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標簽 > euv光刻機
極紫外線光刻機是芯片生產工具,是生產大規模集成電路的核心設備,對芯片工藝有著決定性的影響。小于5納米的芯片晶圓,只能用EUV光刻機生產。2018年4月,中芯國際向阿斯麥下單了一臺EUV(極紫外線)光刻機,于2019年初交貨。
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在制造芯片的過程中,光刻工藝無疑最關鍵、最復雜和占用時間比最大的步驟。光刻定義了晶體管的尺寸,是芯片生產中最核心的工藝,占晶圓制造耗時的40%到50%。...
IMEC和ASML研發低至1nm工藝的高分辨率EUV光刻技術
摩爾定律還沒有結束。日媒報道,由于新型冠狀病毒的傳播,近期日本ITF于11月18日在日本東京舉行了網上發布會。 IMEC公司首席執行官兼總裁Luc Va...
海思工程師成香餑餑!華為圍獵半導體人才?IC人才跳槽呈現哪些風向標
面臨美國制裁,華為海思一些項目無法開展,華為如何通過內聘渠道發揮他們最大才能?華為挖人給行業帶來哪些影響?科創板開啟后,芯片企業崛起,給IC人才的脫穎而...
作為半導體芯片生產過程中最重要的裝備,光刻機一直牽動人心。事實上,制程工藝越先進就要離不開先進光刻機。
ASML研發下一代EUV光刻機:分辨率提升70% 逼近1nm極限
一、2021年的交付量將是2019年的兩倍左右 據國外媒體報道,在推出兩代極紫外光刻機之后,阿斯麥公司又已在研發下一代極紫外光刻機,計劃2022年年初開...
近些年來EUV光刻這個詞大家應該聽得越來越多,三星在去年發布的Exynos 9825 SoC就是首款采用7nm EUV工藝打造的芯片,臺積電的7nm+也...
ASML研發第二代EUV光刻機的微縮分辨率、套準精度提升了70%
據韓媒報道稱,ASML正積極投資研發下一代EUV光刻機,與現有光刻機相比,二代EUV光刻機最大的變化就是High NA透鏡,通過提升透鏡規格使得新一代光...
當前半導體制程微縮到10納米節點以下,包括開始采用的7納米制程,以及未來5納米、3納米甚至2納米制程,EUV極紫外光光刻技術已成為不可或缺的設備。藉由E...
在光刻機領域,荷蘭ASML公司幾乎壟斷了全球高端光刻機市場,在EUV光刻機中更是獨一份,7nm及以后的工藝都要依賴EUV光刻機。在高科技領域,美國這一年...
盡管EUV現在還存在各種障礙,但是其未來應用前景依然各方被看好。從長遠角度來看,發展EUV技術是非常必要的。對此,林雨指出:“自上世紀九十年代起,中國...
臺灣地區科技部長陳良基9日表示,半導體為產業競爭力核心,臺積電10納米制程已進入量產,2年后將進入7納米,不到5年將進入3納米、2納米,屆時將面臨物理極...
推動科技進步的半導體技術真的會停滯不前嗎?這也不太可能,7nm工藝節點將開始應用EUV光刻工藝,研發EUV光刻機的ASML表示EUV工藝將會支持未來15...
進入10nm工藝節點之后,EUV光刻機越來越重要,全球能產EUV光刻機的就是荷蘭ASML公司了,他們總共賣出18臺EUV光刻機,總價值超過20億歐元,折...
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