光柵傳感器的應用和選型指南 光柵傳感器是一種常見的傳感器類型，能夠通過測量光線的強度和位置，將光信號轉化為電信號。它在許多不同的領域和應用中起著重要的作用。 首先，讓我們來了解一下光柵傳感器
2024-03-07 17:14:52
138 紫外發光二極管是指可發出波長約400nm的近紫外光的發光二極管（led）。
2024-02-26 16:03:291263 
光柵傳感器是一種檢測光信號的傳感器，工作原理是基于光的干涉。它由光源、光柵和光接收器三部分組成。光源發射的光經過光柵后產生干涉條紋，再由光接收器接收，通過分析干涉條紋的形態變化來實現對光信號的檢測
2024-02-18 13:33:45449 ）濃度，蝕刻時間為30秒和60秒。經過一定量的蝕刻后，光學帶隙降低，這表明薄膜的結晶度質量有所提高。利用OPAL 2模擬器研究了不同ZnO厚度對樣品光學性能的影響。與其他不同厚度的ZnO層相比，OPAL 2模擬表明，400nm的ZnO層在UV波長范圍內具有最低的透射率。 晶體硅/黑硅
2024-02-02 17:56:45306 
掩模在芯片制造中起到“底片”的作用，是一類不可或缺的晶圓制造材料，在芯片封裝（構筑芯片的外殼和與外部的連接)、平板顯示(TFT-LCD液晶屏和OLED屏〉、印刷電路板、微機電器件等用到光刻技術的領域也都能見到各種掩模的身影。
2024-01-18 10:25:22145 
mA/mm的ID，最大值和27Ω·mm的RON，創下了金屬有機化學氣相沉積（MOCVD）生長的III族氮化物p-FET的記錄。 高密度鈮酸鋰光子集成電路 在這里，我們證明了類金剛石碳（DLC）是制造基于鐵電體的光子集成電路的優越材料，特別是LiNbO3。使用DLC作為硬掩模，我們展示了深蝕刻、緊密
2024-01-16 17:12:33146 
2020年-2023年上半年，應用于功率半導體領域的掩模版是龍圖光罩最主要的收入來源，且營收和營收占比呈現逐年遞增的趨勢。龍圖光罩指出，在功率半導體掩模版領域，公司的工藝節點已覆蓋全球功率半導體主流制程的需求。
2024-01-12 10:18:06325 
瀝青拌合站生產質量監測系統是綜合傳感技術、通訊技術、計算機軟硬件開發等現代高科技技術的專業監管系統。該系統能夠實時采集拌合站生產過程中材料的計量數據及溫度數據，并實時傳輸到遠程中心服務器。 瀝青
2024-01-02 17:56:17151 
掩模版（Photomask）又稱光罩、光掩模、光刻掩模版、掩膜版、掩膜板等，是光刻工藝中關鍵部件之一，是下游行業產品制造過程中的圖形“底片”轉移用的高精密工具
2023-12-25 11:41:135420 
光束取樣光柵(BSG)是一種重要的用于光束取樣診斷的衍射光學元件。以2塊取樣光柵代替單塊光柵作為初始光學結構，運用Zemax光學設計軟件采用分步優化的方法設計了具有消像差功能的光柵對結構，此方法
2023-12-18 09:33:45416 
眾所周知，化合物半導體中不同的原子比對材料的蝕刻特性有很大的影響。為了對蝕刻速率和表面形態的精確控制，通過使用低至25nm的薄器件阻擋層的，從而增加了制造的復雜性。本研究對比了三氯化硼與氯氣的偏置功率，以及氣體比對等離子體腐蝕高鋁含量AlGaN與AlN在蝕刻速率、選擇性和表面形貌方面的影響。
2023-12-15 14:28:30227 
基于GaN的高電子遷移率，晶體管，憑借其高擊穿電壓、大帶隙和高電子載流子速度，應用于高頻放大器和高壓功率開關中。就器件制造而言，GaN的相關材料，如AlGaN，憑借其物理和化學穩定性，為等離子體蝕刻
2023-12-13 09:51:24294 
衍射光柵的主要目的是按波長在空間上散射光。入射到光柵上的白光束在從光柵衍射時將被分離為其分量波長，每個波長沿著不同的方向衍射。色散是測量不同波長衍射光之間的分離(角度或空間)。角色散表示每單位角度
2023-12-11 06:39:29378 
由于其獨特的材料特性，III族氮化物半導體廣泛應用于電力、高頻電子和固態照明等領域。加熱的四甲基氫氧化銨(TMAH)和KOH3處理的取向相關蝕刻已經被用于去除III族氮化物材料中干法蝕刻引起的損傷，并縮小垂直結構。
