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電子發(fā)燒友網(wǎng)>電源/新能源>電源新聞>表面波等離子體激勵(lì)源設(shè)計(jì)

表面波等離子體激勵(lì)源設(shè)計(jì)

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2008-10-30 23:52:541224

#硬聲創(chuàng)作季 微電子工藝:6.3CVD工藝方法-3等離子體(上)

等離子體IC設(shè)計(jì)等離子等離子體技術(shù)
Mr_haohao發(fā)布于 2022-10-21 01:54:02

#硬聲創(chuàng)作季 微電子工藝:6.3CVD工藝方法-3等離子體(下)

等離子體IC設(shè)計(jì)等離子等離子體技術(shù)
Mr_haohao發(fā)布于 2022-10-21 01:54:32

等離子體的產(chǎn)生及技術(shù)應(yīng)用

  等離子體又叫做電漿,是由部分電子被剝奪后的原子及原子被電離后產(chǎn)生的正負(fù)電子組成的離子化氣體狀物質(zhì),它廣泛存在于宇宙中,常被視為是除去固、液、氣外,物質(zhì)存
2010-07-29 11:02:383997

光電技術(shù):等離子體顯示#光電技術(shù)

等離子體光電技術(shù)等離子體技術(shù)激光與光學(xué)
學(xué)習(xí)硬聲知識(shí)發(fā)布于 2022-11-11 11:12:18

等離子體離子注入技術(shù)及其應(yīng)用

離子注八材料表面陡性技術(shù), 是材料科學(xué)發(fā)展的一個(gè)重要方面。文中概述7等離子體離子注八技術(shù)的特點(diǎn) 基皋原理 應(yīng)用效果。取覆等離子體離子注八技術(shù)的發(fā)展趨勢。例如, 除7在
2011-05-22 12:35:2948

空間等離子體鞘層的時(shí)域特性研究

根據(jù)靜電場理論給出了描述鞘層電位的Poisson方程、等離子體理論和Boltzmann方程,給出了粒子數(shù)密度守恒方程。通過牛頓運(yùn)動(dòng)定律建立了等離子體的動(dòng)量方程。基于Poisson方程、粒子數(shù)密
2012-02-09 16:43:2117

等離子體焊接槍的數(shù)值模擬

等離子體鎢極氬弧焊接槍為研究對象,通過求等離子體弧柱區(qū)域的能量方程、動(dòng)量守恒、質(zhì)量守恒及電流連續(xù)性方程。得到溫度、速度、電流密度分布。
2012-03-28 15:20:2131

COMSOL系列資料_等離子體模塊簡介

等離子體模塊是用于模擬低溫等離子源或系統(tǒng)的專業(yè)工具。借助模塊中預(yù)置的物理場接口,工程師或科學(xué)家可以探究物理放電機(jī)理或用于評估現(xiàn)有或未來設(shè)計(jì)的性能,例如直流放電、感應(yīng)耦合等離子體、容性耦合等離子體、微波等離子體表面氣相沉積等。
2015-12-31 10:30:1557

電感耦合等離子體質(zhì)樸分析的應(yīng)用

電感耦合等離子體質(zhì)樸分析的應(yīng)用
2017-02-07 16:15:389

Ag_TiO_2薄膜表面等離子體共振光譜特性研究_劉超

Ag_TiO_2薄膜表面等離子體共振光譜特性研究_劉超
2017-03-19 18:58:180

大氣壓低溫等離子體的研究

發(fā)展趨勢。其中,理論研究主要從激勵(lì)電源類型、等離子體裝置、實(shí)驗(yàn)診斷技術(shù)和仿真方法等四個(gè)方面展開綜述,實(shí)際應(yīng)用則主要集中在生物醫(yī)學(xué)、環(huán)境治理、流動(dòng)控制和材料處理等領(lǐng)域。從會(huì)議相關(guān)情況來看,國內(nèi)的大氣壓低溫等離子體
2018-01-02 16:12:245

低溫等離子體氣體溫度參數(shù)研究

放電等離子體有著非常廣泛的實(shí)際工程應(yīng)用價(jià)值,其內(nèi)部溫度特性是表征等離子體性質(zhì)的一個(gè)重要參數(shù)。為了探明大氣壓下放電等離子體的氣體溫度空間分布特性參數(shù),搭建了一套基于莫爾偏折原理的光學(xué)測試系統(tǒng),對銅電極
2018-01-02 16:37:196

