資料介紹
十年前,我剛畢業進入方正,當年我們的定位是SiGe,工號100以內的人曾經的郵箱后綴都是@sige.cn,好高大上,雖然后來還是順應潮流走了Si工藝(現在已是6寸的佼佼者)。實際上SiGe只是實驗室里的花瓶,雖然不如他但是卻很成熟的有GaAs,比它牛的材料有SiC,所以注定了SiGe不會商業化,我在學校的時候也只是看到24研究所有研究過。好吧,再回來聊我們的半導體材料,世界上最早的半導體材料是Ge,后來才是Si,主要是便宜因為原材料是沙子取之不竭用之不盡,所以硅/Si一直統治了半導體領域大半個世紀。但是隨著摩爾定律的驅策,我們已經走到了原子級導致了很多擊穿以及漏電等技術難題,所以到了10nm以下將迎來Si時代的終結,至于是不是IBM研發的石墨烯7nm晶體管我們還是期待吧,說不定我們tsmc能夠延續Si-7nm呢。在講新材料之前我們還是把理論鋪墊一下,不然后面講解就純屬無稽之談了。半導體材料的選擇無非就是兩個因素:一是載流子遷移率μ(Carrier Mobility),二是禁帶寬度Eg (臺灣稱“帶隙”, Forbidden band)。而遷移率與電場、載流子質量、材料晶格密度(碰撞散射)相關,這個沒什么理論,但是禁帶寬度就要好好講講了,教科書里的理論是價帶低與導帶頂之間就是禁帶,而禁帶寬度越小則電子容易從價帶躍遷到導帶形成自由電子-空穴對(Electron-Hole pair)參與導電,當然這也就是我們講的雪崩擊穿或漏電的產生機理。
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