2023-11-30 09:01:58166 
迪思高端掩模項目的28nm產能建設。 據悉，無錫迪思高端掩模項目于2022年底動工，預計2023年底設備Move in，產線將于2024年上半年完成安裝調試并通線，屆時無錫迪思將具備90~28nm掩模制造能力，技術制程得到跨越式提升。待高端掩模項目全
2023-11-29 17:46:45581 目前，大多數III族氮化物的加工都是通過干法等離子體蝕刻完成的。干法蝕刻有幾個缺點，包括產生離子誘導損傷和難以獲得激光器所需的光滑蝕刻側壁。干法蝕刻產生的側壁典型均方根(rms)粗糙度約為50納米
2023-11-24 14:10:30241 
一、行業背景 現場的瀝青試驗檢測設備是手動或者半自動化設備，所以瀝青檢測指標的記錄數據都是通過現場試驗人員通過手工進行試驗數據的登記、但是要進一步的進行試驗檢測數據的匯總以及數據分析是非常的困難
2023-11-14 09:08:47125 
許多材料的一個重要特性是導電能力(即:支持電流流動的能力)。電流就是流動的電子。導電發生在元件和材料中質子對外環電子的吸引力相對較弱的情況下，這時自由電子就能相對容易移動了。在這樣一個材料，這些電子可以很容易地移動，這就形成了電流。這種情況存在于大多數金屬中。
2023-11-10 09:44:13413 
一、系統建設背景 瀝青的質量對瀝青路面性能有重要的影響，目前全國高速公路中、上面層普遍采用改性瀝青。然而。隨著研究工作的不斷深入和路面膠結料新材料的出現，尤其是改性瀝青在公路施工中的大量
2023-11-08 18:27:29717 
按工序劃分，前端材料市場預計將同比下降11.9%，為334億美元。而對EUV光掩模和光刻膠的需求正在增加。由于晶體管結構的變化，以及由于3D NAND的增加導致的工藝數量增加，對現有沉積材料、蝕刻材料和清洗解決方案的需求預計將增加。后端材料市場預計將同比下降2.2%，約131億美元。
2023-11-03 15:56:26490 
半導體材料具有一些與我們已知的導體、絕緣體完全不同的電學、化學和物理特性，正是由于這些特點，使得半導體器件和電路具有獨特的功能。在接下來的半導體材料的特性這一期中，我們將對這些性質進行深入的探討，并將它們與原子的基礎、固體的電分類以及什么是本征和摻雜半導體等一系列關鍵性的問題共同做一個介紹。
2023-11-03 10:24:30427 
隨著工藝節點不斷變小，掩模版制造難度日益增加，耗費的資金成本從數十萬到上億，呈指數級增長，同時生產掩模版的時間成本也大幅增加。如果不能在制造掩模版前就保證其設計有足夠高的品質，重新優化設計并再次制造一批掩模版將增加巨大的資金成本和時間成本。
2023-11-02 14:25:59284 
半導體芯科技編譯 來源：Silicon Semiconductor eBeam Initiative已完成第12屆年度eBeam Initiative杰出人物調查。 來自半導體生態系統（包括光掩模
2023-10-17 15:00:01224 蝕刻液的化學成分的組成：蝕刻液的化學組分不同，其蝕刻速率就不相同，蝕刻系數也不同。如普遍使用的酸性氯化銅蝕刻液的蝕刻系數通常是&；堿性氯化銅蝕刻液系數可達3.5-4。而正處在開發階段的以硝酸為主的蝕刻液可以達到幾乎沒有側蝕問題，蝕刻后的導線側壁接近垂直。
2023-10-16 15:04:35553 GaN及相關合金可用于制造藍色/綠色/紫外線發射器以及高溫、高功率電子器件。由于 III 族氮化物的濕法化學蝕刻結果有限，因此人們投入了大量精力來開發干法蝕刻工藝。干法蝕刻開發一開始集中于臺面結構，其中需要高蝕刻速率、各向異性輪廓、光滑側壁和不同材料的同等蝕刻。
2023-10-07 15:43:56319 
如何判斷安全光柵是否安全? ?安全光柵是用于機械設備和潛在危險場合的光電防護裝置，主要功能是有效保護人員人身安全，減少安全事故發生。安全光柵的安裝和使用能有效的降低事故的發生，有利于工廠、操作員
2023-09-25 10:17:44190 光纖布拉格光柵的分類有哪些？根據光柵周期是否變化，可以分為均勻FBG 和非均勻FBG。
