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      標簽　>　微影技術

      微影技術

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      EUV技術量產進入最后沖刺階段

      盡管極紫外光(EUV)步進機的大量生產面臨復雜的問題以及緊迫的時間，專家們仍然抱持樂觀態度...

      2018-06-01 標簽：EUV微影技術 2888 0

      EUV微影技術仍待克服重重障礙 2020年將用于關鍵步驟

      EUV微影技術仍待克服重重障礙 2020年將用于關鍵步驟

      極紫外光（EUV）微影技術持續取得重大進展。在日前于美國加州圣荷西舉行的國際光電工程學會（SPIE）年度會議上，英特爾（Intel）與三星（Samsun...

      2017-03-02 標簽：EUV微影技術5nm制程 1798 0

      微影技術日益精進 半導體工藝持續成長

      半導體工業在光學微影技術的幫助下，長期形成持續且快速的成長態勢，但光學微影在面對更精密的制程已開始出現應用瓶頸，尤其在小于0.1微米或更精密的制程，必須...

      2014-09-04 標簽：半導體工藝微影技術 1841 0

      ASML：預計2015年可發布首款量產型EUV機臺

      設備供應商艾司摩爾（ASML）已協同比利時微電子研究中心（IMEC）和重量級晶圓廠，合力改良EUV光源功率與晶圓產出速度，預計2015年可發布首款量產型...

      2013-08-19 標簽：英特爾臺積電IP 1770 0

      FinFET改變戰局：臺積將組大聯盟抗三星Intel

      晶圓代工廠邁入高投資與技術門檻的鰭式場效電晶體制程世代后，與整合元件制造商的競爭將更為激烈，因此臺積電正積極籌組大聯盟，串連矽智財、半導體設備/材料，以...

      2013-07-24 標簽：臺積電晶圓代工FinFET 1144 0

      摩爾定律等待跨越微影障礙

      專家們一致認為，過去幾十年來一直扮演半導體創新引擎的摩爾定律（Moore“s Law ），正由于下一代超紫外光（EUV）微影技術的延遲而失去動力。

      2012-10-10 標簽：摩爾定律IMEC微影技術 950 0

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