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      標簽　>　清洗工藝

      清洗工藝

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      清洗工藝技術

      半導體濕法清洗工藝

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      印制電路板組裝件手工清洗工藝方案

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      摘 要:文章主要論述了手工清洗劑的分類；手工清洗劑的選擇應考慮哪些特性；手工清洗工藝方法；幾種手工清洗劑的特性、材料兼容性及清洗后的效果。并給出了批量手...

      2023-10-19 標簽：印制電路板電路板PCBA 1356 0

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      SK海力士用更加環保的氟氣替代三氟化氮用于芯片清潔工藝

      SK 海力士，作為全球領先的半導體制造商，近期在環保領域邁出了重要一步，宣布在其芯片生產的關鍵清洗工藝中，將采用更為環保的氣體——氟氣（F2）來替代傳統...

      2024-07-26 標簽：半導體清洗工藝SK海力士 518 0

      水泥公司懸窯12臺拖輪瓦座冷卻水路出現結垢現象，如何解決？

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      一、問題背景某水泥公司懸窯12臺拖輪瓦座冷卻水路出現結垢現象。由于水處理設備運行不當,水質控制不嚴形成沉淀物。這些沉淀物粘結在受熱較大的冷卻系統受熱面上...

      2024-07-09 標簽：設備清洗工藝冷卻器 196 0

      SAPS兆頻超聲波技術應用于TSV晶片的刻蝕后清洗工藝

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      本文介紹了我們華林科納半導體將空間交替相移(SAPS)兆頻超聲波技術應用于TSV晶片的刻蝕后清洗工藝，SAPS技術通過在兆頻超聲波裝置和晶片之間的間隙中...

      2022-05-26 標簽：晶片TSV清洗工藝 936 0

      關于臭氧化去離子水去除最終拋光晶片上的顆粒的研究報告

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      摘要 本研究開發了一種低擁有成本的臭氧去離子水清洗工藝。室溫下40 ppm的臭氧濃度用于去除有機蠟膜和顆粒。僅經過商業脫蠟處理后，仍殘留有厚度超過200...

      2022-01-26 標簽：半導體晶片清洗工藝 426 0

      關于鋁線鍵合的等離子清洗工藝的研究

      摘要：采用DOE（實驗設計）方法，通過比較鋁線拉力的數值、標準方差及PpK，得到最適合鋁 線鍵合工藝的等離子清洗功率、時間和氣流速度參數的組合。同時分析...

      2020-12-30 標簽：等離子清洗工藝 1402 0

      目前光罩清洗機中使用的幾種主要的清洗工藝介紹

      目前光罩清洗機中使用的幾種主要的清洗工藝介紹

      摘 要：光罩清洗的流程以及優化，需要在實際生產運用中來完善，要保證在不影響清洗能力的情況下來優化各個工藝參數，在各種工藝清洗時的時間和MASKStage...

      2020-12-29 標簽：清洗機清洗工藝 4176 0

      關于硅晶片研磨之后的清洗工藝介紹

      本發明的工藝一般涉及到半導體晶片的清洗。更確切地說，本發明涉及到可能存在于被研磨的單晶硅晶片的表面上的有機殘留物、金屬雜質和其它特定的沾污物的清洗處理步...

      2020-12-29 標簽：硅晶片清洗工藝 2245 0

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