等離子體射流快速改性電荷衰減

隨著高壓直流輸電迅猛發(fā)展,絕緣材料在直流電壓下表面電荷積聚現(xiàn)象嚴(yán)重威脅直流輸電系統(tǒng)的安全可靠運(yùn)行。為加快絕緣材料表面電荷的消散,采用大氣壓等離子體射流,以TEOS為前驅(qū)物,在環(huán)氧樹脂表面沉積Si0
2018-01-16 11:07:443

等離子體表面處理技術(shù)在醫(yī)療器械領(lǐng)域的應(yīng)用概述

對氣體施加電壓使之產(chǎn)生輝光放電的技術(shù),或者稱做等離子體技術(shù),在醫(yī)療器械領(lǐng)域已經(jīng)成為了一種解決表面預(yù)處理問題的有力工具。
2018-02-15 20:35:008250

等離子體現(xiàn)金的區(qū)塊鏈擴(kuò)展解決方案的提出

Ethereum的聯(lián)合創(chuàng)始人Vitalik Buterin提出了一種名為等離子體現(xiàn)金的區(qū)塊鏈擴(kuò)展解決方案,這是一種甚至“更可伸縮”的現(xiàn)有解決方案。等離子體現(xiàn)金由Buterin和開發(fā)者Dan
2018-03-13 07:31:00739

低溫等離子體處理廢氣

低溫等離子體廢氣處理技術(shù)正越來越引起人們的重視,它是未來環(huán)保產(chǎn)業(yè)的重要發(fā)展方向。由于強(qiáng)溫室氣體SF6本身的理化特性,等離子體處理SF6面臨著更多的挑戰(zhàn),目前該方面的研究綜述鮮見。本文嘗試根據(jù)國內(nèi)外
2018-03-16 10:20:234

用于測量大范圍的等離子體密度的標(biāo)量微波反射計(jì)的設(shè)計(jì)

微波測量方法是將電磁波作為探測束入射到等離子體中,對等離子體特性進(jìn)行探測,不會(huì)對等離子體造成污染。常規(guī)微波反射計(jì)也是通過測量電磁波在等離子體截止頻率時(shí)的反射信號(hào)相位來計(jì)算等離子密度。當(dāng)等離子密度較高
2018-11-29 08:53:003362

以太坊等離子體Plasma是如何工作的

以太坊等離子體(Plasma)是由以太坊聯(lián)合創(chuàng)始人Vitalik Buterin和Joseph Poon共同提出的。該概念于2017年8月作為以太坊的擴(kuò)容解決方案誕生。與Thaddeus Dryja
2018-12-20 11:23:52969

區(qū)塊鏈等離子體研究指導(dǎo)框架

然而,自從我開始自己閱讀關(guān)于等離子體的在線資源以來,我身邊來自cryptoeconomics Lab的專業(yè)等離子體研究人員為我提供了一種非常接近的方式,讓完全的初學(xué)者可以從頭開始學(xué)習(xí)等離子體。他們給我提供了一大堆文章的參考資料,我們可以按照正確的順序閱讀。
2019-01-16 11:19:46673

低溫等離子體發(fā)生器的應(yīng)用資料說明

等離子體可以通過多種方式來產(chǎn)生,常見的方法主要包括:熱電離法/射線輻照法/光電離法/激波等離子法/激光等離子法/氣體放電法等。氣體放電是指氣體在電場的作用下被擊穿引起的導(dǎo)電現(xiàn)象,而低溫等離子體的產(chǎn)生方式主要是通過氣體放電來實(shí)現(xiàn)的。下面主要介紹通過氣體放電來產(chǎn)生低溫等離子體的各種方式
2019-04-22 08:00:0035

高頻高壓等離子體發(fā)生過程與系統(tǒng)設(shè)計(jì)

針對傳統(tǒng)直流等離子體發(fā)生器電源效率不高、驅(qū)動(dòng)管熱損耗大等問題,設(shè)計(jì)了一個(gè)高效率低損耗的高頻高壓等離子體發(fā)生器。該系統(tǒng)通過移相全橋控制電路進(jìn)行PWM方波控制,在功率晶體管驅(qū)動(dòng)下,經(jīng)高頻諧振升壓電路
2019-09-09 17:45:515521