2023-09-21 10:02:36535 公開的資料顯示，蘇大維格他致力于微納關鍵技術，柔性智能制造創新，柔性光電子材料的應用，相關若干或光學印刷材料、納米印刷、3d影像材料平板顯示器（大尺寸電容觸控屏，超薄導光板）、高級智能麥克風，裝備
2023-09-08 11:32:371749 在印制板外層電路的加工工藝中，還有另外一種方法，就是用感光膜代替金屬鍍層做抗蝕層。這種方法非常近似于內層蝕刻工藝，可以參閱內層制作工藝中的蝕刻。
2023-09-06 09:36:57811 
鈦金屬具有較高的比強度和生物相容性，并且由于在金屬表面自發形成的鈍化膜而具有優異的抗蝕刻性。這種薄氧化膜在空氣中容易形成，保護內部活性鈦金屬免受侵蝕性介質的影響。二氧化鈦具有很寬的帶隙，因此鈦經常被用于各種應用，包括光催化劑、化學傳感器和醫療植入物。
2023-09-01 10:18:07187 
被波長分散但不聚焦。平面光柵通常需要輔助光學器件，如透鏡或反射鏡，以收集和聚焦能量。一些簡化的平面光柵用會聚光照射光柵，盡管系統的焦點特性將取決于波長。為了簡單起見，下面只討論平面反射光柵，盡管每個光柵具有透射
2023-08-29 06:26:30423 
短波長透明光學元件的缺乏限制了深紫外光刻中的可用波長，而晶片上所需的最小特征繼續向更深的亞波長尺度收縮。這對用入射場代替掩模開口上的場的基爾霍夫邊界條件造成了嚴重的限制，因為這種近似無法考慮光刻圖像
2023-08-25 17:21:43279 
我們華林科納通過光學反射光譜半實時地原位監測用有機堿性溶液的濕法蝕刻，以實現用于線波導的氫化非晶硅（a-Si:H）膜的高分辨率厚度控制。由a-Si:H的本征各向同性結構產生的各向同性蝕刻導致表面
2023-08-22 16:06:56239 
通過采用新鐵氧體材料實現面向NFC電路的最佳特性
2023-08-15 14:33:41697 
? 由于刻劃光柵和全息光柵的制造工藝之間的區別，每種類型的光柵相對于另一種都有優點和缺點，本文將對其進行簡單描述。 光柵效率的差異 刻劃光柵和全息光柵的效率曲線通常相差很大，盡管這是凹槽輪廓差異
2023-08-10 06:45:17521 
制造復制光柵的工藝產生了光柵，凹槽形成在非常薄的樹脂層中，該樹脂，層牢固地粘附在基底材料的表面上。反射復制品的光學表面通常涂有鋁(AI)，但建議在某些光譜區域使用金(Au) 或銀(Ag) 以獲得更大的衍射能量。透射光柵沒有反射涂層。
2023-08-02 11:28:12287 
由于刻劃光柵和全息光柵的制造工藝之間的區別，每種類型的光柵相對于另一種都有優點和缺點，本文將對其進行簡單描述。
2023-08-01 16:15:34656 
刻蝕和蝕刻實質上是同一過程的不同稱呼，常常用來描述在材料表面上進行化學或物理腐蝕以去除或改變材料的特定部分的過程。在半導體制造中，這個過程常常用于雕刻芯片上的細微結構。
2023-07-28 15:16:594140 刻線衍射光柵生產中最重要的部件是被稱為刻線設備，在該設備上對母光柵進行刻線。這些設備中的每一個都產生具有非常低的羅蘭重影、高分辨率和高效率均勻性的光柵。
2023-07-20 11:49:40739 FORTiS-S標準型封閉式直線光柵、FORTiS-N?細窄型封閉式直線光柵、RESM/REST圓光柵、VIONiC系列光柵的技術特性及優勢詳解。
2023-07-19 09:50:28507 
瀝青路面的質量，會影響道路的使用壽命，造成公路使用壽命減少的關鍵因素是在于公路建設施工中沒有進行嚴格的質量控制，所以針對公路建設施工全過程實時控制，西安智維拓遠研發了路面攤鋪壓實管理系統。要對施工
2023-07-17 17:44:18337 安裝安全光柵時，需要注意以下幾點： ?1.根據設備類型和防護要求確定合適的安全光柵類型，以有效保護人員安全。 ?2.根據設備的要求，員工的實際操作方法和光幕的型號，確定合適的安裝位置，以免因安裝位置
2023-07-17 15:42:01232 
蝕刻是一種從材料上去除的過程。基片表面上的一種薄膜基片。當掩碼層用于保護特定區域時在晶片表面，蝕刻的目的是“精確”移除未覆蓋的材料戴著面具。
