佳能將于2022年8月初發售KrF?※1半導體光刻機“FPA-6300ES6a”的“Grade10”產能升級配件包(以下簡稱“Grade10”升級包)。KrF半導體光刻機“FPA-6300ES6a
2022-06-13 19:10:113823 目前全球在光刻機制造領域比較領先的只有三家公司,分別為荷蘭的ASML和日本的佳能和尼康。截止2011年,ASML已經占到了全球光刻機市場的70以上的市場份額。在7nm和5nm制程領域,ASML是全球唯一一家可以生產相應光刻機的公司。換句話說,在最先進的光刻機生產領域,ASML達到了絕對壟斷的地步。
2021-01-04 11:30:523811 盡管ASML作為目前占據主導地位的光刻機廠商,憑借獨有的EUV光刻機一騎絕塵,主導著半數以上的市場份額,但這并不代表著其他光刻機廠商也就“聽天由命”了。以兩大國外光刻機廠商尼康和佳能為例,他們就仍在
2022-11-24 01:57:004865 身價格11480元,包含EF 24-105mm F4L IS USM鏡頭的套機售價是15700元。圖為:佳能單反相機EOS 6D2020萬有效像素的高像素全畫幅CMOS圖像感應器和處理性能相當于DIGIC 4
2012-12-04 09:35:15
請教各位老司機 佳能數碼相機芯片30442 功能跟SC901524差不多有這個參數芯片請聯系我 小弟在這里跪謝了
2016-11-23 15:43:44
`<font face="Verdana"><strong>全新佳能EOS 500D套機(含發票+佳能
2009-08-19 16:43:33
小弟想把佳能5d3的視頻改裝,有興趣的可以聯系qq:550556322,主要輸出到一個小LED上,保留HDMI輸出,計劃采用機頂的熱靴供電給外接LED,在取景器上有個視頻信號連接,在做個小型的LED做取景器。不知道我說明白了嗎?我是外行,如果真有感興趣的,聯系我,
2012-07-17 14:30:47
`光刻機MPA500FAb用光柵尺傳感器(掃描部位)供應。型號:SONY SR-721 150mm SCALE UNIT with HK-105C`
2020-01-31 18:04:14
的不斷提升,光刻機縮激光波長也在不斷的縮小,從436nm、365nm的近紫外(NUV)激光進入到246nm、193nm的深紫外(DUV)激光,現在DUV光刻機是目前大量應用的光刻機,波長是193nm
2020-07-07 14:22:55
!光刻機本身的原理,其實和相機非常相似,同學們可以把光刻機就想成是一臺巨大的單反相機。相機的原理,是被攝物體被光線照射所反射的光線,透過相機的鏡頭,將影像投射并聚焦在相機的底片(感光元件)上,如此便可
2020-09-02 17:38:07
`現在處理一批MA-1200光刻機的零件,有需要的朋友請直接聯系我:137-3532-3169`
2020-02-06 16:24:39
14nm工藝量產的計劃,中芯國際是在今年下半年量產,華虹是將在2020年量產,但制程工藝確實是要比臺積電等公司落后兩代以上。在芯片制造領域制約我國晶圓代工企業發展的,主要是兩大部件:“刻蝕機”與“光刻機
2019-08-10 14:36:57
本帖最后由 eehome 于 2013-1-5 09:52 編輯
海外canonrumors.com網站在昨天繼續針對佳能產品的新計劃進行持續爆料。他們認為佳能下一款應該會升級的產品應該是佳能
2012-12-09 17:44:59
如果國家以兩彈一星的精神投入光刻機的研發制造,結果會怎樣?
2020-06-10 19:23:14
本文專門談談這些年的使用過程中各款佳能a系列機型容易出現或者常見的故障及相應的解析 佳能a60、佳能a70,佳能a80、佳能a85、佳能a95 這些型號的顯示屏尺寸都沒有超過2英寸,有效像素都沒有
2010-12-31 09:14:38
我的打印機是佳能MP245,請問加墨水,用哪個牌子的好?
