顯示芯片制作工藝
顯示芯片制作工藝???
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顯示芯片的制造工藝與CPU一樣,也是用微米來衡量其加工精度的。制造工藝的提高,意味著顯示芯片的體積將更小、集成度更高,可以容納更多的晶體管,性能會更加強(qiáng)大,功耗也會降低。
和中央處理器一樣,顯示卡的核心芯片,也是在硅晶片上制成的。采用更高的制造工藝,對于顯示核心頻率和顯示卡集成度的提高都是至關(guān)重要的。而且重要的是制程工藝的提高可以有效的降低顯卡芯片的生產(chǎn)成本。目前的顯示芯片制造商中,NVIDIA公司已全面采用了0.13微米的制造工藝,就是其FX5900顯示核心之所以能集成一億兩千五百萬個晶體管的根本原因。而ATI公司主要還是在使用0.15微米的制造工藝,比如其高端的鐳9800XT和鐳9800 Pro顯卡,部分產(chǎn)品采用更先進(jìn)的0.13微米制造工藝,比如其鐳9600顯卡。
微電子技術(shù)的發(fā)展與進(jìn)步,主要是靠工藝技術(shù)的不斷改進(jìn),使得器件的特征尺寸不斷縮小,從而集成度不斷提高,功耗降低,器件性能得到提高。顯示芯片制造工藝在1995年以后,從0.5微米、0.35微米、0.25微米、0.18微米、0.15微米、0.13微米、0.11微米一直發(fā)展到目前最新的90納米,而未來則會以80納米作為一個過渡,然后進(jìn)一步發(fā)展到65納米。總的說來,顯示芯片在制造工藝方面基本上總是要落后于CPU的制造工藝一個時代,例如CPU采用0.13微米工藝時顯示芯片還在采用0.18微米工藝和0.15微米工藝,CPU采用90納米工藝時顯示芯片則還在使用0.13微米工藝和0.11微米工藝,而現(xiàn)在CPU已經(jīng)采用65納米工藝了而顯示芯片則剛進(jìn)入90納米工藝。
提高顯示芯片的制造工藝具有重大的意義,因為更先進(jìn)的制造工藝會在顯示芯片內(nèi)部集成更多的晶體管,使顯示芯片實(shí)現(xiàn)更高的性能、支持更多的特效;更先進(jìn)的制造工藝會使顯示芯片的核心面積進(jìn)一步減小,也就是說在相同面積的晶圓上可以制造出更多的顯示芯片產(chǎn)品,直接降低了顯示芯片的產(chǎn)品成本,從而最終會降低顯卡的銷售價格使廣大消費(fèi)者得利;更先進(jìn)的制造工藝還會減少顯示芯片的功耗,從而減少其發(fā)熱量,解決顯示芯片核心頻率提升的障礙.....顯示芯片自身的發(fā)展歷史也充分的說明了這一點(diǎn),先進(jìn)的制造工藝使顯卡的性能和支持的特效不斷增強(qiáng),而價格則不斷下滑,例如售價為1500左右的中端顯卡GeForce 7600GT其性能就足以擊敗上一代售價為5000元左右的頂級顯卡GeForce 6800Ultra。
采用更低制造工藝的顯示芯片也不是一定代表有更高的性能,因為顯示芯片設(shè)計思路也各不同相同,并不能單純已制造工藝來衡量其性能。最明顯的就是NVDIVA的GeForce FX5950和ATI的Radeon 9800XT,9800XT采用0.15微米制造工藝,而FX5950采用更為先進(jìn)的0.13微米制造工藝,但在性能表現(xiàn)上,Radeon 9800XT則要略勝一籌。
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