2023-07-14 11:13:32183 
蝕刻是一種從材料上去除的過程?；砻嫔系囊环N薄膜基片。當掩碼層用于保護特定區域時在晶片表面，蝕刻的目的是“精確”移除未覆蓋的材料戴著面具。
2023-07-12 09:26:03190 
安全光柵的工作狀態
2023-07-08 11:18:52252 
技術的專業監管系統。該系統能夠實時采集拌合樓生產過程中材料的計量數據及溫度數據，并實時傳輸到遠程中心服務器，對熱拌瀝青混合料質量控制，拌合站每盤拌和時間、料倉重量、出料溫度等數據源，經計算獲得每盤的油石比、級
2023-07-03 18:05:25290 
瀝青路面智能攤鋪壓實管理系統-小型瀝青攤鋪機在施工過程中的工藝要求，為了保障攤鋪穩定層的平整度，人工用拌合料對接頭處找平。自卸車應在攤鋪機前20~40cm處對正攤鋪機停車，以避免撞擊攤鋪機，同時卸料
2023-06-30 17:15:38222 有關光柵的結構與工作原理，光柵是利用光的透射、衍射現象制成的光電檢測元件，由標尺光柵和光柵讀數頭兩部分組成，介紹了光柵尺的構造和種類，光柵讀數頭的構成圖等。
2023-06-29 16:41:114489 
隨著集成電路互連線的寬度和間距接近3pm，鋁和鋁合金的等離子體蝕刻變得更有必要。為了防止蝕刻掩模下的橫向蝕刻，我們需要一個側壁鈍化機制。盡管AlCl和AlBr都具有可觀的蒸氣壓，但大多數鋁蝕刻的研究
2023-06-27 13:24:11318 
CMOS和MEMS制造技術，允許相對于其他薄膜選擇性地去除薄膜，在器件集成中一直具有很高的實用性。這種化學性質非常有用，但是當存在其他材料并且也已知在HF中蝕刻時，這就成了問題。由于器件的靜摩擦、緩慢的蝕刻速率以及橫向或分層膜的蝕刻速率降低，濕法化學也會有問題。
2023-06-26 13:32:441053 
深入了解安全光柵
2023-06-25 13:53:05675 
安全光柵中的投光器的作用是什么？
2023-06-25 13:46:18266 
安全光柵的組成
2023-06-24 10:23:33572 
安全光柵中的常開與常閉是什么意思？
2023-06-24 10:17:361269 
2022年晶圓制造材料和封裝材料收入分別達到447億美元和280億美元，增長10.5%和6.3%。硅、電子氣體和光掩模部分在晶圓制造材料市場中增長最為強勁，而有機基板部分在很大程度上推動了封裝材料市場的增長。
2023-06-19 09:52:13539 
安全光柵中的投光器的作用是什么？
2023-06-15 16:51:01386 
器件尺寸的不斷縮小促使半導體工業開發先進的工藝技術。近年來，原子層沉積(ALD)和原子層蝕刻(ALE)已經成為小型化的重要加工技術。ALD是一種沉積技術，它基于連續的、自限性的表面反應。ALE是一種蝕刻技術，允許以逐層的方式從表面去除材料。ALE可以基于利用表面改性和去除步驟的等離子體或熱連續反應。
2023-06-15 11:05:05526 
跪求新唐NM1200和NM1330詳細的數據手冊
2023-06-15 08:57:31
我們在使用安全光幕.安全光柵之前，請用戶在每次作業前，必須先檢查機床完好，以確保保護器實現保護功能。都要進行安全光柵的調試后再投入工作中。
2023-06-14 13:56:46691 
為了提供更優良的靜電完整性，三維(3D)設計（如全圍柵(GAA)場電子晶體管(FET )）預計將在互補金屬氧化物半導體技術中被采用。3D MOS架構為蝕刻應用帶來了一系列挑戰。雖然平面設備更多地依賴于各向異性蝕刻，但是3D設備在不同材料之間具有高選擇性，需要更多的各向異性蝕刻能力。
2023-06-14 11:03:531779 
安全光柵的技術要求是什么？
2023-06-09 14:44:52432 
，將遠程監督拌合站生產情況，便于管理。 ? ? ? ? 1、混合料生產監控 ? ? ? 瀝青混合料拌合站數據采集系統是綜合傳感技術、通訊技術、計算機軟硬件開發等現代高科技技術的專業監管系統。該系統能夠實時采集拌合樓生產過程中材料的
