晶體硅太陽電池擴散氣氛場均勻性研究

1 引言
??? 晶體硅太陽電池能夠取得高效轉換效率的原因主要是基于表面鈍化、濕氧氧化等技術的應用。新技術的開發(fā)與運用同時也極大地促進了太陽電池的商業(yè)化發(fā)展。在過去的10年，全球太陽電池的生產以年平均30％的速度快速增長，單晶硅和多晶硅太陽電池的增長所占比重最大，超過整個太陽電池增長的80％。
??? 除產業(yè)化運用新技術外，太陽電池制作中工藝優(yōu)化也非常重要的。太陽電池產業(yè)化所面臨的主要問題之一是如何在保證電池高轉換效率前提下提高產能。擴散制作P －N結是晶體硅太陽電池的核心，也是電池質量好壞的關鍵之一。對于擴散工序，最大問題在于如何保障擴散的均勻性。擴散均勻性好的電池。其后續(xù)工藝參數(shù)可控性高?？梢暂^好地保證電池電性能和參數(shù)的穩(wěn)定性。擴散均勻性在高效率低成本電池產業(yè)推廣方面主要有兩個方向：一個是太陽電池P-N結新結構設計的應用，比如N型電池、SE(selective emitter)電池等；另一個是由于其他工序或材料新技術的應用需要尋求相應的擴散工藝路線，比如冶金硅用于太陽電池、Sunpower公司的Low- cost rear-contact solar cells和夏普公司的back-contact solarcells等。這些都是擴散對均勻性要求新的研究方向。晶體硅產業(yè)化擴散制作P-N結所采用的擴散爐主要為管式電阻加熱方式(普遍選用 Kanthal加熱爐絲)，裝載系統(tǒng)主要有懸臂式(loading／unloading)和軟著陸(soft contact load-ing，簡稱SCL)兩種，國內擴散爐以懸臂式為主，國外以SCL為主。相對于配置懸臂裝載機構的擴散爐，SCL式擴散爐因其爐口密封性更易保障，并不采用石英保溫檔圈來保證爐門低溫狀態(tài)。工藝反應過程中SiC槳退出反應石英管外，這些設計上的優(yōu)點減少擴散均勻性的影響因素，在工藝生產中能更好地保證擴散的均勻性；同時也極大地降低工藝粘污風險，為高效太陽電池產業(yè)應用提供硬件保障。這也是SCL式擴散爐逐步取代懸臂裝載式擴散爐的原因所在。早期的工藝路線主要包括開管擴散與閉管擴散，鑒于對擴散均勻性要求的不斷提高和對高轉換效率電池大規(guī)模生產成本降低的要求，現(xiàn)基本采用閉管工藝路線。對懸臂管式擴散爐中影響擴散均勻性的氣氛場因素進行相關的研究，以達到優(yōu)化工藝參數(shù)、降低生產成本的目的。

2 擴散均勻性影響因素
??? 針對管式擴散爐的特點，優(yōu)化擴散的均勻性主要采取溫區(qū)補償技術。在大規(guī)模生產中，補償方法主要通過調整工藝反應時間、氣體流量和反應溫度三者實現(xiàn)。配備懸臂裝載機構擴散爐本身的特點及恒溫區(qū)位置的固定，確保了SiC槳、石英保溫檔圈、均流板和石英舟是固定位置使用。影響擴散均勻性因素除相關物件固定放置位置外，工藝氣體總流量、廢氣排放流量與爐內壓強的平衡設置，均流板的氣體均勻分流設計，廢氣排放位置與氣流變化對溫度穩(wěn)定抗干擾的平衡設置等因素也至關重要，因這些因素相互關聯(lián)影響，使得生產中的工藝優(yōu)化相對困難，尤其是氣氛場因素更難控制，這也是該研究領域至今未建立擴散均勻性氣氛場工程模型的難點。根據氣氛場因素的特點，作出擴散氣氛場結構示意圖如圖1所示。圖1中，箭頭方向為氣體示意流向；廢氣排放管和Profile TC套管處于同一水平面上，工藝廢氣經廢氣排放管排到液封吸收瓶(工業(yè)生產常用酸霧處理塔)處理，處理合格后排氣。

??? 工業(yè)化生產中擴散爐的均勻性主要通過測試擴散后硅片的方塊電阻來反映。工藝反應時間、氣體流量和工藝反應溫度的變化非常直觀地體現(xiàn)在方塊電阻值的變化上，即增加工藝反應時間和工藝反應溫度將導致方塊電阻值的降低，磷源流量的減小反映在方塊電阻值的升高；反之亦然。

2．1 工藝氣體流量對爐內溫度的影響
??? 在工藝溫度穩(wěn)定條件下，關閉小N2(磷源bubbler bottle)，通過手動調節(jié)大N2流量，試驗記錄擴散爐石英反應管內爐口、爐中、爐尾3段Profile TC(tlaermal couple)溫度隨爐內氣體流量(壓強)的變化情況，以研究爐內氣氛場氣體流量(壓強)變化對與擴散均勻性密切關聯(lián)的溫度影響程度和趨勢。試驗過程包括：
??? (1)檢查爐門及各氣路連接處的密封性；
??? (2)設備溫度PID參數(shù)自整定；
??? (3)手動調節(jié)大N2流量，從25 L／min，增加到27 L/min，記錄流量調節(jié)前后穩(wěn)定溫度值和流量變化導致的溫度動態(tài)偏差值，見表1；
??? (4)手動調節(jié)大N2流量，從25L／min，減少到23 L/min，記錄流量調節(jié)前后穩(wěn)定溫度值和流量變化導致的溫度動態(tài)偏差值，見表2，表中Zone1為爐尾，Zone2是爐中尾，Zone3為爐中，Zone4是爐中口，Zone5為爐口。
??? 從表1和表2的數(shù)據可看出，氣流量由25 L／min向27 L／min變化，爐尾溫度降低1℃，爐口溫度無變化，氣流量由25 L／min減少到23 L／min，爐尾溫度升高1℃，爐口溫度降低1℃。

2．3 廢氣排放位置對爐口均勻性的影響
??? 擴散爐恒溫區(qū)的有限性與生產產量的最大化是矛盾關聯(lián)的。在生產中，需要在恒溫區(qū)最大限度地放置擴散硅片，保證恒溫區(qū)溫度的精度和穩(wěn)定性。因配置懸臂式裝載系統(tǒng)的擴散爐爐口對溫度的干擾最大，可將廢氣管口盡可能地靠近爐門，同時也能改善靠近爐口方向硅片反應區(qū)域氣氛場的均勻性。因此，分別調整廢氣排放位置并進行試驗對比。