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      濕式清洗工藝在半導體制造中的重要作用

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      東芝開始建設300mm晶圓功率半導體制造工廠

      Electronics Corporation）開工新建一家300晶圓功率半導體制造工廠。該功率半導體制造工廠的建造將分兩個階段進行，一期工程計劃于2024財年內投產。東芝還將在新工廠附近建造一棟辦公樓，以滿足增員需求。 新工廠將具有抗震結構和業務連續性計劃（BCP）
      2023-06-29 17:45:02545

      半導體前端工藝之沉積工藝

      在前幾篇文章（點擊查看），我們一直在借用餅干烘焙過程來形象地說明半導體制程 。在上一篇我們說到，為制作巧克力夾心，需通過“刻蝕工藝”挖出餅干的中間部分，然后倒入巧克力糖漿，再蓋上一層餅干層。“倒入巧克力糖漿”和“蓋上餅干層”的過程在半導體制程中就相當于“沉積工藝”。
      2023-06-29 16:56:17830

      半導體行業關鍵技術ALD：這家公司是龍頭！

      在半導體制造過程中，每個半導體元件的產品都需要經過數百道工序。這些工序包括前道工藝和后道工藝，前道工藝是整個制造過程中最為重要的部分，它關系到半導體芯片的基本結構和特性的形成，涉及晶圓制造、沉積、光刻、刻蝕等步驟，技術難點多，操作復雜。
      2023-06-28 16:54:061259

      淺談半導體制造中的刻蝕工藝

      在上一篇文章，我們介紹了光刻工藝，即利用光罩(掩膜)把設計好的電路圖形繪制在涂覆了光刻膠的晶圓表面上。下一步，將在晶圓上進行刻蝕工藝，以去除不必要的材料，只保留所需的圖形。
      2023-06-28 10:04:58843

      半導體前端工藝：刻蝕——有選擇性地刻蝕材料，以創建所需圖形

      在半導體制程工藝中，有很多不同名稱的用于移除多余材料的工藝，如“清洗”、“刻蝕”等。如果說“清洗”工藝是把整張晶圓上多余的不純物去除掉，“刻蝕”工藝則是在光刻膠的幫助下有選擇性地移除不需要的材料，從而創建所需的微細圖案。半導體“刻蝕”工藝所采用的氣體和設備，在其他類似工藝中也很常見。
      2023-06-15 17:51:571177

      半導體制造光刻工藝制作流程

      金屬-氧化物半導體場效應晶體管（MOSFET）的革命，讓我們可以在相同面積的晶圓上同時制造出更多晶體管。MOSFET體積越小，單個 MOSFET的耗電量就越少，還可以制造出更多的晶體管，讓其發揮作用，可謂是一舉多得。
      2023-06-13 12:29:09596

      半導體制冷器應用--半導體冷凍治療儀

      半導體冷凍治療儀利用半導體制冷組件產生的低溫來治療疾病，是近年來發展較快的物理治療設備。它具有溫控精確、功耗低、體積小等優點，在康復治療領域有廣闊的應用前景。半導體冷凍治療儀包括治療儀本體、半導體制
      2023-06-12 09:29:18700

      博捷芯劃片機半導體封裝的作用、工藝及演變

      半導體封裝是芯片封裝的過程，其作用包括安裝、固定、密封、保護芯片和增強電熱性能。這個過程始于將晶圓分離成單個的芯片，這可以通過劃片法或鋸片法實現。劃片機是使用刀片或通過激光等方式高精度切割被加工
      2023-06-09 15:03:24629

      揭秘半導體制程：8寸晶圓與5nm工藝的魅力與挑戰

      在探討半導體行業時，我們經常會聽到兩個概念：晶圓尺寸和工藝節點。本文將為您解析8寸晶圓以及5nm工藝這兩個重要的概念。
      2023-06-06 10:44:001423

      博捷芯:晶圓切割提升晶圓工藝制程，國產半導體劃片機解決方案

      晶圓切割是半導體制造中的關鍵環節之一。提升晶圓工藝制程需要綜合考慮多個方面，包括切割效率、切割質量、設備性能等。針對這些問題，國產半導體劃片機解決方案可以提供一些幫助。首先，在切割效率方面，國產
      2023-06-05 15:30:447568

      臭氧清洗系統的制備及其在硅晶片清洗中的應用

      在半導體和太陽能電池制造過程中，清洗晶圓的技術的提升是為了制造高質量產品。目前已經有多種濕法清洗晶圓的技術，如離子水清洗、超聲波清洗、低壓等離子和機械方法。由于濕法工藝一般需要使用含有有害化學物質的酸和堿溶液，會產生大量廢水，因此存在廢物處理成本和環境監管等問題。
      2023-06-02 13:33:211021