2023-06-07 18:23:11506 綜上所述，PDC20-400HP+的應用廣泛，且再應用中體現了干線損耗低、高功率、堅固的焊接結構和指向性等能力。并且其工作溫度范圍廣泛，儲存溫度范圍寬容，支持高功率輸入。這些特性和參數使得PDC20-400HP+芯片成為這些領域中可靠且高性能的選擇。
2023-06-07 16:42:50289 
安全光柵的對齊方式
2023-06-07 10:59:361490 
光刻機需要采用全反射光學元件，掩模需要采用反射式結構。
這些需求帶來的是EUV光刻和掩模制造領域的顛覆性技術。EUV光刻掩模的制造面臨著許多挑戰，包括掩模基底的低熱膨脹材料的開發、零缺陷襯底拋光、多層膜缺陷檢查、多層膜缺陷修復等。
2023-06-07 10:45:541008 
等離子體蝕刻是氮化鎵器件制造的一個必要步驟，然而，載體材料的選擇可能會實質上改變蝕刻特性。在小型單個芯片上制造氮化鎵（GaN）設備，通常會導致晶圓的成本上升。在本研究中，英思特通過鋁基和硅基載流子來研究蝕刻過程中蝕刻速率、選擇性、形貌和表面鈍化的影響。
2023-05-30 15:19:54452 
納米片工藝流程中最關鍵的蝕刻步驟包括虛擬柵極蝕刻、各向異性柱蝕刻、各向同性間隔蝕刻和通道釋放步驟。通過硅和 SiGe 交替層的剖面蝕刻是各向異性的，并使用氟化化學。優化內部間隔蝕刻（壓痕）和通道釋放步驟，以極低的硅損失去除 SiGe。
2023-05-30 15:14:111071 
衍射光柵是一種高分辨率的光學色散元件。隨著衍射光柵制造技術的不斷發展，各類型的光柵相繼而出，光柵的用途也日益廣泛，如今衍射光柵不僅可用于光譜學，還能廣泛用于慣性約束聚變、激光加工、天文、計量、光通訊、AR顯示等眾多領域。
2023-05-29 07:07:44320 衍射光柵是一種高分辨率的光學色散元件。隨著衍射光柵制造技術的不斷發展，各類型的光柵相繼而出，光柵的用途也日益廣泛，如今衍射光柵不僅可用于光譜學，還能廣泛用于慣性約束聚變、激光加工、天文、計量、光通訊、AR顯示等眾多領域。
2023-05-29 07:06:34307 
衍射光柵是一種高分辨率的光學色散元件。隨著衍射光柵制造技術的不斷發展，各類型的光柵相繼而出，光柵的用途也日益廣泛，如今衍射光柵不僅可用于光譜學，還能廣泛用于慣性約束聚變、激光加工、天文、計量、光通訊、AR顯示等眾多領域。
2023-05-26 07:12:17810 衍射光柵是一種高分辨率的光學色散元件。隨著衍射光柵制造技術的不斷發展，各類型的光柵相繼而出，光柵的用途也日益廣泛，如今衍射光柵不僅可用于光譜學，還能廣泛用于慣性約束聚變、激光加工、天文、計量、光通訊、AR顯示等眾多領域。
2023-05-26 07:11:19403 
SPC5644的wafer有多少nm？
2023-05-25 08:46:07
Lightsmyth光通信1550nm脈沖壓縮透射衍射光柵 Lightsmyth光通信1550nm脈沖壓縮透射衍射光柵用于將入射光成角度地分散到光譜中。光通信透射衍射光柵
2023-05-24 13:55:56
脈沖壓縮透射光柵高功率光束組合光譜衍射光柵 脈沖壓縮透射光柵高功率光束組合光譜衍射光柵采用獨特的圖案化方法、DUV投影光刻和離子蝕刻，為透射衍射光柵提供了許多
2023-05-24 13:50:09
一般適用于多層印制板的外層電路圖形的制作或微波印制板陰板法直接蝕刻圖形的制作抗蝕刻 圖形電鍍之金屬抗蝕層如鍍覆金、鎳、錫鉛合金
2023-05-18 16:23:484918 安全光柵的使用方法
2023-05-16 09:51:04610 
應用：激光投影 儀器儀表 生物醫學應用 全息術 地鐵系統、傳感組件材料（氣體、溶質等） 激光二極管和LED顯示 器 寬范圍光譜學
封裝：金屬封裝 1270NM-1300NM-1350NM 近紅外發射管
2023-05-09 11:23:07
掃描儀(scanner)是一種在wafer上創建die images的機器。它首先通過刻線（有時稱為掩模）將光照射到涂有保護性光刻膠的wafer上，以刻上刻線圖案的圖像。
2023-05-06 09:51:385203 