2012-06-13 15:53:55
我經常被問到一個問題,那就是設計一個最佳能量采集系統的訣竅是什么。在這篇博文中,我將討論在能量采集設計方面,設計出一個“熊”系統要比設計出一個“樹懶”系統更重要。能量采集系統的秘訣就是要與熊很相似
2022-11-18 07:21:44
請問論壇里有人研究過佳能自動對焦鏡頭的電路和協議嗎?最近我在研究,不知道有沒人一起交流下。
2017-10-20 12:23:18
據羊城晚報報道,近日中芯國際從荷蘭進口的一臺大型光刻機,順利通過深圳出口加工區場站兩道閘口進入廠區,中芯國際發表公告稱該光刻機并非此前盛傳的EUV光刻機,主要用于企業復工復產后的生產線擴容。我們知道
2021-07-29 09:36:46
光刻機的工作臺是一個六自由度的運動臺,其中X/Y向運動臺是的核心基礎工序。管控XY軸角度Yaw和Pitch,直線度Horizontal Straightness和Vertical
2023-02-20 15:49:07
佳能 PowerShot A530驅動下載.exe
佳能PowerShot A530基本參數
參數糾錯
2010-03-04 16:27:0932 GK-1000光刻掩膜版測溫儀,光刻機曝光光學系統測溫儀光刻機是一種用于微納米加工的設備,主要用于制造集成電路、光電子器件、MEMS(微機電系統)等微細結構。光刻機是一種光學投影技術,通過將光線通過
2023-07-07 11:46:07
佳能 PowerShot系列驅動下載6.2.3版For WinXP.exe
2010-03-30 15:24:569 佳能 A620驅動下載
2010-03-30 15:28:349 日本佳能全自動注液機
2009-10-20 15:25:001430 佳能鋰電池真假鑒別法
佳能NB-4L真假鑒別
4真假NB-4L電池外殼正面對比作為上市
2009-11-10 09:23:152698 佳能IS 佳能IS全稱Image Stabilizer
2009-12-18 16:31:57418 佳能單反400D數碼相機
佳能EOS 400D采用了佳能全新開發的EOS綜合除塵系統,這是一套包括抑制灰塵產生、積淀和去除的全面的應對感應器灰塵的有效
2009-12-18 16:51:361690 佳能EOS 7D樣片賞析與實測(下)
[EOS 7D外觀賞析]
佳能EOS 7D三圍約是148x110x74mm,體積比EO
2010-01-30 09:43:323640 佳能各種移軸鏡頭的特征和 適合拍攝的被攝體
佳能的移軸鏡頭中匯聚了焦距各異、頗具個性的鏡頭。要在當中選擇適
2010-02-01 11:40:503969 佳能IP系列廢墨清零/佳能傳真機清零大全
ip2200 1600 1200參考說明:此程序適用佳能IP系列機型:第一步:關閉打印機電源。并
2010-03-23 16:55:311301 佳能:A系列實用新機“A495”
一直以來,佳能PowerShot博秀A系列產品以其功能全面、性價比高的特點,深受攝影初學者和家庭用戶的鐘愛。現佳能A系
2010-04-03 09:09:011001 佳能醫療是最早進入數字X線成像領域的先驅之一,并一直以來是全球平板探測器行業的領軍者。佳能醫療在數字X線成像領域的領跑正是憑借其雄厚的技術和研發實力,以及在
2010-11-19 17:33:272155 佳能eos 500d單反使用
2012-05-10 15:55:2568 雖然關于佳能6D2的傳聞沒有斷過,而隨后佳能一直沒有發布這款機器,導致關于6D2的傳聞似乎變成了一個神話,但是近期的一則新聞指出,佳能很有可能在今年的9月份正式發布這款6D2,于此同時還會發布一款SL2相機,這款相機也就是傳聞中的佳能EOS 150D。此外,佳能85mm F1.4也有可能發布。
2017-05-09 16:07:321411 如果你想要入手一臺佳能的全畫幅相機,但是又想要可以任意翻轉角度和屏幕的顯示屏,那么現在值得你期待的好消息來了。根據一份來自佳能公司內部的報告顯示,在佳能即將推出的6D MK II單反相機新品上,我們將看到在佳能全畫幅單反上首次出現可翻轉的液晶顯示屏。
