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電子發燒友網>今日頭條>對于不同KOH和異丙醇濃度溶液中Si面蝕刻各向的研究

對于不同KOH和異丙醇濃度溶液中Si面蝕刻各向的研究

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2023-05-31 15:56:25

無線數傳模塊SI4463、SI4438、SI4432方案無線通信比對

1.基本參數對比 以上圖片是成都億佰特科技有限公司基于SI4463、SI4438和SI4432三款芯片設計的相關產品,上述列表是基于三款產品的測試據。 2.功能簡述 SI4432 : SI
2023-05-31 15:54:430

載體晶圓對蝕刻速率、選擇性、形貌的影響

等離子體蝕刻是氮化鎵器件制造的一個必要步驟,然而,載體材料的選擇可能會實質上改變蝕刻特性。在小型單個芯片上制造氮化鎵(GaN)設備,通常會導致晶圓的成本上升。在本研究中,英思特通過鋁基和硅基載流子來研究蝕刻過程中蝕刻速率、選擇性、形貌和表面鈍化的影響。
2023-05-30 15:19:54452

淺談蝕刻工藝開發的三個階段

納米片工藝流程中最關鍵的蝕刻步驟包括虛擬柵極蝕刻各向異性柱蝕刻各向同性間隔蝕刻和通道釋放步驟。通過硅和 SiGe 交替層的剖面蝕刻各向異性的,并使用氟化化學。優化內部間隔蝕刻(壓痕)和通道釋放步驟,以極低的硅損失去除 SiGe。
2023-05-30 15:14:111071

氨水濃度檢測儀的重要性-歐森杰

氨水是生活中廣泛存在的一種化學物質,檢測其濃度顯得尤為重要。氨水濃度檢測儀是一種專門用于檢測氨水濃度的儀器,具有準確、穩定、快速等優點。 一、氨水濃度檢測儀的功能 氨水濃度檢測儀由多功能機構組成
2023-05-30 11:32:22167

硅在氫氧化鈉和四甲基氫氧化銨中的溫度依賴性蝕刻

過去利用堿氫氧化物水溶液研究了硅的取向依賴蝕刻,這是制造硅中微結構的一種非常有用的技術。以10M氫氧化鉀(KOH)為蝕刻劑,研究了單晶硅球和晶片的各向異性蝕刻過程,測量了沿多個矢量方向的蝕刻速率,用單晶球發現了最慢的蝕刻面。英思特利用這些數據,提出了一種預測不同方向表面的傾角的方法
2023-05-29 09:42:40618

基于物聯網網關的煤礦井下粉塵濃度監測系統

對于煤礦井下的生產工作來說,粉塵濃度過高容易引發工作人員患上肺部疾病,同時也埋下粉塵爆炸的隱患,威脅工作人員的生命安全,造成巨大的經濟損失,如何對粉塵濃度進行實時監測至關重要。 通過引入物聯網系統
2023-05-25 17:43:56352

紅外可調諧光纖飛秒激光器UltraTune 3400

緊湊、免維護和可調諧激光系統是科學研究的理想工具。相對于傳統激光器操作復雜、機械調諧、笨重且昂貴,紅外可調諧光纖飛秒激光器Femtum UltraTune 34
2023-05-24 10:54:02

氨水濃度檢測儀實現安全精準的氨水測量-歐森杰

氨水是一種重要的化學物質,其在各種工業應用中發揮著重要的作用,但是它也具有一定的毒性,因此對于氨水的濃度檢測與控制顯得尤為重要。氨水濃度檢測儀是一種用于檢測氨水濃度的儀器,它可以幫助用戶準確、安全地
2023-05-22 17:40:45351

如何在蝕刻工藝中實施控制?

蝕刻可能是濕制程階段最復雜的工藝,因為有很多因素會影響蝕刻速率。如果不保持這些因素的穩定,蝕刻率就會變化,因而影響產品質量。如果希望利用一種自動化方法來維護蝕刻化學,以下是你需要理解的基本概念。
2023-05-19 10:27:31575

PCB常見的五種蝕刻方式

一般適用于多層印制板的外層電路圖形的制作或微波印制板陰板法直接蝕刻圖形的制作抗蝕刻 圖形電鍍之金屬抗蝕層如鍍覆金、鎳、錫鉛合金
2023-05-18 16:23:484917

高速硅濕式各向異性蝕刻技術在批量微加工中的應用

蝕刻是微結構制造中采用的主要工藝之一。它分為兩類:濕法蝕刻和干法蝕刻,濕法蝕刻進一步細分為兩部分,即各向異性和各向同性蝕刻。硅濕法各向異性蝕刻廣泛用于制造微機電系統(MEMS)的硅體微加工和太陽能電池應用的表面紋理化。
2023-05-18 09:13:12700

硅晶片的酸基蝕刻:傳質和動力學效應

拋光硅晶片是通過各種機械和化學工藝制備的。首先,硅單晶錠被切成圓盤(晶片),然后是一個稱為拍打的扁平過程,包括使用磨料清洗晶片。通過蝕刻消除了以往成形過程中引起的機械損傷,蝕刻之后是各種單元操作,如拋光和清洗之前,它已經準備好為設備制造。
2023-05-16 10:03:00584