致力于衍射元器件、CGH、光柵、光掩模等產品的設計、生產、服務，該公司生產的光掩模產品是半導體的基石，在技術上突破了傳統納米壓印制作光學器件的路徑，簡化了工藝流程，其也是國內唯一掌握了把半導體技術用于量產純石英結構光
2023-04-26 16:53:19595 安全光柵是一種利用光電傳感技術實現工業安全控制的設備，主要由發射器和接收器組成。通過發射一組光束，將工作區域分成一個或多個光柵，當物體進入或穿越光柵時，安全光柵可以及時檢測到并觸發安全控制系統，采取
2023-04-14 15:56:56689 
MS系列科研級高光通量四光柵光譜儀。 光譜范圍185nm-60μm，焦距200/350/520/750/1000mm焦距可選，光譜分辨率可達0.013nm。
2023-04-14 07:20:13407 
新的High NA EUV 光刻膠不能在封閉的研究環境中開發，必須通過精心設計的底層、新型硬掩模和高選擇性蝕刻工藝進行優化以獲得最佳性能。為了迎接這一挑戰，imec 最近開發了一個新的工具箱來匹配光刻膠和底層的屬性。
2023-04-13 11:52:121164 干法蝕刻與濕法蝕刻之間的爭論是微電子制造商在項目開始時必須解決的首要問題之一。必須考慮許多因素來決定應在晶圓上使用哪種類型的蝕刻劑來制作電子芯片，是液體（濕法蝕刻）還是氣體（干法蝕刻）
2023-04-12 14:54:331004 測長儀和測長機都統稱為測長儀。光柵測長儀高精度光柵測量系統，分辨力達到0.01μm，測量精度高，采用的高精度光柵式大量程接觸式測量是一種很好的長度測量方式。SJ5100光柵測長儀SJ5100光柵
2023-04-04 11:47:06916 
EMITTER UV 400NM 100MA TO-46
2023-03-28 20:29:39
EMITTER UV 400NM 4 X 1A STAR
2023-03-28 20:29:09
EMITTER UV 400NM 1A
2023-03-28 20:28:59
EMITTER VIOLET 400NM CLEAR DOME
2023-03-28 20:28:59
EMITTER UV 400NM 1A
2023-03-28 20:28:59
EMITTER UV 400NM 500MA WFDFN
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EMITTER UV 400NM 500MA WFDFN
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EMITTER UV 400NM 1A
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EMITTER UV 400NM 500MA WFDFN
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EMITTER UV 400NM 1A
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EMITTER UV 400NM 500MA WFDFN
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EMITTER UV 400NM 1A SMD
2023-03-28 20:28:34
研究表明，半導體的物理特性會根據其結構而變化，因此半導體晶圓在組裝成芯片之前被蝕刻成可調整其電氣和光學特性以及連接性的結構。
2023-03-28 09:58:34251 
? ? 光柵又稱衍射光柵。是運用多縫衍射工作原理使光產生色散(分解成光譜)的光學元件。它有一塊刻著大量水平等寬、等距間隙(刻線)的平面玻璃或金屬片。光柵的間隙數目非常大，通常每亳米數十至幾千條。單色
2023-03-28 08:50:071105 
光柵式傳感器指采用光柵疊柵條紋原理測量位移的傳感器。光柵是由大量等寬等間距的平行狹縫構成的光學器件。
2023-03-27 15:45:082724
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