2017-05-31 13:00:173866 佳能或將于7月20日或21日召開新品發布會,并推出新款佳能EOS M20無反相機用以取代目前在售的EOS M10
2017-06-12 15:07:501539 下半年,佳能將以一款入門級全畫幅單反相機作為開始,這部新機就是即將于29日發布的佳能EOS 6D Mark II。
2017-06-22 10:49:0514147 下半年,佳能將以一款入門級全畫幅單反相機作為開始,這部新機就是即將于29日發布的佳能EOS 6D Mark II。
2017-06-23 08:59:569648 佳能最近的傳言還真不少,上周就傳言本周會發布EOS 6D Mark II,發布時間甚至被傳言為6月29日,不過最近關于佳能的消息又有了更新。最新消息顯示,佳能本周會發布三款機器,佳能EOS 6D
2017-06-27 11:51:294665 2017年6月29日,佳能(中國)有限公司在北京正式發布了多款新品相機,包括佳能EOS 6D Mark II(以下簡稱6D2)、佳能EOS 200D(以下簡稱200D)。
2017-06-29 15:47:402761 根據CR網站消息,佳能或于本月月底或者九月月初發布多款新的移軸鏡頭,此前也曾傳出過佳能要發布新品,但是沒有確切的照片為證,而此次外媒曝光了佳能正在進行鏡頭測試的照片,或許更加證實了佳能正在為新鏡頭發布做最后的準備。此次新的移軸鏡頭應該是目前佳能這幾支鏡頭的升級版,但具體是哪只目前還無法確認。
2017-08-08 16:20:421342 本文以光刻機為中心,主要介紹了光刻機的分類、光刻機的結構組成、光刻機的性能指標、光刻機的工藝流程及工作原理。
2017-12-19 13:33:01161176 根據美國商業專利數據庫顯示,佳能在2017年提交3285項專利,數量排名全美第三,事實上,作為美國專利提交榜單的前五名,佳能已經保持了32年。 佳能公司表示,專利數量說明了公司致力于開發新產品(除了
2018-01-14 05:54:12652 佳能EOS 77D是佳能在今年二月份發布的一款單反新品。從名稱上來看,也許會讓熟悉佳能的朋友有些困惑。
2018-08-29 09:50:0010927 光刻機的作用有多大,在這時候就體現出來了。即便是自己能夠研發出芯片了,但是沒有光刻機還是不能批量生產。并且就現在來說國際上的光刻機咱們國家大陸地區還是買不到的,似乎是在進行技術封鎖,這也就苦了華為這樣能夠自主研發芯片的公司。
2019-03-13 15:16:0720007 ,中國最好的光刻機廠商上海微電子裝備有限公司(SMEE)已經量產的光刻機中,性能最好的SSA600/20工藝只能達到90nm,相當于2004年上市的奔騰四CPU的水準。而國外的先進水平已經達到了7納米,正因如此,國內晶圓廠所需的高端光刻機完全依賴進口。
2020-03-18 10:52:1189226 光刻機是芯片制造的核心設備之一,作為目前世界上最復雜的精密設備之一,其實光刻機除了能用于生產芯片之外,還有用于封裝的光刻機,或者是用于LED制造領域的投影光刻機。目前,我國高端的光刻機,基本上是從荷蘭ASML進口的。
2020-03-18 11:12:0244388 作為芯片制造的核心設備之一,光刻機對芯片生產的工藝有著決定性影響。 據悉,光刻機按照用途可分為生產芯片的光刻機、封裝芯片的光刻機以及用于LED制造領域的投影光刻機。其中,生產芯片的High End
2020-06-15 08:05:54999 6月23日消息,佳能1將在2020年7月上旬發售半導體光刻機的新產品——面向后道工序的i線2步進式光刻機“FPA-8000iW”。該產品具備對應尺寸最大到515×510mm大型方形基板的能力以及1.0微米3的高解像力。
2020-06-29 14:58:053018 頂級光刻機有多難搞?ASML的光刻機,光一個零件他就調整了10年!拿荷蘭最新極紫外光EUV光刻機舉例,其內部精密零件多達10萬個,比汽車零件精細數十倍!