PCB電路板等離子體處理的方法介紹

等離子體,是指像紫色光、霓虹燈光一樣的光,也有稱其為抄板物質(zhì)的第四相態(tài)。等離子體相態(tài)是由于原子中激化的電子和分子無序運(yùn)動(dòng)的狀態(tài),所以具有相當(dāng)高的能量。
2019-09-10 14:55:352608

等離子體位移快控電源設(shè)計(jì)

等離子體位移快控電源設(shè)計(jì)(現(xiàn)代電源技術(shù)基礎(chǔ)下載)-等離子體位移快控電源設(shè)計(jì)等離子體位移快控電源設(shè)計(jì)
2021-09-29 17:45:395

什么是等離子清洗,等離子清洗的介紹

等離子清洗是通過使用稱為等離子體的電離氣體從物體表面去除所有有機(jī)物質(zhì)的過程。這通常在使用氧氣和/或氬氣的真空室中進(jìn)行。清潔過程是一種環(huán)境安全的過程,因?yàn)椴簧婕按碳ば曰瘜W(xué)品。等離子體通常會(huì)在被清潔的表面上留下自由基,以進(jìn)一步增加該表面的粘合性。
2021-12-22 14:35:074946

基于芯片級(jí)SAW霧化器的等離子體活化水發(fā)生技術(shù)

研究人員通過在包含納米針陣列的氧化鋅(ZnO)納米棒上產(chǎn)生等離子體,然后使用等離子體活化通過底層毛細(xì)管芯輸送的水,隨后在MHz級(jí)聲表面波(SAW)下實(shí)現(xiàn)霧化。氣溶膠的產(chǎn)生涉及使用芯片級(jí)高頻納米振幅機(jī)電激勵(lì)形成聲表面波(SAW)
2022-04-24 10:57:562108

等離子體摻雜(Plasma Doping)

通常,用射頻電源產(chǎn)生高濃度等離子體電離摻雜氣體,而用偏置電源加速離子去“轟擊”圓片表面。最常用的 PLAD 摻雜氣體為 B2H6,用于硼摻雜。對于需要非常高劑量的圓片摻雜的產(chǎn)品,由于離子注入機(jī)需要“點(diǎn)”式掃描注入,即使在最高的離子束流下,工藝實(shí)施時(shí)間仍然較長,產(chǎn)出效率低。
2022-11-01 10:14:003045

低溫等離子體技術(shù)的應(yīng)用

近年來,等離子體技術(shù)的使用范圍正在不斷擴(kuò)大。在半導(dǎo)體制造、殺菌消毒、醫(yī)療前線等諸多領(lǐng)域,利用等離子體特性的應(yīng)用不斷壯大。CeraPlas? 是TDK 開發(fā)的等離子體發(fā)生器,與傳統(tǒng)產(chǎn)品相比,它可以在緊湊的封裝中產(chǎn)生低溫等離子體*1,并具有更低的功耗。它有望促進(jìn)各種設(shè)備的開發(fā),使離子體技術(shù)更容易使用。
2023-02-27 17:54:38746

真空等離子清洗機(jī)的制造商正在引入氧和氫等離子體來蝕刻石墨烯

等離子體和氫等離子體都可用于蝕刻石墨烯。兩種石墨烯氣體等離子刻蝕的基本原理是通過化學(xué)反應(yīng)沿石墨烯的晶面進(jìn)行刻蝕。不同的是,氧等離子體攻擊碳碳鍵后形成一氧化碳、二氧化碳等揮發(fā)性氣體,而氫等離子體則形成甲烷氣體并與之形成碳?xì)滏I。
2022-06-21 14:32:25391

金徠:低溫等離子體清洗機(jī)在太陽能光伏玻璃中的應(yīng)用

后,可增加含氟涂層表面,減小接觸角,增加EVA的剝離力,進(jìn)而提高含氟涂層與EVA的結(jié)合功能。隨著低溫等離子體處理功率和時(shí)間的增加,有利于改善其外觀和功能。
2022-06-28 14:57:00368

低溫等離子體表面處理設(shè)備在各種材料領(lǐng)域的應(yīng)用

等離子體清洗技術(shù)自問世以來,隨著電子等行業(yè)的快速發(fā)展,其應(yīng)用范圍逐漸擴(kuò)大,用于活化蝕刻和等離子體清洗,以提高膠粘劑的粘接性能。
2022-07-04 16:09:18433

