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標(biāo)簽 > 3nm
在半導(dǎo)體制造中,3納米工藝是繼5納米MOSFET 技術(shù)節(jié)點(diǎn)之后的下一個(gè)芯片縮小。截至2019年,三星和臺(tái)積電已宣布計(jì)劃將3 nm 半導(dǎo)體節(jié)點(diǎn)投入商業(yè)生產(chǎn)。它基于GAAFET(全能柵極場(chǎng)效應(yīng)晶體管)技術(shù),這是一種多柵極MOSFET技術(shù)。
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臺(tái)積電資本支出沖上新高 蘋果、英特爾、超微大客戶紛紛下單
據(jù)臺(tái)灣媒體報(bào)道,近日,臺(tái)積電發(fā)布2020年第四季度報(bào)告,對(duì)于未來5年?duì)I運(yùn)超級(jí)樂觀,2021年資本支出更沖上250億~280億美元,臺(tái)積電表示8成將用在美...
臺(tái)積電日前公布了2020年Q4季度財(cái)報(bào),營(yíng)收為3615.3億元新臺(tái)幣,同比增長(zhǎng)14.0%。凈利潤(rùn)為1427.7億元新臺(tái)幣,同比增長(zhǎng)23.0%。
消息稱蘋果 A17、英特爾包攬臺(tái)積電 3nm 產(chǎn)能
1月15日消息 據(jù)供應(yīng)鏈權(quán)威媒體 Digitimes 報(bào)道,有業(yè)內(nèi)人士透露,臺(tái)積電所定于 2021 年支的 250 億~ 280 億美元中大部分(超過 ...
2020年,臺(tái)積電和三星這兩大芯片代工商,均把芯片制程工藝提升至5nm,而且更先進(jìn)的3nm制程也在計(jì)劃中,不過,最近它們好像都遇到了一些麻煩。
新思科技攜手三星加快3nm節(jié)點(diǎn)設(shè)計(jì)的收斂和簽核
雙方合作包括多個(gè)簽核域和跨庫(kù)特征提取,以加速設(shè)計(jì)收斂 簽核解決方案的創(chuàng)新能夠解決從5納米到3納米的獨(dú)特挑戰(zhàn),以確保簽核準(zhǔn)確性,并將運(yùn)行速度提高20倍、內(nèi)...
此前有消息稱,麒麟9000迭代升級(jí)芯片將命名為麒麟9010,基于3nm制造工藝設(shè)計(jì),由于麒麟芯片目前的特殊處境,使得消息傳出后,引起了網(wǎng)友的熱議。
近日,外媒援引供應(yīng)鏈內(nèi)部消息稱,目前晶圓代工廠的兩大頭部企業(yè)臺(tái)積電和三星的3nm制程工藝均遭遇不同程度的挑戰(zhàn),因此,最終3nm芯片的量產(chǎn)可能會(huì)相應(yīng)的推遲。
臺(tái)積電3nm工藝遭遇挑戰(zhàn),仍有足夠時(shí)間在2022年開始量產(chǎn)
1月5日消息,據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道,在此前的報(bào)道中,英文媒體援引產(chǎn)業(yè)鏈方面的消息報(bào)道稱,臺(tái)積電和三星的3nm工藝研發(fā)均遭遇關(guān)鍵瓶頸,研發(fā)進(jìn)度也不得不推遲。
臺(tái)積電計(jì)劃今年3nm工藝將完成試生產(chǎn)
外媒報(bào)道,臺(tái)積電和三星在3nm工藝技術(shù)的開發(fā)中遇到了不同卻關(guān)鍵的瓶頸。 因此,臺(tái)積電和三星將不得不推遲3nm工藝技術(shù)的開發(fā)進(jìn)度。
1月4日消息,據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道,從公布的月度營(yíng)收來看,芯片代工商臺(tái)積電去年的營(yíng)收將創(chuàng)下新高,而在芯片代工市場(chǎng)需求龐大、先進(jìn)工藝投產(chǎn)及研發(fā)的推動(dòng)下,他們的資...
對(duì)于芯片代工龍頭,臺(tái)積電正在加大自己的研發(fā)費(fèi)用,從而獲得更領(lǐng)先的優(yōu)勢(shì)。
臺(tái)積電 FinFET 和三星 GAA 在 3nm 制程技術(shù)遇瓶頸,量產(chǎn)時(shí)間恐將推遲
據(jù) Digitimes 報(bào)道,業(yè)內(nèi)人士透露,臺(tái)積電 FinFET 和三星 GAA 在 3nm 制程技術(shù)的開發(fā)過程中都遇到了不同但關(guān)鍵的瓶頸。報(bào)道稱,臺(tái)積...
臺(tái)積電和三星3nm制程遭遇挑戰(zhàn),研發(fā)進(jìn)度推遲
1月3日消息,據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道,臺(tái)積電和三星這兩大芯片代工商的制程工藝,均已提升到了5nm,更先進(jìn)的3nm也在按計(jì)劃推進(jìn)中,臺(tái)積電3nm工藝的芯片生產(chǎn)工廠...
日前有媒體報(bào)道稱,臺(tái)積電已經(jīng)成功開發(fā)了2nm工藝,而2nm工廠預(yù)計(jì)將落腳于新竹科學(xué)園區(qū)寶山園區(qū),且臺(tái)積電也持續(xù)積極布局2nm以下的先進(jìn)制程,傳聞可能會(huì)在...
3nm、5nm關(guān)鍵技術(shù):為高性能低功耗電子器件發(fā)展提供新技術(shù)途徑
來自復(fù)旦大學(xué)微電子學(xué)院的消息,該校周鵬團(tuán)隊(duì)針對(duì)具有重大需求的3-5納米節(jié)點(diǎn)晶體管技術(shù),驗(yàn)證了雙層溝道厚度分別為0.6 /1.2納米的圍柵多橋溝道晶體管(...
臺(tái)積電3nm工藝將實(shí)現(xiàn)15%性能提升
2020年,市面上出現(xiàn)了大量5nm工藝的芯片,諸如蘋果A14仿生、麒麟9000以及驍龍888等旗艦芯片均采用5nm工藝。而根據(jù)最新的報(bào)道顯示,在批量生產(chǎn)...
臺(tái)積電正在按計(jì)劃推進(jìn)的3nm工藝
12月18日消息,據(jù)國(guó)外媒體報(bào)道,在5nm工藝今年一季度大規(guī)模量產(chǎn)、為蘋果等客戶代工相關(guān)的芯片之后,臺(tái)積電下一步的重點(diǎn)就將是更先進(jìn)的3nm工藝,這一工藝...
復(fù)旦教授成功實(shí)現(xiàn)3nm/5nmGAA晶體管
來自復(fù)旦大學(xué)微電子學(xué)院的消息,該校周鵬團(tuán)隊(duì)針對(duì)具有重大需求的3-5納米節(jié)點(diǎn)晶體管技術(shù),驗(yàn)證了雙層溝道厚度分別為0.6 /1.2納米的圍柵多橋溝道晶體管(...
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