SuperViewW1白光干涉儀是以白光干涉技術(shù)為原理，獲取反映器件表面質(zhì)量的2D、3D參數(shù)，從而實(shí)現(xiàn)器件表面形貌3D測(cè)量的光學(xué)檢測(cè)儀器。集合了相移法PSI的高精度和垂直法VSI的大范圍兩大優(yōu)點(diǎn)，適用于從超光滑到粗糙、平面到弧面等各種表面類(lèi)型，讓3D測(cè)量變得簡(jiǎn)單。
SuperViewW1白光干涉儀具有測(cè)量精度高、操作便捷、功能齊全、測(cè)量參數(shù)涵蓋面廣的優(yōu)點(diǎn)，測(cè)量單個(gè)精細(xì)器件的過(guò)程用時(shí)短，確保了高款率檢測(cè)。白光干涉儀的特殊光源模式，可以廣泛適用于從光滑到粗糙等各種精細(xì)器件表面的測(cè)量。除主要用于測(cè)量表面形貌或測(cè)量表面輪廓外，具有的測(cè)量晶圓翹曲度功能，非常適合晶圓，太陽(yáng)能電池和玻璃面板的翹曲度測(cè)量，應(yīng)變測(cè)量以及表面形貌測(cè)量。
結(jié)果組成：
1、三維表面結(jié)構(gòu)：粗糙度，波紋度，表面結(jié)構(gòu)，缺陷分析，晶粒分析等；
2、二維圖像分析：距離，半徑，斜坡，格子圖，輪廓線等；
3、表界面測(cè)量：透明表面形貌，薄膜厚度，透明薄膜下的表面；
4、薄膜和厚膜的臺(tái)階高度測(cè)量；
5、劃痕形貌，摩擦磨損深度、寬度和體積定量測(cè)量；
6、微電子表面分析和MEMS表征。
產(chǎn)品功能
(1)SuperViewW1白光干涉儀設(shè)備提供表征微觀形貌的粗糙度和臺(tái)階高、角度等輪廓尺寸測(cè)量功能；
(2)測(cè)量中提供自動(dòng)對(duì)焦、自動(dòng)找條紋、自動(dòng)調(diào)亮度等自動(dòng)化輔助功能；
(3)測(cè)量中提供自動(dòng)拼接測(cè)量、定位自動(dòng)多區(qū)域測(cè)量功能；
(4)分析中提供校平、圖像修描、去噪和濾波、區(qū)域提取等四大模塊的數(shù)據(jù)處理功能；
(5)分析中提供粗糙度分析、幾何輪廓分析、結(jié)構(gòu)分析、頻率分析、功能分析等五大分析功能；
(6)分析中同時(shí)提供一鍵分析和多文件分析等輔助分析功能。
應(yīng)用領(lǐng)域
對(duì)各種產(chǎn)品、部件和材料表面的平面度、粗糙度、波紋度、面形輪廓、表面缺陷、磨損情況、腐蝕情況、孔隙間隙、臺(tái)階高度、彎曲變形情況、加工情況等表面形貌特征進(jìn)行測(cè)量和分析。
應(yīng)用范例：
部分技術(shù)指標(biāo)
型號(hào) | W1 | |
| 光源 | 白光LED | |
| 影像系統(tǒng) | 1024×1024 | |
| 干涉物鏡 | 標(biāo)配:10× 選配:2.5×、5×、20×、50×、100× | |
| 光學(xué)ZOOM | 標(biāo)配:0.5× 選配:0.375×、0.75×、1× | |
| 標(biāo)準(zhǔn)視場(chǎng) | 0.98×0.98㎜（10×物鏡，光學(xué)ZOOM 0.5×） | |
XY位移平臺(tái) | 尺寸 | 320×200㎜ |
| 移動(dòng)范圍 | 140×100㎜ | |
| 負(fù)載 | 10kg | |
| 控制方式 | 電動(dòng) | |
| Z軸聚焦 | 行程 | 100㎜ |
| 控制方式 | 電動(dòng) | |
| 臺(tái)階測(cè)量 | ||
| 可測(cè)樣品反射率 | 0.05%~100% | |
| 主機(jī)尺寸 | 700×606×920㎜ | |
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