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標(biāo)簽 > 離子束
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半導(dǎo)體制造中FIB、SEM關(guān)鍵技術(shù)原理
聚焦離子束(Focused Ion beam,F(xiàn)IB)是一種利用電透鏡將離子束聚焦成非常小尺寸的顯微切割儀器。 聚焦后作用于樣品表面。
二次離子質(zhì)譜(SIMS)是一種分析方法。具有高空間分辨率和高靈敏度的工具。它使用高度聚焦的離子束(通常是氧氣或(無機(jī)樣品用銫離子)“濺射”樣品表面上選...
2022-11-22 標(biāo)簽:離子束 1098 0
隨著基于鈮酸鋰 LN 的光源, 光調(diào)制, 光探測(cè)等重要器件的實(shí)現(xiàn), 鈮酸鋰 LN 光子集成芯片有望像硅基集成電路一樣, 成為高速率, 高容量, 低能耗光...
EBSD技術(shù)的重要性電子背散射衍射(EBSD)技術(shù)是材料科學(xué)中用于揭示材料微觀結(jié)構(gòu)的關(guān)鍵工具。它詳細(xì)描述了材料在凝固、塑性變形、相變以及斷裂等物理過程中...
2024-11-08 標(biāo)簽:fib測(cè)試設(shè)備離子束 248 0
FIB技術(shù)在各領(lǐng)域的應(yīng)用及其運(yùn)作機(jī)制解析
雙束聚焦離子束(FIB)系統(tǒng)概述雙束聚焦離子束(FIB)系統(tǒng)是一種集成了單束聚焦離子束和掃描電子顯微鏡(SEM)功能的高精度微納加工技術(shù)。這種系統(tǒng)通過精...
深入解析離子束(FIB)技術(shù)在微納米加工領(lǐng)域的應(yīng)用
集成電路制造中的先進(jìn)束流技術(shù)在集成電路的制造過程中,三種先進(jìn)的束流技術(shù)——電子束、光子束和離子束技術(shù),扮演著至關(guān)重要的角色。這些技術(shù)不僅推動(dòng)了微電子器件...
美國(guó)進(jìn)口 KRi 考夫曼離子源 KDC 160 硅片刻蝕清潔案例
上海伯東美國(guó) KRi 大尺寸考夫曼離子源 KDC 160 適用于 2-4英寸的硅片刻蝕和清潔應(yīng)用, KRi KDC 160 是直流柵網(wǎng)離子源, 高輸出離...
聚焦FIB技術(shù):微納尺度加工的利器聚焦離子束(FIB)技術(shù)以其卓越的精確度在微觀加工領(lǐng)域占據(jù)重要地位,能夠?qū)崿F(xiàn)從微米級(jí)到納米級(jí)的精細(xì)加工。金鑒實(shí)驗(yàn)室在這...
聚焦離子束(FIB)技術(shù)的特點(diǎn)、優(yōu)勢(shì)以及應(yīng)用
本文介紹了聚焦離子束(FIB)技術(shù)的特點(diǎn)、優(yōu)勢(shì)以及應(yīng)用。 一、FIB 在芯片失效分析中的重要地位 芯片作為現(xiàn)代科技的核心組成部分,其可靠性至關(guān)重要。而在...
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