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比SiC及GaN更為出色的性能 - 氧化鎵制造功率元件,比SiC更出色?

2012年04月18日 08:47 本站整理 作者:秩名 用戶評(píng)論(0

  比SiC及GaN更為出色的性能

  Ga2O3是金屬鎵的氧化物,同時(shí)也是一種半導(dǎo)體化合物。其結(jié)晶形態(tài)截至目前(2012年2月)已確認(rèn)有α、β、γ、δ、ε五種,其中,β結(jié)構(gòu)最穩(wěn)定。與Ga2O3的結(jié)晶生長(zhǎng)及物性相關(guān)的研究報(bào)告大部分都使用β結(jié)構(gòu)。我們也使用β結(jié)構(gòu)展開(kāi)了研發(fā)。

  β-Ga2O3具備名為“β-gallia”的單結(jié)晶構(gòu)造。β-Ga2O3的帶隙很大,達(dá)到4.8~4.9eV,這一數(shù)值為Si的4倍多,而且也超過(guò)了SiC的3.3eV 及GaN的3.4eV(表1)。一般情況下,帶隙大的話,擊穿電場(chǎng)強(qiáng)度也會(huì)很大(圖1)。β-Ga2O3的擊穿電場(chǎng)強(qiáng)度估計(jì)為8MV/cm左右,達(dá)到Si的20多倍,相當(dāng)于SiC及GaN的2倍以上。

  

  

  圖1:擊穿電場(chǎng)強(qiáng)度大

  帶隙越大,擊穿電場(chǎng)強(qiáng)度就越大。β-Ga2O3的擊穿電場(chǎng)強(qiáng)度為推測(cè)值。

  β-Ga2O3在顯示出出色的物性參數(shù)的同時(shí),也有一些不如SiC及GaN的方面,這就是遷移率和導(dǎo)熱率低,以及難以制造p型半導(dǎo)體。不過(guò),我們認(rèn)為這些方面對(duì)功率元件的特性不會(huì)有太大的影響。

  之所以說(shuō)遷移率低不會(huì)有太大問(wèn)題,是因?yàn)楣β试男阅芎艽蟪潭壬先Q于擊穿電場(chǎng)強(qiáng)度。就β-Ga2O3而言,作為低損失性指標(biāo)的“巴利加優(yōu)值(Baliga’s figure of merit)”與擊穿電場(chǎng)強(qiáng)度的3次方成正比、與遷移率的1次方成正比。因此,巴加利優(yōu)值較大,是SiC的約10倍、GaN的約4倍。

  一般情況下,導(dǎo)熱率低的話,很難使功率元件在高溫下工作。不過(guò),工作溫度再高也不過(guò)200~250℃,因此實(shí)際使用時(shí)不會(huì)有問(wèn)題。而且封裝有功率元件的模塊及電源電路等使用的封裝材料、布線、焊錫、密封樹(shù)脂等周邊構(gòu)件的耐熱溫度最高也不過(guò)200~250℃程度。因此,功率元件的工作溫度也必須要控制在這一水平之下。

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