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標簽 > euv光刻機
極紫外線光刻機是芯片生產工具,是生產大規模集成電路的核心設備,對芯片工藝有著決定性的影響。小于5納米的芯片晶圓,只能用EUV光刻機生產。2018年4月,中芯國際向阿斯麥下單了一臺EUV(極紫外線)光刻機,于2019年初交貨。
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EUV 光刻技術被視為先進半導體制造的最大瓶頸,但這些價值超過 1.5 億美元的工具是沒有光掩模的paperweights。一個恰當的比喻是,光掩模可以...
大多數人沒有意識到芯片制造是國家經濟的核心。通過閱讀您的書,EUV 的開發過程始于美國的英特爾,然后完全脫離了英特爾。一家荷蘭公司如何擁有這項關鍵的芯片...
IMEC和ASML研發低至1nm工藝的高分辨率EUV光刻技術
摩爾定律還沒有結束。日媒報道,由于新型冠狀病毒的傳播,近期日本ITF于11月18日在日本東京舉行了網上發布會。 IMEC公司首席執行官兼總裁Luc Va...
技術更先進,還能更快交付?于是一時間流言四起,有說“EUV光刻機已落后”的,也有說“我們差距又拉開了”。所以這家名不見經傳的公司做的產品到底怎樣?真的繞...
2023開年到現在,全球晶圓代工業不見了過去3年的光輝,走入了低谷,整體表現萎靡不振,特別是上半年,霸主臺積電的營收同樣下滑明顯,三星電子則更加慘淡。
郭明錤:蘋果高通3nm需求低于預期,ASML EUV訂單恐下調30%
郭明錤表示,最新調查指出,ASML可能顯著下調2024年EUV光刻機出貨量20%~30%,原因在于蘋果與高通的3nm芯片需求低于預期。目前Macbook...
ASML發貨第二臺High NA EUV光刻機,已成功印刷10nm線寬圖案
ASML公司近日宣布發貨了第二臺High NA EUV光刻機,并且已成功印刷出10納米線寬圖案,這一重大突破標志著半導體制造領域的技術革新向前邁進了一大步。
近日,光刻機巨頭ASML傳出可能因荷蘭政府的反移民政策傾向而考慮遷離本國的消息,這令業界嘩然。據悉,荷蘭政府為阻止這一可能發生的變故,已專門成立了由首相...
Aston 過程質譜應用于 EUV 極紫外光源鹵化錫原位定量
上海伯東日本 Atonarp Aston? 過程質譜分析儀通過快速, 可操作, 高靈敏度的分子診斷數據實現了更佳的反射板鍍錫層清潔, 并且 Aston?...
英特爾將在日本設立先進半導體研發中心,配備EUV光刻設備,支持日本半導體設備和材料產業發展,增強本土研發能力。 據日經亞洲(Nikkei Asia)9月...
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