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標簽 > EUV光刻機
極紫外線光刻機是芯片生產工具,是生產大規模集成電路的核心設備,對芯片工藝有著決定性的影響。小于5納米的芯片晶圓,只能用EUV光刻機生產。2018年4月,中芯國際向阿斯麥下單了一臺EUV(極紫外線)光刻機,于2019年初交貨。
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英特爾將在日本設立先進半導體研發中心,配備EUV光刻設備,支持日本半導體設備和材料產業發展,增強本土研發能力。 據日經亞洲(Nikkei Asia)9月...
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iPhone15或使用臺積電3nm芯片,A17性能大幅度提升?
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a17和驍龍8gen3參數對比 隨著移動設備市場的不斷發展,手機廠商們也在不斷推出新的產品,其中就有搭載不同處理器的手機。其中最為知名的是蘋果的A系列處...
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