一種AI增強離子淌度與中紅外光譜的協同方法

異丙醇(IPA)分子作為抗病毒診斷的生物標志物,在與環境安全和醫療保健相關的揮發性有機化合物(VOC)領域發揮著重要作用。
2023-05-08 14:15:08859

《炬豐科技-半導體工藝》單晶的濕法蝕刻和紅外吸收

書籍:《炬豐科技-半導體工藝》 文章:單晶的濕法蝕刻和紅外吸收 編號:JFKJ-21-206 作者:炬豐科技 摘要 采用濕法腐蝕、x射線衍射和紅外吸收等方法研究了物理氣相色譜法生長AlN單晶的缺陷
2023-04-23 11:15:00118

R1LV0816ABG-5SI 7SI 數據表

R1LV0816ABG-5SI 7SI 數據表
2023-04-20 18:42:210

直讀式粉塵濃度檢測儀

      XKCON祥控粉塵濃度檢測儀XKCON-GCG1000是濟南祥控新研發的粉塵在線監測報警裝置,滿足企業對于作業場所粉塵濃度的監測需要,具有實時報警功能,由
2023-04-19 10:28:35

《炬豐科技-半導體工藝》 HQ2和HF溶液循環處理 ?

書籍:《炬豐科技-半導體工藝》 文章:HQ2和HF溶液循環處理 編號:JFKJ-21-213 作者:炬豐科技 摘要 采用原子顯微鏡研究了濕法化學處理過程中的表面形貌。在SC-1清洗過程中,硅表面
2023-04-19 10:01:00129

光子晶體用硅中圓柱形納米孔的深反應離子蝕刻

反應離子蝕刻 (RIE)是一種干法蝕刻工藝,與半導體工業中使用的互補金屬氧化物半導體(CMOS)方法兼容。
2023-04-14 14:26:161253

干法蝕刻與濕法蝕刻-差異和應用

干法蝕刻與濕法蝕刻之間的爭論是微電子制造商在項目開始時必須解決的首要問題之一。必須考慮許多因素來決定應在晶圓上使用哪種類型的蝕刻劑來制作電子芯片,是液體(濕法蝕刻)還是氣體(干法蝕刻
2023-04-12 14:54:331004

從頭到尾的半導體技術

濕法蝕刻工藝的原理是使用化學溶液將固體材料轉化為液體化合物。選擇性非常高
2023-04-10 17:26:10453

集成光纖傳感器的微流控芯片用于同步監測葡萄糖溶液濃度和溫度

近年來,越來越多的人患有高血糖癥。高血糖癥是指患者血液中葡萄糖濃度水平高于正常值的癥狀,其典型指標為患者的血糖濃度在餐后2小時高于7.7 mmol/L。
2023-04-03 14:10:531327

對于T2080處理器的預布局仿真,請共享IBIS文件?

對于 T2080 處理器的預布局仿真,請共享 IBIS 文件(用于仿真 Hyperlynx SI
2023-04-03 08:51:23

低溫蝕刻重新出現_

經過多年的研發,隨著該行業在內存和邏輯方面面臨新的挑戰,一種稱為低溫蝕刻的技術正在重新出現,成為一種可能的生產選擇。
2023-03-29 10:14:41392

PCB加工的蝕刻工藝

印刷線路板從光板到顯出線路圖形的過程是一個比較復雜的物理和化學反應的過程,本文就對其最后的一步--蝕刻進行解析。目前,印刷電路板(PCB)加工的典型工藝采用"圖形電鍍法"。即先在
2023-03-29 10:04:07886

0433BM15A0001E

高頻陶瓷溶液
2023-03-28 18:21:12

新技術使蝕刻半導體更容易

研究表明,半導體的物理特性會根據其結構而變化,因此半導體晶圓在組裝成芯片之前被蝕刻成可調整其電氣和光學特性以及連接性的結構。
2023-03-28 09:58:34251

板內盤孔設計狂飆,細密間距線路中招

孔的孔銅和VIP銅→后面正常流程……從上圖中的流程上,我們可以看出,做POFV的PCB,銅需要被電鍍兩次,一次是盤孔電鍍孔銅時,一次是非盤孔電鍍,另一次是其它非盤孔的電鍍。按照
2023-03-27 14:33:01

使用 ClF 3 H 2遠程等離子體在氧化硅上選擇性蝕刻氮化硅

在濕蝕刻的情況下,隨著SiNx/SiOy層的厚度減小,剩余的SiOy層由于表面張力而坍塌,蝕刻溶液對孔的滲透變得更具挑戰性。
2023-03-27 10:17:49402

各向異性潤濕過程中的表面形態

在過去的幾年中,隨著器件尺寸的不斷減小,蝕刻表面的粗糙度開始發揮越來越重要的作用。
2023-03-24 10:11:13251

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