      半導體工藝與制造裝備技術發展趨勢

      摘 要：針對半導體工藝與制造裝備的發展趨勢進行了綜述和展望。首先從支撐電子信息技術發展的角度，分析半導體工藝與制造裝備的總體發展趨勢，重點介紹集成電路工藝設備、分立器件工藝設備等細分領域的技術發展態勢和主要技術挑戰。
      2023-05-23 15:23:47974

      碳化硅賦能更為智能的半導體制造/工藝電源模塊

      功率密度和靈活性便是 Wolfspeed 和 Astrodyne TDI（ATDI）合作的原因，雙方一同挖掘 SiC 技術的優勢，以滿足現代半導體制造/工藝設備的多種電源需求。我們攜手使用 SiC
      2023-05-20 15:46:51436

      SiC賦能更為智能的半導體制造/工藝電源

      半導體器件的制造流程包含數個截然不同的精密步驟。無論是前道工藝還是后道工藝，半導體制造設備的電源都非常重要。
      2023-05-19 15:39:04478

      半導體工藝之氣相外延介紹

      在半導體科學技術的發展中，氣相外延發揮了重要作用，該技術已廣泛用于Si半導體器件和集成電路的工業化生產。
      2023-05-19 09:06:462464

      半導體封裝技術研究

      本文以半導體封裝技術為研究對象，在論述半導體封裝技術及其重要作用的基礎上，探究了現階段半導體封裝技術的芯片保護、電氣功能實現、通用性、封裝界面標準化、散熱冷卻功能等諸多發展趨勢，深入研究了半導體前端
      2023-05-16 10:06:00497

      虹科分享 | 半導體制造工藝中的虹科光源解決方案（2）

      結 構。 得益于LED的技術優勢和成本優勢，半導體制造領域正在擺脫長期以來的傳統放電汞燈技術，進而選擇 UVLED技術 作為一種理想解決方案。 虹科UVLED紫外光源 提供穩定且超高功率的UV輻射輸出，最高 輸出功率可達80W ，具有長壽命和成本優勢，無需額外冷卻時間，即開即用，取代了傳統的燈箱結構
      2023-05-16 09:54:17533

      芯片的制作為什么要用半導體？Wafer晶圓半導體制造工藝

      所謂“半導體”，是一種導電性能介于“導體”和“絕緣體”之間的物質總稱。導體能導電，比如鐵銅銀等金屬，絕緣體不導電，比如橡膠。芯片的制作為什么要用半導體？
      2023-05-15 14:50:164221

      頻發變數，歐洲本土的半導體制造道阻且長

      半導體中卻只有10%是在歐洲制造的，而且大部分還是成熟工藝的汽車芯片。歐盟旨在通過這一計劃，將這個數字于2030年提高到20%。 ? 歐洲本土晶圓廠 ? 從地理位置分布就可以看出，絕大多數歐洲本土晶圓廠都建在德國、英國、意大利和法國等地方，
      2023-05-15 07:05:002389

      半導體材料在納米光子學中的作用

      半導體材料在開發納米光子技術方面發揮著重要作用。
      2023-05-14 16:58:55590

      日本擬擴大半導體制造設備出口管制，中國多家協會發表嚴正聲明！

      就日方計劃擴大半導體制造設備出口管制范圍，中國半導體行業協會嚴正聲明。 2023年3月31日，日本經濟產業省大臣西村康稔在內閣會議后的記者會上宣布修改《外匯及對外貿易法》，計劃擴大半導體制造設備出口
      2023-05-08 10:41:49891

      日本擴大半導體制造設備出口管制 中國半導體行業協會發布嚴正聲明

      此前，日本政府宣布修改《外匯及對外貿易法》，計劃擴大半導體制造設備出口管制范圍，涉及6大類23種設備。日本政府的出口管制措施將對全球半導體產業生態帶來更大的不確定性；甚至對全球產業鏈的穩定都有很大
      2023-05-05 15:00:491489

      金屬布線的工藝為半導體注入生命的連接

      經過氧化、光刻、刻蝕、沉積等工藝，晶圓表面會形成各種半導體元件。半導體制造商會讓晶圓表面布滿晶體管和電容（Capacitor）；
      2023-04-28 10:04:52532

      半導體工藝之金屬布線工藝介紹

      本篇要講的金屬布線工藝，與前面提到的光刻、刻蝕、沉積等獨立的工藝不同。在半導體制程中，光刻、刻蝕等工藝，其實是為了金屬布線才進行的。在金屬布線過程中，會采用很多與之前的電子元器件層性質不同的配線材料（金屬）。
      2023-04-25 10:38:49986

