摘要
光學發射光譜(OES)已被證明是一種有價值的工具在開發和生產最先進的半導體器件。應用于等離子體蝕刻所需的各種材料重點討論了集成電路的制造。關于刻蝕端點分析, OES技術在監控中的應用。
介紹
把復雜的圖案轉移到表面上的過程一種硅片,以生產集成電路(IC) 。這對化學家和工程師都是一個巨大的挑戰。 它要求形成精確的掩模,以及高度控制的蝕刻技術。光發射是這兩個過程步驟的固有部分; 作為一個 曝光源用于光刻的前一種,并作為副產物射頻(RF)激勵在后者。 本文將討論通過光學發射光譜(OES)表征這種發射,使用這種技術來監視和控制某些方面的半導體制造過程。
本文還講述了監控等離子體條件,腐蝕端點檢測,光電現象等問題。
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? 審核編輯:符乾江
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