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電子發燒友網>業界新聞>廠商新聞>中微等離子體刻蝕設備Primo AD-RIE(TM)運抵中芯國際

中微等離子體刻蝕設備Primo AD-RIE(TM)運抵中芯國際

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2023-07-03 18:22:50

等離子體蝕刻率的限制

隨著集成電路互連線的寬度和間距接近3pm,鋁和鋁合金的等離子體蝕刻變得更有必要。為了防止蝕刻掩模下的橫向蝕刻,我們需要一個側壁鈍化機制。盡管AlCl和AlBr都具有可觀的蒸氣壓,但大多數鋁蝕刻的研究
2023-06-27 13:24:11318

制造等離子納米金剛石

近日,Nano Letters(《納米快報》)在線發表武漢大學高等研究院梁樂課題組和約翰霍普金斯大學Ishan Barman課題組關于高效構建等離子增強NV色心的納米器件研究進展,他們利用自下向上的DNA自組裝方法開發了一種混合型獨立式等離子體納米金剛石
2023-06-26 17:04:52396

淺談封裝開封技術

環氧塑封是IC主要封裝形式,環氧塑封器件開封方法有化學方法、機械方法和等離子體刻蝕法,化學方法是最廣泛使用的方法,又分手動開封和機械開封兩種。
2023-06-25 10:09:18443

別克君越控開關失靈,什么情況怎么解決

開關
YS YYDS發布于 2023-06-23 00:38:57

封裝開封技術介紹

環氧塑封是IC主要封裝形式,環氧塑封器件開封方法有化學方法、機械方法和等離子體刻蝕法,化學方法是最廣泛使用的方法,又分手動開封和機械開封兩種。
2023-06-18 09:56:28314

上海伯東大口徑射頻離子源成功應用于12英寸IBE 離子束蝕刻機

上海伯東美國?KRi?考夫曼公司大口徑射頻離子源?RFICP 380, RFICP 220 成功應用于 12英寸和 8英寸?IBE 離子束蝕刻機, 實現 300mm 和 200mm 硅片蝕刻, 刻蝕
2023-06-15 14:58:47665

氣體放電管- GDT /氣體等離子體避雷器?2R3600ML5

交流電源板過載防護高電壓氣體放電管  氣體放電管- GDT /氣體等離子體避雷器 2R3600ML5  Gas Discharge
2023-06-14 17:30:02

使用負偏壓萃取電極的方法

使用負偏壓的萃取電極將離子離子源內的等離子體中抽出,并將其加速到大約50keV的能量。
2023-05-29 09:37:59381

金屬銀鍍PTFE涂層等離子處理原理 提高PTFE粘附性

金屬銀鍍PTFE涂層等離子處理是指在金屬鍍銀進行PTFE涂層,并在PTFE涂層上進行等離子處理的一種表面處理技術。該技術可以使金屬表面具有一定的耐腐蝕性、耐磨性和耐高溫性,同時還可以提高金屬表面的潤滑性和粘附性。
2023-05-25 15:54:14513

半導體絕緣介質的填充-HDPOX

為了形成高密度等離子體,需要有激發混合氣體的射頻(RF)源,并直接使高密度等離子體到達硅片表面。在HDP-CVD反應腔中,主要是由電感耦合等離子體反應器(ICP)來產生并維持高密度的等離子體。當射頻電流通過線圈(coil)時會產生一個交流磁場
2023-05-22 15:47:373153

強磁場中等離子體湍流的性質和機制

在天體物理學中,有許多天體都具有強大的磁場,例如恒星、行星和黑洞。這些天體周圍通常有大量的等離子體,例如恒星風、行星際介質和吸積盤。
2023-05-17 09:24:16452

陶瓷基板常用的幾種陶瓷材料

DPC(DirectPlatingCopper)薄膜工藝是一種利用磁控濺射技術制備銅薄膜的方法。該工藝是將目標材料為銅的銅靶放置在真空腔室中,通過磁控濺射技術使得銅靶表面產生等離子體,利用等離子體中的離子轟擊靶表面,將其濺射成細小顆粒并沉積在基底上形成銅薄膜的過程。
2023-05-11 17:38:18843

射頻等離子體源,射頻離子

因產品配置不同, 價格貨期需要電議, 圖片僅供參考, 一切以實際成交合同為準射頻等離子體源 RF2100ICP Plasma Source上海伯東代理美國 KRi 考夫
2023-05-11 14:57:22

射頻離子源,真空鍍膜離子

源 RFICP 140 是一款緊湊的有柵極離子源, 非常適用于離子束濺射沉積, 離子輔助沉積和離子刻蝕. 在離子束濺射工藝,射頻離子源 RFICP 140 配有離子光學元
2023-05-11 14:14:53

