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氮化鎵高電子遷移率晶體管GaN HEMT(High Electron Mobility Transistors)作為寬禁帶(WBG)功率半導體器件的代表...
Al2O3/AIN/AIGaN/GaN MIS-HEMT器件結構與特性
通過AlN柵介質層MIS-HEMT和Al2O3柵介質層MOS-HEMT器件對比研究發現,PEALD沉積AlN柵絕緣層可以大幅改善絕緣柵器件的界面和溝道輸...
類別:IC datasheet pdf 2022-03-31 標簽:場效應管HEMT 849 0
CG2H80015D氮化鎵(GaN)高電子遷移率晶體管(HEMT)規格書立即下載
類別:IC datasheet pdf 2024-09-04 標簽:晶體管氮化鎵HEMT 123 0
QPD1026L采用SiC HEMT的1300W(PsdB)分立GaN器件管英文手冊立即下載
類別:IC datasheet pdf 2024-07-31 標簽:GaNHEMT 82 0
HEMT(High Electron Mobility Transistor),高電子遷移率晶體管。這是一種異質結場效應晶體管,又稱為調制摻雜場效應晶體...
電子發燒友網報道(文/黃山明)氮化鎵高電子遷移率晶體管(GaN HEMT)作為新一代的半導體材料,因其禁帶寬度大、臨界擊穿電場高、飽和電子漂移速度高等特...
首款面向衛星通信應用的GaN HEMT MMIC高功率放大器(HPA)
科銳公司日前在巴爾的摩舉行的 2011 年 IEEE 國際微波研討會上展出業界首款面向衛星通信應用的 GaN HEMT MMIC 高功率放大器 (HPA)
RF GaN已被工業公司認可并成為主流。從知識產權的角度來看,美國和日本主導著整個RF GaN知識產權系統。
下一代GaN功率IC可以共同集成肖特基二極管和耗盡型HEMT
納米電子和數字技術研究與創新中心 Imec 在 2021 年國際電子器件會議(IEEE IEDM 2021)上展示了其最新研究成果。通過在基于 p 型氮...
Cambridge GaN Devices 在 2023 年 APEC 大會上展示電力電子裝置的可持續未來
3 月 19 日星期日至 3 月 23 日星期四,佛羅里達州奧蘭多橘郡會議中心 【2023年3月13日,英國劍橋訊】Cambridge GaN Devi...
Cambridge GaN Devices 推出第二代 ICeGaN ICs,在同類產品中擁有出色的穩健性、易用性和高效率
英國劍橋 - Cambridge GaN Devices (CGD) 是一家無晶圓廠環保科技半導體公司,開發了一系列高能效 GaN 功率器件,致力于打造...
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