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      標簽　>　euv

      euv

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      EUV光刻技術 - 即將在芯片上繪制微小特征的下一代技術 – 原來是預計在2012年左右投產。但是幾年過去了，EUV已經遇到了一些延遲，將技術從一個節點推向下一個階段，本單元詳細介紹了EUV光刻機，EUV光刻機技術的技術應用，EUV光刻機的技術、市場問題，國產euv光刻機發展等內容。

      文章：590個 瀏覽：85971次 帖子：0個

      euv資訊

      IBM、美光、應用材料、東京電子宣布合作建設 High-NA EUV 研發中心

      12 月 12 日消息，今天早些時候，紐約州長凱西?霍楚爾（Kathy Hochul ）宣布與 IBM、美光、應用材料、東京電子（東京威力科創）等半導體...

      2023-12-14 標簽：IBM光刻美光 490 0

      三星、SK集團董事長將拜訪ASML

      這是因為隨著全世界半導體制造企業展開asml euv設備訂單競爭，供不應求。該公司去年以每臺2500億韓元（1.89億美元）到3000億韓元（2.27億...

      2023-12-11 標簽：半導體制造EUVASML 654 0

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      2023-12-06 標簽：半導體EUV納米壓印 684 0

      三星曝光技術大進展！

      據報導，三星已主要客戶的部分先進 EUV 代工生產在線導入 EUV 光罩護膜。雖然三星也在 DRAM 生產線中采用 EUV 制程，但考慮到生產率和成本，...

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      英特爾與西門子合作推動制造及能源效率

      英特爾全球運營總監埃斯法賈尼（Keyvan Esfarjani） 表示：“英特爾對我們的擴張計劃抱有雄心勃勃的計劃，但我們將重點放在天然資源的效率性和零...

      2023-12-05 標簽：英特爾芯片技術EUV 573 0

      三星美國晶圓廠擴建！

      三星與當地政府簽訂開發協議，要求政府指定資源，并建立與場地開發和建筑施工活動審查、批準和檢查快速流程。三星暫時未公布新建計劃，有人猜測可能只是存儲材料庫...

      2023-11-25 標簽：晶圓廠EUV三星 1499 0

      世界上首次商用D1Beta一代DRAM的誕生

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      Micron的D1B DRAM打破了0.4 Gb/mm2的密度壁壘，對提升電子設備性能至關重要，包括移動電話和其他邊緣設備。

      2023-11-24 標簽：DRAM電子設備EUV 491 0

      可繞過EUV量產5nm！佳能CEO：納米壓印設備無法賣到中國！

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      雖然目前在光刻機市場，還有尼康和佳能這兩大供應商，但是這兩家廠商的產品主要都是被用于成熟制程芯片的制造，全球市場份額僅有10%左右，ASML一家占據了9...

      2023-11-23 標簽：存儲器光刻機EUV 1149 0

      高數值孔徑 EUV技術路線圖

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      高數值孔徑EUV 今年的大部分討論都集中在EUV的下一步發展以及高數值孔徑EUV的時間表和技術要求上。ASML戰略營銷高級總監Michael Lerce...

      2023-11-23 標簽：集成電路光刻技術EUV 690 0

      三星D1a nm LPDDR5X器件的EUV光刻工藝

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      ASML將每年投資1億歐元建設柏林工廠

      ASML總經理George Gomba表示：“在這里，勞動力也將會增加。”gomba表示，從2022年初開始增加了600名職員。該公司目前在首都地區擁有...

      2023-11-21 標簽：制造工廠EUVASML 489 0

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      關于高數值孔徑EUV和曲線光掩模等燈具的討論

      半導體芯科技編譯 來源：Silicon Semiconductor eBeam Initiative已完成第12屆年度eBeam Initiative杰...

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      在今年7月的法律中，臺積電財務長黃仁昭表示，大學每年的資本支出計劃都考慮到顧客今后數年間的需求及增長，指出了以下幾點。制定短期應對不確定、對人適當緊縮資...

      2023-10-17 標簽：臺積電EUVASML 621 0

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      1. 傳蘋果確認iPhone 16 系列將采用臺積電第二代3nm 工藝N3E ? 蘋果近日確認iPhone 16系列將采用臺積電第二代3nm工藝N3E。...

      2023-10-16 標簽：EUV 969 0

      各種光刻技術你都了解嗎？

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      當制程節點演進到5nm時，DUV和多重曝光技術的組合也難以滿足量產需求了，EUV光刻機就成為前道工序的必需品了，沒有它，很難制造出符合應用需求的5nm芯...

      2023-10-13 標簽：集成電路光刻機EUV 2077 0

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