芯片等離子活化原理 提高化學惰性、抗腐蝕性、耐磨性

芯片等離子活化技術是一種物理處理技術,通過改變材料表面的化學性質、物理性質和機械性能,實現對材料的表面處理和改性。芯片等離子活化技術具有處理效率高、處理精度高、無需添加劑、處理后材料性能穩定和應用范圍廣泛等優勢。
2023-05-06 10:44:50650

鋁箔等離子表面處理設備原理 增加鋁箔表面的粘附力

通過金徠等離子體處理,可以提高金屬表面的活性,改善金屬表面的結合力、增強涂層附著力等性質,使得金屬制品的質量和性能得到明顯的改善和提升。此外,等離子體處理還可以改善金屬表面的光潔度,使得金屬表面更加平整光滑。
2023-05-05 10:51:23525

半導體圖案化工藝流程之刻蝕簡析

圖案化工藝包括曝光(Exposure)、顯影(Develope)、刻蝕(Etching)和離子注入等流程。
2023-04-28 11:24:271073

如何發現AI+Science中的下一個AlphaFold和ChatGPT?

幫助科學家探索科學框架的設計。我們可以讓AI去更大的設計空間搜索設計策略和控制優化策略。比如近期發表在Nature 上的工作,使用深度強化學習控制核聚變反應中的等離子體,第一次發現了全新的等離子體結構[3]。
2023-04-21 09:56:59406

半導體刻蝕工藝簡述

等離子體均勻性和等離子體位置的控制在未來更加重要。對于成熟的技術節點,高的產量、低的成本是與現有生產系統競爭的關鍵因素。如果可以制造低成本的可靠的刻蝕系統,從長遠來看,可以為客戶節省大量費用,有可能
2023-04-21 09:20:221347

射頻功率放大器在等離子體壓力傳感器中的應用

(6~10mm)、溫度漂移等問題,無法滿足發動機復雜機械內部非定常測量的需要。而在對新技術的探索中,等離子體技術由于其有著許多先天優勢而引起了研究者們的關注,如其理論上有著高頻率響應的特性、不受熱慣性的限制、基于等離子體原理的探針結構尺寸小,可達毫米尺度。因此認為其具有十分優秀的發展潛力,有望突破高溫高
2023-04-19 15:29:42260

中國科學院大學在近場光學鄰近效應研究中獲得進展

為滿足集成電路中對納米結構器件的尺寸及質量的高性能要求,有效地解決表面等離子體光刻技術中存在的near-field OPE問題,中國科學院大學集成電路學院教授韋亞一課題組通過對表面等離子體光刻特有的近場增強效應進行定量表征
2023-04-18 10:49:03473

半導體行業之刻蝕工藝介紹

壓力主要控制刻蝕均勻性和刻蝕輪廓,同時也能影響刻蝕速率和選擇性。改變壓力會改變電子和離子的平均自由程(MFP),進而影響等離子體刻蝕速率的均勻性。
2023-04-17 10:36:431922

利用等離子體色散效應來增強硅基電光調制器的性能

全硅等離子體色散效應環形諧振器調制器具有誘人的發展前景。然而,其性能目前受限于調制深度和開關速度之間的權衡。
2023-04-12 09:12:121594

2023國(青島)國際太陽能光伏及儲能展覽會

2023國(青島)國際太陽能光伏及儲能展覽會2023China(Qingdao) International Solar Photovoltaic and Photovoltaic Energy
2023-04-08 10:36:29

等離子光譜儀需要進行哪種維修保養

大家目前對于等離子光譜儀的普遍使用早已見怪不怪了,這種相對來說較為細致的設備是一定要盡早的實施維修保養的,否則很容易就沒辦法運用或者機械設備產生情況,下面大家一起來看看等離子光譜儀需要進行哪種
2023-04-07 07:37:42124

等離子電視關鍵技術探秘

? 導讀:?屏(也叫面板),是等離子電視最重要的部件,占整機成本的六、七成。屏的好壞,直接決定著平板電視的優劣。目前世界上只有韓國LG、三星和日本的松下等少數廠商具備等離子屏的生產能力,其中LG的A3生產線被公認為最先進的等離子生產線。很大程度上,等離子電視的選擇就是等離子屏的選擇。 ?
2023-03-30 15:56:10452

VESD離子風嘴應用的領域和優勢

尤為重要了。 1:工業除靜電離子風嘴的原理 工業除靜電離子風嘴是一種高科技產品,它通過高壓電場作用于材料表面,使其電離從而達到除塵的目的。常見的等離子體有CFO、PLAM-SINK及VESD等幾種。高壓電擊產生巨大能量,能夠將不良電荷中
2023-03-29 09:35:52367

氣體放電管- GDT /氣體等離子體避雷器3600V

2RM3600A6L2 氣體放電管- GDT /氣體等離子體避雷器3600Discharge 2-Electrode Arrester  5.5*6 直流擊穿電壓3600V氣體
2023-03-27 17:04:09

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