2020-07-02 09:38:3911513 1964年中國科學院研制出65型接觸式光刻機;1970年代,中國科學院開始研制計算機輔助光刻掩膜工藝;清華大學研制第四代分部式投影光刻機,并在1980年獲得成功,光刻精度達到3微米,接近國際主流水平。而那時,光刻機巨頭ASML還沒誕生。
2020-09-20 10:35:027124 光刻機又名:掩模對準曝光機,曝光系統,光刻系統等,是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術,把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。光刻機是半導體產業中最關鍵設備,光刻工藝決定了半導體線路的線寬,同時也決定了芯片的性能和功耗。
2020-09-30 16:17:135162 光刻機,在整個芯片生產制造環節,是最最最核心的設備,技術難度極高。在全球光刻機市場,日本的尼康、佳能,和荷蘭的ASML,就占據了市場90%以上份額。而最高級的EUV(極紫外光)技術,則更是只有荷蘭的ASML一家可以掌握。
2020-10-17 09:49:453450 最近光刻機十分火,我們經常聽到別人說7納米光刻機、5納米光刻機,但其實嚴格意義上來說并不存在7納米光刻機,5納米光刻機,我為什么會這樣說呢?
2020-10-19 11:42:5120305 大家都知道,ASML是光刻機市場的大巨頭,雖說在主流的光刻機上ASML是和日本尼康和佳能三分天下的,但是在EUV的光刻機上,這就只有靠著ASML才行。
2020-11-06 15:44:351781 只有荷蘭光刻機巨頭ASML能造,對此也有很多網友們感覺到非常疑惑,為何只有荷蘭ASML可以造頂尖EUV光刻機設備呢?像我國的上海微電子、日本的索尼、佳能都造不出來嗎?
2020-12-03 13:46:226379 日本佳能正通過光刻機加快搶占高功能半導體市場。佳能時隔7年更新了面向小型基板的半導體光刻機,提高了生產效率。在用于純電動汽車(EV)的功率半導體和用于物聯網的傳感器需求有望擴大的背景下,佳能推進支持多種半導體的產品戰略。目標是在三大巨頭壟斷的光刻機市場上確立自主地位。
2021-01-06 10:03:061540 日本光學設備制造巨頭佳能(Canon)正計劃靠提升光刻機的生產效率來搶占市場。按照計劃,今年3月份,佳能將時隔7年(自2013年來),面向市場推出新型光刻機“FPA-3030i5a”,這款新品較舊機型的生產效率提升了將近17%。
2021-01-06 15:47:073242 光刻機(圖源:日經中文網) 時隔7年,佳能更新了面向小型基板的半導體光刻機,該設備使用波長為365納米的“i線”光源,支持直徑從2英寸(約5厘米)到8英寸(約20厘米)的小型基板,生產效率較以往機型提高了約17%。 就工藝水平而言,佳能的這款新型光
2021-01-06 17:41:067868 日本的佳能曾經是最大的光刻機制造商之一,后來逐漸衰微。但佳能并沒有放棄光刻機業務。據日經中文網報道,佳能將于2021年3月發售新型光刻機“FPA-3030i5a”,用來搶占高功能半導體市場。
2021-01-07 09:03:223005 日本的佳能曾經是最大的光刻機制造商之一,后來逐漸衰微。但佳能并沒有放棄光刻機業務。據日經中文網報道,佳能將于2021年3月發售新型光刻機“FPA-3030i5a”,用來搶占高功能半導體市場。
2021-01-07 11:21:093152 FPA-3030i5a步進式光刻機的硬件和軟件已在其前代產品FPA-3030i5步進式光刻機(2012年6月發布)基礎上進行了升級,以幫助降低CoO。FPA-3030i5a繼承了FPA-3030i5的解像力,可以曝光0.35μm3的線寬圖案
2021-01-07 17:04:063492 近日,芯源微披露投資者關系活動記錄表指出,公司前道涂膠顯影機與國際光刻機聯機的技術問題已經攻克并通過驗證,可以與包括ASML、佳能等國際品牌以及國內的上海微電子(SMEE)的光刻機聯機應用。
