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      標簽　>　euv光刻機

      euv光刻機

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      極紫外線光刻機是芯片生產工具，是生產大規模集成電路的核心設備，對芯片工藝有著決定性的影響。小于5納米的芯片晶圓，只能用EUV光刻機生產。2018年4月，中芯國際向阿斯麥下單了一臺EUV（極紫外線）光刻機，于2019年初交貨。

      文章：123個 瀏覽：15095次 帖子：0個

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      對于如今的半導體產業而言，EUV光刻機是打造下一代邏輯和DRAM工藝技術的關鍵所在，為了在未來的工藝軍備競賽中保持優勢，臺積電、三星和英特爾等廠商紛紛花...

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      2020-11-26 標簽：半導體光刻技術EUV光刻機 2676 0

      ASML為什么這么強大？

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      中芯國際EUV光刻機進入“全面開發階段”

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