      虹科技術|半導體制造工藝中的UV-LED光源

      半導體行業借助紫外光譜范圍（i 線：365 nm、h線：405 nm和g線：436 nm）中的高功率輻射在各種光刻、曝光和顯影工藝中創建復雜的微觀結構
      2023-04-24 11:23:281480

      半導體清洗科技材料系統

      書籍：《炬豐科技-半導體工藝》 文章：下一代半導體清洗科技材料系統 編號：JFKJ-21-188 作者：炬豐科技 摘要 本文簡要概述了面臨的挑戰晶圓清洗技術正面臨著先進的silicon技術向非平面
      2023-04-23 11:03:00246

      工業泵在半導體濕法腐蝕清洗設備中的應用

      【摘要】 在半導體濕法工藝中，后道清洗因使用有機藥液而與前道有著明顯區別。本文主要將以濕法清洗后道工藝幾種常用藥液及設備進行對比研究，論述不同藥液與機臺的清洗原理，清洗特點與清洗局限性。【關鍵詞
      2023-04-20 11:45:00823

      《炬豐科技-半導體工藝》金屬氧化物半導體的制造

      書籍：《炬豐科技-半導體工藝》 文章：金屬氧化物半導體的制造 編號：JFKJ-21-207 作者：炬豐科技 概述 CMOS制造工藝概述 ? CMOS制造工藝流程 ? 設計規則 ? 互補金屬氧化物
      2023-04-20 11:16:00247

      虹科分享 | 半導體制造工藝中的虹科光源解決方案（1）

      結 構。 得益于LED的技術優勢和成本優勢，半導體制造領域正在擺脫長期以來的傳統放電汞燈技術，進而選擇 UVLED技術 作為一種理想解決方案。 虹科UVLED紫外光源 提供穩定且超高功率的UV輻射輸出，最高 輸出功率可達80W ，具有長壽命和成本優勢，無需額外冷卻時間，即開即用，取代了傳統的燈箱結構
      2023-04-20 09:32:24412

      《炬豐科技-半導體工藝》硅片清洗技術的演變

      通過對硅表面的清洗和表面處理制備超凈硅。集成電路在制造條件下發生了相當大的變化，在1993年。?這些變化的驅動力是不斷增長的，生產高性能先進硅器件的要求，可靠性和成本。?這些電路的特征尺寸已經被放大
      2023-04-18 10:06:00106

      國內功率半導體需求將持續快速增長

      制造產業的轉移、下游行業需求的拉動以及國家推出的支持政策，半導體分立器件行業已經進入快速發展通道。目前，我國已經成為全球重要的半導體分立器件制造基地和全球最大的半導體分立器件市場，根據中國半導體行業協會
      2023-04-14 13:46:39

      使用虛擬實驗設計加速半導體工藝發展

      ，在半導體設計和制造領域，DOE（或實驗）空間通常并未得到充分探索。相反，人們經常使用非常傳統的試錯方案來挖掘有限的實驗空間。這是因為在半導體制造工藝中存在著太多變量，如果要充分探索所有變量的可能情況
      2023-04-13 14:19:57415

      半導體制造步驟

      很少有人知道，所有的半導體工藝都是從一粒沙開始的。因為沙子中所含的硅是生產晶圓所需要的原料。
      2023-04-11 16:39:021657

      陶瓷基板用于精密半導體制冷片封裝的優勢

      半導體制冷片是一種基于半導體材料熱電效應原理制冷的裝置。它由一系列電子元件（如P型半導體、N型半導體等）組成，當電流通過這些元件時，會發生熱電效應，產生冷熱差，從而使制冷片一側的溫度下降，另一側
      2023-04-03 14:57:441029

      半導體晶圓清洗設備市場：行業分析

      半導體晶圓清洗設備市場預計將達到129\.1億美元。到 2029 年。晶圓清洗是在不影響半導體表面質量的情況下去除顆粒或污染物的過程。器件表面晶圓上的污染物和顆粒雜質對器件的性能和可靠性有重大影響。本報告側重于半導體晶圓清洗設備市場的不同部分（產品、晶圓尺寸、技術、操作模式、應用和區域）。
      2023-04-03 09:47:511643

      半導體制造工藝中的UV-LED解決方案

      針對半導體制造工藝的UV-LED光源需求，虹科提供高功率的紫外光源解決方案，可適配步進器和掩膜版設備，更換傳統工具中的傳統燈箱，實現高質量的半導體質量控制。
      2023-03-29 10:35:41710

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