2021-01-08 13:53:334683 在光刻機領域一家獨大的荷蘭光刻機巨頭ASML,占據著芯片行業的頂端,畢竟沒有了他們的設備,想要造出先進工藝制程的芯片是沒戲的。 財報披露,ASML2020年全年凈銷售額140億歐元,毛利率為48.6
2021-01-22 10:38:164677 根據芯思想研究院(ChipInsights)的數據表明,2020年全球集成電路、面板、LED用光刻機出貨約58臺,較2019年增加3臺。其中集成電路制造用光刻機出貨約410臺;面板、LED用光刻機出貨約170臺。
2021-02-24 16:56:1211120 光刻機,是現代光學工業之花,是半導體行業中的核心技術。 ? ? ? ?可能有很多人都無法切身理解光刻機的重要地位,光刻機,是制造芯片的機器,要是沒有了光刻機,我們就沒有辦法造出芯片,自然也就
2021-07-07 14:31:18125772 2021年6月8日至7月8日,佳能(中國)有限公司(以下簡稱“佳能”)剛剛結束了為期一個月的免費清潔保養系列活動。據悉,該活動覆蓋了全國180個城市的近300家佳能維修店,為近兩萬臺企業用戶
2021-07-14 15:27:471442 中國是目前世界上消費芯片最多的國家,每年的芯片進口額已超過了石油的進口額。雖然中國芯片行業也已經取得了小有成就,但在世界上還是處于落后的水平,芯片的落后少不了因為光刻機的原因,那么光刻機的難度究竟在在哪里呢?
2022-01-03 17:16:004756 刻蝕機不能代替光刻機。光刻機的精度和難度的要求都比刻蝕機高出很多,在需要光刻機加工的時候刻蝕機有些不能辦到,并且刻蝕機的精度十分籠統,而光刻機對精度的要求十分細致,所以刻蝕機不能代替光刻機。
2022-02-05 15:47:0039915 光刻膠是光刻機研發的重要材料,換句話說光刻機就是利用特殊光線將集成電路映射到硅片的表面,如果想要硅片的表面不留下痕跡,就需要網硅片上涂一層光刻膠。
2022-02-05 16:11:0011281 光刻機是芯片制造的核心設備之一。目前有用于生產的光刻機,有用于LED制造領域的光刻機,還有用于封裝的光刻機。光刻機是采用類似照片沖印的技術,然后把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
2022-02-05 16:03:0085813 光刻機又被稱為掩膜對準曝光機,在芯片生產中用于光刻工藝,而光刻工藝又是生產流程中最關鍵的一步,所以光刻機又是芯片生產中不可缺少的設備,總得來說光刻機是用來制造芯片的。
2022-02-06 07:25:0029436 佳能MX498及佳能E488多功能一體打印機的維修手冊,維修利器
2022-03-14 15:31:539 佳能正在開發用于半導體3D技術的光刻機。
2022-04-01 16:36:5911569 佳能將于2022年8月初發售KrF※1半導體光刻機“FPA-6300ES6a”的“Grade10”產能升級配件包(以下簡稱“Grade10”升級包)。KrF半導體光刻機“FPA-6300ES6a
2022-06-14 09:14:112006 眾所周知,光刻機一直處于壟斷地位,在光刻機領域,最有名的就是ASML公司了。
2022-07-04 11:21:15288332 中國芯的進步那是有目共睹,我國在光刻機,特別是在EUV光刻機方面,更是不斷尋求填補空白的途徑。
2022-07-05 10:38:3516742 三星電子和ASML就引進今年生產的EUV光刻機和明年推出高數值孔徑極紫外光High-NA EUV光刻機達成采購協議。
2022-07-05 15:26:155634 光刻機是制作芯片并不可少的重要工具,大家都知道,光刻機技術幾乎被荷蘭ASML所壟斷,那么全球最先進的光刻機是多少nm的?中國現在又能夠做出幾nm的芯片呢?
