據外國媒體報道，荷蘭微影設備廠ASML今天宣布，三星公司已同意向ASML投資5.03億歐元(約合6.29億美元)，獲得該公司3%股權。此外，三星承諾在未來5年將向ASML公司投資2.76億歐元(約合3.45億美元)，支持ASML研發下一代微影技術。

三星跟隨英特爾和臺積電 5億歐元注資ASML公司

此前，臺積電和英特爾公司已宣布分別以8.38億歐元和33億歐元收購ASML公司5%和15%股權。同時，臺積電公司承諾在未來5年向ASML投入2.76億歐元，用于ASML的研發計劃。

ASML公司之前曾邀英特爾、臺積電和三星等公司加入由其創建的“客戶聯合投資專案”。ASML客戶聯合投資專案包括合作研發基金計劃，加速 18寸半導體及EUV微影技術開發，同時也釋出最多25%股權讓客戶入股，以做為未來18寸半導體及EUV微影設備推出后的交貨保證。 截止到目前為止，ASML已經完成13.8億歐元的研發融資目標。

目前包括三星、英特爾等幾乎主要半導體生產商都在其芯片中使用由ASML公司設計和研發的系統。ASML公司表示，“客戶聯合投資專案”的最終目標是為消費者創造更小、更強、更節能和更低廉的電子設備。

ASML聲稱：EUV設備最快會在2016年推出

電子發燒友網訊：光刻設備廠商ASML Holding NV的CEO Eric Meurice 宣稱該公司已經投入到下一代元紫外線光刻技術(EUV)設備的研發中，同時保證其生產能力能夠達到客戶的需求。

大部分廠家認為EUV光刻是實現微型化電路的必備技術，這項技術已經研發了差不多十年，但目前仍然被其低功率光源困擾。

Meurice在一個討論公司第二季度的財報的財務分析的會議上提到，他們會提供更多EUV的信息，以便公司更深入了解其將推出的商用EUV設備NXE:300。這是頭11部相關工藝開發的設備，能夠處理300mm直徑的晶圓。

但短期內ASML對生產能力進行太多的承諾，Meurice聲稱到年底的時候，每個小時加工的晶圓或許只有70片，但目前已經有規劃，到2014年每小時的盛長亮可以達到70片，而到2016，這個數字會上升到125。當客戶需要450mm的加工設備時，可以增加10%的價格，從而由ASML獲得相對應的產品，Meurice強調。

Meurice繼續說到ASML總共有11臺NXE:3300提供訂購，但目前來說這些設備在2013年前都未能夠交付給客戶。他繼續說到首臺設備會在十月或十一月在ASML組裝完成。

2013年推出的 NXE:3300系統只能用來發展制作工藝技術，但給ASML在當年帶來大概8億歐元的收益。

Meurice說道，為EUV所尋找的適合光源已經在鑒定一段時間了，同時供應商已經多次證明50瓦特光源和概念上是105瓦特的光源已經在實驗室試驗中得到確認。他繼續強調，到2014年這些會給平臺帶來每小時70片晶圓的產能，而兩年后這個數字就會上升到125。

NXE:3300在原地的實驗必須確認這點，同時Meurice聲稱公司到下一個夏天會確認這些發展路線。

這種發展的觀點使我們得到了顧客的認可，從而購買了四臺額外的NEE:3300系統，這樣的話，總共就有15臺設備在準備，到2014年，它們將會是首批能夠工作在EUV的半導體設備。

ASML的高管繼續確認額外的四臺NXE：3300設備是被一家DRAM廠家預定，同時他們正在和另外的DRAM廠家洽談，以賣出更多的設備，這些都會在2014年交付。與此同時，他們正與一個邏輯方面的公司洽談更多的設備提供，這估計會在2015年移交。Meurice聲稱，他們正在籌劃14/12/11nm節點的產品，因為無論在任何地方，14/12/11mm的產品都會被當做同一類型的工藝。

當被問到NEX:3300的最初產能是多少的時候，Meurice解析道頭11部機器并沒有行相關的規定。但以后的設備會有一個固定的限制，

我們能看到的最小差能是每小時30片，如果我們在第一步機器面前碰到問題，例如耗費更多工作去穩固控制機構，這通常會花費兩三個月甚至半年的時間，這樣的話我們怎么去要求生產能力從30片每小時發展到70。