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標簽 > euv光刻機

euv光刻機

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極紫外線光刻機是芯片生產工具,是生產大規模集成電路的核心設備,對芯片工藝有著決定性的影響。小于5納米的芯片晶圓,只能用EUV光刻機生產。2018年4月,中芯國際向阿斯麥下單了一臺EUV(極紫外線)光刻機,于2019年初交貨。

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三星EUV專利首次超過國外公司

在半導體工藝進入7nm之后,EUV光刻機就成為兵家必備大殺器了,全球也只有ASML公司能生產,單價達到10億人民幣一臺。不過在EUV技術上,ASML還真...

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對于主攻代工芯片的臺積電來說,擁有越多先進的光刻機,優勢就越大,當然訂單也就越多。

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 盡管EUV現在還存在各種障礙,但是其未來應用前景依然各方被看好。從長遠角度來看,發展EUV技術是非常必要的。對此,林雨指出:“自上世紀九十年代起,中國...

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消息稱臺積電花至少120億為明年生產下定13臺EUV光刻機

臺積電和三星均已投入5nm工藝的量產,前者代工的產品包括蘋果A14、M1、華為麒麟9000等,后者則包括Exynos 1080以及傳言中的驍龍875等。...

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