2022-07-06 10:07:15247354 光刻機是芯片制造的核心設備之一。目前世界上最先進的光刻機是荷蘭ASML的EUV光刻機。
2022-07-06 11:03:077000 大家都知道,芯片制造的核心設備之一就是光刻機了。現在,全球最先進的光刻機是荷蘭ASML的EUV光刻機,那么euv光刻機目前幾納米呢? 到現在,世界上最先進的光刻機能夠實現5nm的加工。也就是荷蘭
2022-07-10 11:17:4242766 說到芯片,估計每個人都知道它是什么,但說到光刻,許多人可能不知道它是什么。光刻機是制造芯片的機器和設備。沒有光刻機的話,就無法生產芯片,因此每個人都知道光刻機對芯片制造業的重要性。那么euv光刻機
2022-07-10 11:42:276977 光刻機是大規模集成電路生產的核心設備,它能夠制造和維護需要高水平的光學和電子產業基礎,全球只有少數制造商掌握了這一基礎。 光刻機的作用是對芯片晶圓進行掃描曝光,對集成電路進行蝕刻。精度更高的光刻機
2022-07-10 14:35:066173 光刻機和euv光刻機區別是是什么呢? duv光刻機和euv光刻機區別 1.基本上duv只能做到25nm,而euv能夠做到10nm以下晶圓的生產。 2. duv主要使用的是光的折射原理,而euv使用的光的反射原理,內部必須是真空操作。 以上就是duv光刻機和euv光刻機區別了,現在基本都是euv光刻機
2022-07-10 14:53:1078127 euv光刻機原理是什么 芯片生產的工具就是紫外光刻機,是大規模集成電路生產的核心設備,對芯片技術有著決定性的影響。小于5 nm的芯片只能由EUV光刻機生產。那么euv光刻機原理是什么呢? EUV
2022-07-10 15:28:1015099 等多項先進技術。 是半導體行業技術含量最高的設備。 光刻機在芯片制作中扮演著很重要的角色。在加工芯片的時候,光刻機會通過光源能量、形狀控制手段,讓光束透射過畫著線路圖的掩膜,能夠把線路圖縮小然后映射在硅片上,最后用化
2022-07-10 16:34:403116 來源:佳能集團 通過技術與數據優勢,提升光刻機的生產效率 佳能將于2022年9月5日起發售解決方案平臺“Lithography Plus1”服務(以下簡稱“Lithography Plus”),該系
2022-09-06 17:01:491195 廠商尼康和佳能為例,他們就仍在堅持開發并擴展自己的光刻機業務。 尼康 尼康的光刻機產品陣容比較全面,包括ArF浸沒式掃描光刻機、ArF步進掃描光刻機、KrF掃描光刻機、i線步進式光刻機和FPD面板光刻機,基本涵蓋了除EUV以外的主流光刻機
2022-11-24 07:10:033222 來源:佳能 通過100X100mm超大視場曝光 實現大型高密度布線封裝的量產 ? 佳能將于2023年1月上旬發售面向后道工藝的半導體光刻機新產品——i線※1步進式光刻機“FPA-5520iV LF2
2022-12-08 17:48:46982 來源:佳能 佳能于3月13日發售面向前道工序的半導體光刻機新產品----i線※1步進式光刻機“FPA-5550iX”,該產品能夠同時實現0.5μm(微米※2)高解像力與50×50mm大視場曝光
2023-03-14 17:25:02599 來源:中國半導體論壇 編輯:感知芯視界 Link 10月13日消息,日本佳能宣布推出新型光刻設備:FPA-1200NZ2C納米壓印半導體制造設備! 受此消息影響,納米壓印概念股午后走高,匯創達午后
2023-10-17 11:07:23230 雖然目前在光刻機市場,還有尼康和佳能這兩大供應商,但是這兩家廠商的產品主要都是被用于成熟制程芯片的制造,全球市場份額僅有10%左右,ASML一家占據了90%的市場份額,并壟斷了尖端的EUV光刻機的供應。
2023-11-23 16:14:45486 來源:DIGITIMES ASIA 佳能預計其納米壓印光刻機將于今年出貨,與ASML的EVU設備競爭市場,因為世界各地的經濟體都熱衷于擴大其本土芯片產能。 佳能董事長兼首席執行官Hiroaki
2024-02-01 15:42:05270 壓印光刻技術NIL在這條賽道上備受關注,是最有機會率先應用落地的技術路線。 ? 今年早些時候,根據英國金融時報的報道,負責監督新型光刻機開發的佳能高管武石洋明在接受采訪時稱,采用納米壓印技術的佳能光刻設備FPA-1200NZ2C目標最快在
2024-03-09 00:15:002918
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