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標(biāo)簽 > 清洗工藝
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SK海力士用更加環(huán)保的氟氣替代三氟化氮用于芯片清潔工藝
SK 海力士,作為全球領(lǐng)先的半導(dǎo)體制造商,近期在環(huán)保領(lǐng)域邁出了重要一步,宣布在其芯片生產(chǎn)的關(guān)鍵清洗工藝中,將采用更為環(huán)保的氣體——氟氣(F2)來替代傳統(tǒng)...
水泥公司懸窯12臺(tái)拖輪瓦座冷卻水路出現(xiàn)結(jié)垢現(xiàn)象,如何解決?
一、問題背景某水泥公司懸窯12臺(tái)拖輪瓦座冷卻水路出現(xiàn)結(jié)垢現(xiàn)象。由于水處理設(shè)備運(yùn)行不當(dāng),水質(zhì)控制不嚴(yán)形成沉淀物。這些沉淀物粘結(jié)在受熱較大的冷卻系統(tǒng)受熱面上...
SAPS兆頻超聲波技術(shù)應(yīng)用于TSV晶片的刻蝕后清洗工藝
本文介紹了我們?nèi)A林科納半導(dǎo)體將空間交替相移(SAPS)兆頻超聲波技術(shù)應(yīng)用于TSV晶片的刻蝕后清洗工藝,SAPS技術(shù)通過在兆頻超聲波裝置和晶片之間的間隙中...
關(guān)于臭氧化去離子水去除最終拋光晶片上的顆粒的研究報(bào)告
摘要 本研究開發(fā)了一種低擁有成本的臭氧去離子水清洗工藝。室溫下40 ppm的臭氧濃度用于去除有機(jī)蠟?zāi)ず皖w粒。僅經(jīng)過商業(yè)脫蠟處理后,仍殘留有厚度超過200...
摘要:采用DOE(實(shí)驗(yàn)設(shè)計(jì))方法,通過比較鋁線拉力的數(shù)值、標(biāo)準(zhǔn)方差及PpK,得到最適合鋁 線鍵合工藝的等離子清洗功率、時(shí)間和氣流速度參數(shù)的組合。同時(shí)分析...
摘 要:光罩清洗的流程以及優(yōu)化,需要在實(shí)際生產(chǎn)運(yùn)用中來完善,要保證在不影響清洗能力的情況下來優(yōu)化各個(gè)工藝參數(shù),在各種工藝清洗時(shí)的時(shí)間和MASKStage...
本發(fā)明的工藝一般涉及到半導(dǎo)體晶片的清洗。更確切地說,本發(fā)明涉及到可能存在于被研磨的單晶硅晶片的表面上的有機(jī)殘留物、金屬雜質(zhì)和其它特定的沾污物的清洗處理步...
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