐科技-半導(dǎo)體工藝》 文章：HQ2和HF溶液循環(huán)處理 編號(hào)：JFKJ-21-213 作者：炬豐科技 摘要 采用原子顯微鏡研究了濕法化學(xué)處理過(guò)程中的表面形貌。在SC-1清洗過(guò)程中，硅表面
2023-04-19 10:01:00129 
半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備市場(chǎng)預(yù)計(jì)將達(dá)到129\.1億美元。到 2029 年。晶圓清洗是在不影響半導(dǎo)體表面質(zhì)量的情況下去除顆粒或污染物的過(guò)程。器件表面晶圓上的污染物和顆粒雜質(zhì)對(duì)器件的性能和可靠性有重大影響。本報(bào)告?zhèn)戎赜?b class="flag-6" style="color: red">半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備市場(chǎng)的不同部分（產(chǎn)品、晶圓尺寸、技術(shù)、操作模式、應(yīng)用和區(qū)域）。
2023-04-03 09:47:511643 
清洗過(guò)程在半導(dǎo)體制造過(guò)程中，在技術(shù)上和經(jīng)濟(jì)上都起著重要的作用。超薄晶片表面必須實(shí)現(xiàn)無(wú)顆粒、無(wú)金屬雜質(zhì)、無(wú)有機(jī)、無(wú)水分、無(wú)天然氧化物、無(wú)表面微粗糙度、無(wú)充電、無(wú)氫。硅片表面的主要容器可分為顆粒、金屬雜質(zhì)和有機(jī)物三類(lèi)。
2023-03-31 10:56:19314 
半導(dǎo)體器件制造是一個(gè)復(fù)雜的多步驟過(guò)程, 包括晶圓制備、前道工序（FEOL）和后道工序（BEOL）。 半導(dǎo)體制造商為了提高良率，在晶圓制備、FEOL和BEOL中引入一系列檢測(cè)過(guò)程，利用紅外相機(jī)檢測(cè)
2023-03-31 07:44:34396 
在整個(gè)晶圓加工過(guò)程中，仔細(xì)維護(hù)清潔的晶圓表面對(duì)于在半導(dǎo)體器件制造中獲得高產(chǎn)量至關(guān)重要。因此，濕式化學(xué)清洗以去除晶片表面的污染物是任何LSI制造序列中應(yīng)用最重復(fù)的處理步驟。
2023-03-30 10:00:091940 
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