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針對激光在傳輸過程中的光能損失 ，本文根據(jù)光學(xué)薄膜理論，設(shè)計制備了減反射膜和抗激光的高反射膜，并對激光膜的鍍膜材料 、膜系設(shè)計、沉積工藝及離子輔助沉積等參數(shù)進行了深入研究。研究結(jié)果表明，制備的減反膜的反射率 0．2％ ，激光以25。～65。入射時高反射膜的反射率 》99．7％。對 50txm光纖和 K9玻璃鍍膜前后的輸出功率測試顯示多模光纖的功率平均提高了50％，而 K9玻璃的反射功率提高到 99．85％ ；另外，制備的光纖激光器光學(xué)膜有效地提高了激光損傷 閾值 ，解決 了低溫冷鍍 的膜層牢 固性問題 。
對于寬帶減反膜 ，首先采用周期膜系進行設(shè)計。根據(jù)薄膜理論 ，對基底折射率低于 1．62的基底材料 ，通常采用的是 3層膜系，表達式為 SubIM2HL1Air，其中 M、H和 L分別表示為 A1O ，ZrO和 MgF的 1／4中心波長的光學(xué)厚度。由于高溫下光纖塑料外包層會熔化 ，所 以光纖鍍 膜是在低溫下進行的，即基底溫度低 于 100cc。如果采用上述 3層膜 的材料在光纖端面鍍膜 ，膜層很容易脫落。經(jīng) 過實驗 證 明，選 擇 M．，H 和 SiO 作 為3層膜 的材料 ，加之離子輔 助沉積 ，保持膜 系不變，其牢固性很好 。利用 TFCalc膜系設(shè)計軟件得到理論反射率曲線如圖 1所示。
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