等離子體表面預(yù)處理改善油漆和清漆對表面的粘合,提高涂料和上漆的質(zhì)量

等離子體表面預(yù)處理改善油漆和清漆對表面的粘合,從而提高涂料和上漆的質(zhì)量。 許多成分由金屬、玻璃、陶瓷甚至木材和紡織品天然材料等制成,它們的表面很難上漆。
2022-09-05 14:43:23386

等離子清洗機(jī)解決電纜電線噴碼的掉漆問題

等離子清洗機(jī)的出現(xiàn)解決了傳統(tǒng)電纜電線噴碼的問題。? 低溫等離子體主要用于轟擊材料表面。材料表面分子的化學(xué)鍵打開,與等離子體中的自由基結(jié)合,在材料表面形成極性基團(tuán)。簡單來說,金徠等離子清洗機(jī)可以有效提高材料表面的附著力。電線電纜經(jīng)過等離子清洗機(jī)處理后,噴涂印刷時(shí)油漆不會(huì)脫落。
2022-10-24 09:34:57421

常壓等離子體清洗技術(shù)的常見問題

金徠常壓等離子體技術(shù)與其他表面處理方法相比有哪些主要優(yōu)點(diǎn)? 與其他表面活化方法相比,最主要優(yōu)點(diǎn)是具有高效率。 等離子體系統(tǒng)能夠非常容易地集成到現(xiàn)有生產(chǎn)線里,它環(huán)保,節(jié)約空間,還具有低運(yùn)行成本的優(yōu)勢。
2022-10-26 09:48:12335

鋁箔等離子表面處理設(shè)備原理 增加鋁箔表面的粘附力

通過金徠等離子體處理,可以提高金屬表面的活性,改善金屬表面的結(jié)合力、增強(qiáng)涂層附著力等性質(zhì),使得金屬制品的質(zhì)量和性能得到明顯的改善和提升。此外,等離子體處理還可以改善金屬表面的光潔度,使得金屬表面更加平整光滑。
2023-05-05 10:51:23527

等離子體蝕刻率的限制

都使用Cl基蝕刻化學(xué)物質(zhì)。當(dāng)在等離子體放電中分解時(shí),CCl為還原物質(zhì)提供了來源,并用于去除表面氧化物和Cl,與下面的Al反應(yīng)。
2023-06-27 13:24:11318

等離子體清洗工藝的關(guān)鍵技術(shù) 等離子體清洗在封裝生產(chǎn)中的應(yīng)用

等離子體工藝是干法清洗應(yīng)用中的重要部分,隨著微電子技術(shù)的發(fā)展,等離子體清洗的優(yōu)勢越來越明顯。文章介紹了等離子體清洗的特點(diǎn)和應(yīng)用,討論了它的清洗原理和優(yōu)化設(shè)計(jì)方法。最后分析了等離子體清洗工藝的關(guān)鍵技術(shù)及解決方法。
2023-10-18 17:42:36447

無標(biāo)記等離子體納米成像新技術(shù)

技術(shù)開發(fā)了一種基于局部表面等離子體成像的新成像技術(shù),可以檢測直徑小于25納米的粒子。 研究人員將該技術(shù)稱為PANORAMA(超近場調(diào)制等離子體納米孔徑無標(biāo)記成像)。與其他基于等離子體的成像技術(shù)相比,PANORAMA利用局域化等離子體效應(yīng)
2023-11-27 06:35:23121

掀起神秘第四態(tài)的面紗!——等離子體羽流成像

01、重點(diǎn)和難點(diǎn) 等離子體通常被認(rèn)為是物質(zhì)的第四態(tài),除了固體、液體和氣體之外的狀態(tài)。等離子體是一種高能量狀態(tài)的物質(zhì),其中原子或分子中的電子被從它們的原子核中解離,并且在整個(gè)系統(tǒng)中自由移動(dòng)。這種狀態(tài)
2023-12-26 08:26:29209

表面等離子體激元有望解決半導(dǎo)體散熱問題

——利用在基板上的金屬薄膜中產(chǎn)生的表面波來散熱,是一個(gè)重要的突破。 韓國科學(xué)技術(shù)學(xué)院(KAIST)宣布,機(jī)械工程系Bong Jae Lee教授的研究小組在世界上首次成功測量了沉積在基板上的金屬薄膜中“表面等離子體激元”(surface pla
2024-01-03 15:32:39184

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