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      標簽　>　euv光刻機

      euv光刻機

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      極紫外線光刻機是芯片生產工具，是生產大規模集成電路的核心設備，對芯片工藝有著決定性的影響。小于5納米的芯片晶圓，只能用EUV光刻機生產。2018年4月，中芯國際向阿斯麥下單了一臺EUV（極紫外線）光刻機，于2019年初交貨。

      文章：123個 瀏覽：15095次 帖子：0個

      euv光刻機技術

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      EUV光刻機被已經準備好了，各大企業的爭奪戰開始打響

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      2022-09-27 標簽：光刻技術量子計算機EUV光刻機 2877 0

      EUV薄膜容錯成本高 成芯片良率的關鍵

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      2023-09-14 標簽：單芯片cpu芯片光刻機 1080 0

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      目前，商用EUV光刻機采用激光等離子體型-極紫外（LPP-EUV）光源系統，主要由驅動激光器、液滴錫靶、收集鏡組成。

      2024-02-21 標簽：激光器濾波系統EUV光刻機 1067 0

      半導體光刻工藝 光刻—半導體電路的繪制

      半導體光刻工藝 光刻—半導體電路的繪制

      金屬-氧化物半導體場效應晶體管（MOSFET）的革命，讓我們可以在相同面積的晶圓上同時制造出更多晶體管。

      2023-07-27 標簽：MOSFET半導體場效應晶體管 905 0

      氦質譜檢漏儀 EUV ***檢漏

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      上海伯東客戶日本某生產半導體用光刻機公司, 光刻機真空度需要達到 1x10-11 pa 的超高真空, 因為設備整體較大, 需要對構成光刻機的真空相關部件...

      2023-06-02 標簽：EUVEUV光刻機氦質譜檢漏儀 758 0

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